一种浸入式光刻设备制造技术

本发明专利技术公开了一种浸入式光刻设备，具体涉及光刻设备技术领域，包括置物外框，所述置物外框的底部设有定位机构，所述定位机构的底端固定安装有支撑底座，所述定位机构的一侧设有电机，所述置物外框、定位机构的中部设有排液组件，所述置物外框的一侧设有干燥组件，本发明专利技术，通过设置置物外框、定位机构，配合使用排液组件，对硅片进行夹持定位，从而提升后续硅片浸入式光刻的稳定性，且可对置物外框中的液体介质进行热传导冷却，防止光刻时，液体介质升温出现气泡，影响硅片浸入式光刻的质量，以及硅片光刻完毕后，解除定位的同时，并置物外框中的排空液体介质，从而便于后续光刻后硅片的干燥以及卸料。干燥以及卸料。干燥以及卸料。

【技术实现步骤摘要】
一种浸入式光刻设备


[0001]本专利技术涉及光刻设备
，具体为一种浸入式光刻设备。

技术介绍

[0002]光刻工艺是通过曝光的方法将掩膜上的图形转移到硅片表面的光刻胶上，相对于传统的光刻设备，浸入式光刻设备有着独有的优势；传统的光刻设备曝光时，光束直接打在光刻胶上，而浸入式光刻设备在光源和光刻胶之间添加了一层液体介质，光束通过液体介质进行折射之后再打到光刻胶上，折射后的光束变细，有效地提高了光刻胶表面图形的分辨率，也可以将更复杂的图形通过这种方法转移到硅片表面的光刻胶上。
[0003]传统的浸入式光刻设备在具体使用时仍存在一些问题：由于浸入式光刻设备使用时，需要将硅片浸入液体介质中进行光刻，硅片的放入定位和拿取都不够方便，且硅片光刻完毕后，需要单独进行干燥处理，比较麻烦，为此，我们提出一种浸入式光刻设备用于解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种浸入式光刻设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种浸入式光刻设备，包括置物外框，所述置物外框的底部设有定位机构，所述定位机构的底端固定安装有支撑底座，所述定位机构的一侧设有电机，所述置物外框、定位机构的中部设有排液组件，所述置物外框的一侧设有干燥组件。
[0006]优选地，所述定位机构包括转动外框，所述转动外框的外侧顶部一体成型有环形阵列分布的多个卡滑框，所述卡滑框固定安装在置物外框的底端，所述卡滑框固定安装在支撑底座的顶端，所述卡滑框中均滑动卡设有卡滑块，所述转动外框中转动卡设有和卡滑块配合使用的驱动环，所述驱动环的上表面一体成型有平面螺纹凸起，多个所述卡滑块的下表面开设有和平面螺纹凸起配合使用的平面螺纹凹槽，且平面螺纹凸起活动卡接在平面螺纹凹槽中。
[0007]优选地，多个所述卡滑块的相背端均垂直安装有连接杆，多个所述连接杆的顶部相对侧均固定安装有定位架，所述置物外框上一体成型有和定位架对应的滑穿框，所述定位架滑动卡接在对应滑穿框中，所述定位架远离连接杆的一侧均延伸进置物外框中，多个所述定位架的相对侧顶端均固定安装有定位块，多个所述滑穿框的相对侧和定位架外壁之间固定安装有密封套。
[0008]优选地，所述定位块的外侧固定套设有防护套。
[0009]优选地，所述转动外框的底部开设有环槽，所述环槽中活动卡设有齿环，所述齿环固定套接在驱动环的外侧，所述电机的一侧固定安装有机架，所述机架固定安装在转动外框的底端，所述电机的驱动端固定安装有驱动齿轮，所述驱动齿轮和齿环啮合连接。
[0010]优选地，所述置物外框的底端中部开设有和排液组件对应的排液穿槽，所述排液组件包括排液外环和排液卡柱，所述排液外环固定卡接在排液穿槽中，所述排液卡柱活动卡接在排液外环的中部，所述排液卡柱的外侧一体成型有限位凸条，所述排液外环的内侧开设有和限位凸条配合使用的限位纵槽，所述限位凸条滑动卡接在对应的限位纵槽中，所述排液外环的外侧开设有均匀分布的多个排液槽，所述排液卡柱的顶端固定安装有封板，所述封板的外径尺寸大于排液外环的外径尺寸，所述封板的下表面设有密封垫，所述密封垫和置物外框的内下壁接触。
[0011]优选地，所述排液组件还包括排液外管，所述置物外框的底端中部开设有排液外管对应的密封卡槽，所述排液外管的顶部滑动卡接在密封卡槽中，所述排液外管的外侧一体成型有外架，所述外架固定安装在驱动环的内侧，所述排液外管的内侧一体成型有内架，所述内架的中部一体成型有内螺筒，所述排液卡柱的底端同轴固定安装有和内螺筒配合使用的螺杆，所述螺杆螺纹安装在内螺筒中。
[0012]优选地，所述驱动环、内螺筒同轴心设置。
[0013]优选地，所述干燥组件包括干燥顶框和干燥底框，所述干燥顶框和干燥底框，所述干燥顶框和干燥底框均设为中空结构，所述干燥顶框和干燥底框均设为弧形结构，所述干燥顶框和干燥底框关于定位架上下对称分布，所述干燥顶框和干燥底框的相对端内侧均设为倾斜结构，所述干燥顶框和干燥底框的相对端内侧均固定卡设有喷头，所述干燥顶框和干燥底框的外侧均一体成型有连通卡管，所述连通卡管固定卡接在置物外框中，所述连通卡管远离干燥顶框的一侧均延伸出置物外框的外侧，所述连通卡管远离干燥顶框的一侧均一体成型有连接头，两个所述连接头之间固定安装有连接总管。
[0014]优选地，所述置物外框中开设有冷却腔，所述置物外框的外侧顶部固定卡设有进液管，所述置物外框的外侧底部固定卡设有排液管。
