一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备制造方法及图纸

本发明专利技术涉及集成电路设计领域，特别涉及一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备。本发明专利技术提供的一种提高掩模版图辅助图形一致性方法，包括以下步骤：获取初始掩模版图上的辅助图形；基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退；若能回退，则基于预设第二约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除；若能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第一权重；若不能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第二权重；基于第一权重和第二权重计算获得所有辅助图形的优先级，并基于优先级依次处理辅助图形以获得一致性较好的辅助图形。本发明专利技术还提供一种装置及计算机设备。解决了辅助图形在清理后一致性差的问题。一致性差的问题。一致性差的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备


[0001]本专利技术涉及集成电路设计领域，特别涉及一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备。

技术介绍

[0002]光刻技术是用于制造超大规模集成电路的核心技术之一。光刻分辨率决定了集成电路的特征尺寸。随着电路图形的特征尺寸不断减小，实际产生的图形很容易产生严重形变，必须要通过一些辅助手段来提高光刻的分辨率，而亚分辨率辅助图形(S ub
‑
Re s o luti o nAs s i stF e ature s，S RAF)就是其中一种有效手段。
[0003]获得原始的辅助图形后，存在清理(c l e anup)的过程。因为辅助图形不能够被印到硅片上，所以会有一些诸如长，宽，面积，距离的限制，而原始的辅助图形有极大可能不符合要求，我们需要将这些冲突解决掉。而现有技术中，完成对辅助图形的清理后，输出的辅助图形一致性较差。