[0015]与现有技术相比，本专利技术的有益效果在于：1.通过设置置物外框、定位机构，配合使用排液组件，对硅片进行夹持定位，从而提升后续硅片浸入式光刻的稳定性，且可对置物外框中的液体介质进行热传导冷却，防止光刻时，液体介质升温出现气泡，影响硅片浸入式光刻的质量，以及硅片光刻完毕后，解除定位的同时，并置物外框中的排空液体介质，从而便于后续光刻后硅片的干燥以及卸料；2.通过设置干燥组件，当硅片浸入式光刻完毕且置物外框中液体介质排空后，开启干燥风机构，干燥风体通过连接总管、连接头、连通卡管进入对应的干燥顶框和干燥底框中，并通过多个喷头向硅片上下表面倾斜喷出，对定位架上的硅片直接进行上下表面倾斜同步干燥，便于后续硅片的继续加工处理。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本专利技术结构示意图，图2为本专利技术中置物外框和定位机构的结构连接示意图，
图3为本专利技术图2中A处的放大图，图4为本专利技术图2中B处的放大图，图5为本专利技术中置物外框和排液组件的结构连接示意图，图6为本专利技术图5中C处的放大图，图7为本专利技术中置物外框和干燥组件的结构连接示意图，图8为本专利技术中置物外框和干燥组件的另一结构连接示意图。
[0018]图中：1、置物外框；2、定位机构；3、支撑底座；4、电机；41、机架；5、排液组件；6、干燥组件；11、进液管；12、排液管；21、转动外框；22、卡滑框；23、卡滑块；24、驱动环；25、连接杆；26、定位架；27、滑穿框；28、定位块；281、防护套；29、密封套；211、环槽；210、齿环；2101、驱动齿轮；101、排液穿槽；102、密封卡槽；103、冷却腔；51、排液外环；511、限位纵槽；512、排液槽；52、排液卡柱；521、限位凸条；53、封板；54、密封垫；55、排液外管；551、外架；56、内架；57、内螺筒；58、螺杆；61、干燥顶框；62、干燥底框；63、喷头；64、连通卡管；65、连接头；66、连接总管。
具体实施方式
[0019]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种浸入式光刻设备，包括置物外框（1），其特征在于：所述置物外框（1）的底部设有定位机构（2），所述定位机构（2）的底端固定安装有支撑底座（3），所述定位机构（2）的一侧设有电机（4），所述置物外框（1）、定位机构（2）的中部设有排液组件（5），所述置物外框（1）的一侧设有干燥组件（6）。2.根据权利要求1所述的一种浸入式光刻设备，其特征在于：所述定位机构（2）包括转动外框（21），所述转动外框（21）的外侧顶部一体成型有环形阵列分布的多个卡滑框（22），所述卡滑框（22）固定安装在置物外框（1）的底端，所述卡滑框（22）固定安装在支撑底座（3）的顶端，所述卡滑框（22）中均滑动卡设有卡滑块（23），所述转动外框（21）中转动卡设有和卡滑块（23）配合使用的驱动环（24），所述驱动环（24）的上表面一体成型有平面螺纹凸起，多个所述卡滑块（23）的下表面开设有和平面螺纹凸起配合使用的平面螺纹凹槽，且平面螺纹凸起活动卡接在平面螺纹凹槽中。3.根据权利要求2所述的一种浸入式光刻设备，其特征在于：多个所述卡滑块（23）的相背端均垂直安装有连接杆（25），多个所述连接杆（25）的顶部相对侧均固定安装有定位架（26），所述置物外框（1）上一体成型有和定位架（26）对应的滑穿框（27），所述定位架（26）滑动卡接在对应滑穿框（27）中，所述定位架（26）远离连接杆（25）的一侧均延伸进置物外框（1）中，多个所述定位架（26）的相对侧顶端均固定安装有定位块（28），多个所述滑穿框（27）的相对侧和定位架（26）外壁之间固定安装有密封套（29）。4.根据权利要求3所述的一种浸入式光刻设备，其特征在于：所述定位块（28）的外侧固定套设有防护套（281）。5.根据权利要求2所述的一种浸入式光刻设备，其特征在于：所述转动外框（21）的底部开设有环槽（211），所述环槽（211）中活动卡设有齿环（210），所述齿环（210）固定套接在驱动环（24）的外侧，所述电机（4）的一侧固定安装有机架（41），所述机架（41）固定安装在转动外框（21）的底端，所述电机（4）的驱动端固定安装有驱动齿轮（2101），所述驱动齿轮（2101）和齿环（210）啮合连接。6.根据权利要求2所述的一种浸入式光刻设备，其特征在于：所述置物外框（1）的底端中部开设有和排液组件（5）对应的排液穿槽（101），所述排液组件（5）包括排液外环（51）和排液卡柱（52），所述排液外环（51）固定卡接在排液穿槽（101）中，所述排液卡柱（52）活动卡接在排液外环（51）的中部，...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋延标，李文强，马泽斌，李靖亮，
申请(专利权)人：江苏永鼎光电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：