技术实现思路

[0004]为了解决辅助图形在清理后一致性差的问题，本专利技术提供一种提高掩模辅助图形一致性方法。
[0005]本专利技术为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种提高掩模版图辅助图形一致性方法，包括以下步骤：
[0006]获取初始掩模版图上的辅助图形；
[0007]基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退；
[0008]若能回退，则基于预设第二约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除；
[0009]若能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第一权重；若不能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第二权重；
[0010]基于第一权重和第二权重计算获得所有辅助图形的优先级，并基于优先级依次处理辅助图形以获得一致性较好的辅助图形。
[0011]优选地，基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退包括：
[0012]获取辅助图形和其相邻辅助图形之间的最近距离；
[0013]判断该最近距离是否小于预设第一约束值；若是，则判定辅助图形能回退其相邻辅助图形。
[0014]优选地，基于预设第二约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除包括：
[0015]将相邻辅助图形的边进行回退获得回退图形，回退图形和辅助图形之间的最近距离的等于预设第一约束值；
[0016]获取回退图形最长边的边长，并判断其边长是否小于预设第二约束值；
[0017]若是，则判定辅助图形能删除其相邻辅助图形。
[0018]优选地，基于第一权重和第二权重计算之前进一步包括：
[0019]获取辅助图形和其所有相邻辅助图形之间的权重关系，权重关系包括权重方向和权重数量；判定辅助图形指向相邻辅助图形的权重方向为出边权重，相邻辅助图形指向辅助图形的权重方向为入边权重；其中权重数量包括第一权重和第二权重。
[0020]优选地，基于第一权重和第二权重计算包括：基于第一权重和第二权重通过预设公式计算获取辅助图形的优先级；
[0021]所述预设公式为：P＝W 1
‑
W 2
×
2；
[0022]其中，P表示辅助图形的优先级，W 1表示辅助图形所有的出边权重的和，W 2表示辅助图形所有的入边权重的和。
[0023]优选地，基于优先级依次处理所有辅助图形包括：
[0024]基于优先级数值的大小进行排序；
[0025]获取优先级最大的辅助图形并基于预设第二约束值判断其相邻辅助图形能否被删除；若能，则删除相邻辅助图形；若否，则对相邻辅助图形进行回退；
[0026]完成回退或删除处理后重新计算辅助图形的优先级，并重复上述获取优先级最大的辅助图形并对其相邻辅助图形进行处理的过程。
[0027]优选地，基于优先级依次处理所有辅助图形之前进一步包括：
[0028]获取初始掩模版图上的掩模图形；
[0029]获取优先级最大的辅助图形与掩模图形之间的最近距离值，并按照最近距离值的大小进行排序；
[0030]依照最近距离值从小到大的次序对所有优先级最大的辅助图形进行处理。
[0031]优选地，依照优先级从大到小的次序对所有辅助图形进行删除或回退处理之后进一步包括：若辅助图形与其相邻辅助图形优先级数值大小相同，则将辅助图形和其相邻辅助图形进行合并或删除。
[0032]本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种装置，应用于上述提高掩模辅助图形一致性方法，所述装置包括：
[0033]识别模块：用于获取初始掩模版图上的辅助图形；
[0034]检测模块：用于判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退，或，判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除；
[0035]计算模块：用于基于第一权重和第二权重计算获得所有辅助图形的优先级；
[0036]处理模块：用于基于优先级依次处理辅助图形；
[0037]输出模块：用于输出处理后的辅助图形。
[0038]本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机设备，应用于上述提高掩模辅助图形一致性方法，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行上述计算机程序以实现所述提高掩模辅助图形一致性方法。
[0039]与现有技术相比，本专利技术所提供的一种提高掩模辅助图形一致性方法、装置及计算机设备，具有如下的有益效果：
[0040]1.本专利技术实施例提供的一种提高掩模版图辅助图形一致性方法，包括以下步骤：
获取初始掩模版图上的辅助图形；基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退；若能回退，则基于预设第二约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除；若能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第一权重；若不能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第二权重；基于第一权重和第二权重计算获得所有辅助图形的优先级，并基于优先级依次处理辅助图形以获得一致性较好的辅助图形。通过建立辅助图形和其相邻辅助图形之间的权重关系，其中权重关系包括第一权重和第二权重，再基于权重关系获取到相邻辅助图形间的优先级，基于优先级的次序来处理所有的辅助图形，避免出现上述清理过程中对辅助图形的处理顺序很难保证其一致性，造成清理后得到保留的辅助图形一致性差的问题。
[0041]2.如权利要求1的提高掩模辅助图形一致性方法，其特征在于：基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退包括：获取辅助图形和其相邻辅助图形之间的最近距离；判断该最近距离是否小于预设第一约束值；若是，则判定辅助图形能回退其相邻辅助图形。通过将最近距离与第一约束值做比较，相比于现有技术中仅识别两相邻辅助图形短边之间的距离，本实施例所提供的方法更为精准地判定出辅助图形和其相邻辅助图形之间是否存在冲突。
[0042]3.如权利要求1的提高掩模辅助图形一致性方法，其特征在于：基于预设第二约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高掩模版图辅助图形一致性方法，其特征在于：包括以下步骤：获取初始掩模版图上的辅助图形；基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退；若能回退，则基于预设第二约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除；若能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第一权重；若不能删除，则建立辅助图形指向相邻辅助图形的第二权重；基于第一权重和第二权重计算获得所有辅助图形的优先级，并基于优先级依次处理辅助图形以获得一致性较好的辅助图形。2.如权利要求1所述的提高掩模辅助图形一致性方法，其特征在于：基于预设第一约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行回退包括：获取辅助图形和其相邻辅助图形之间的最近距离；判断该最近距离是否小于预设第一约束值；若是，则判定辅助图形能回退其相邻辅助图形。3.如权利要求2所述的提高掩模辅助图形一致性方法，其特征在于：基于预设第二约束值判断辅助图形能否对其相邻辅助图形进行删除包括：将相邻辅助图形的边进行回退获得回退图形，回退图形和辅助图形之间的最近距离的等于预设第一约束值；获取回退图形最长边的边长，并判断其边长是否小于预设第二约束值；若是，则判定辅助图形能删除其相邻辅助图形。4.如权利要求1所述的提高掩模辅助图形一致性方法，其特征在于：基于第一权重和第二权重计算之前进一步包括：获取辅助图形和其所有相邻辅助图形之间的权重关系，权重关系包括权重方向和权重数量；判定辅助图形指向相邻辅助图形的权重方向为出边权重，相邻辅助图形指向辅助图形的权重方向为入边权重；其中权重数量包括第一权重和第二权重。5.如权利要求4所述的提高掩模辅助图形一致性方法，其特征在于：基于第一权重和第二权重计算包括：基于第一权重和第二权重通过预设公式计算获取辅助图形的优先级；所述预设公式为：P＝W 1
‑
W 2
×
2；其中，P表示辅助图形的优先级，W 1表示辅助图...

【专利技术属性】
技术研发人员：季鹏飞，丁明，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：