支撑转移装置、基板的转移方法以及固化系统制造方法及图纸

本公开实施例提供一种支撑转移装置、基板的转移方法以及固化系统。该支撑转移装置包括承载台；多个支撑组件，所述支撑组件包括顶针，所述顶针包括支撑杆以及与所述支撑杆的一端连接的支撑部，所述支撑组件被配置为相对于所述承载台移动以使得所述支撑部与待处理基板接触并将所述待处理基板转移至所述承载台；其中，所述支撑杆内部具有第一气流通道，所述第一气流通道被配置为供气体流通，以对所述支撑部进行温度调节。该支撑转移装置可以对顶针进行降温，防止顶针接触待处理基板时由于局部过热造成基板表面液体流平效果差。热造成基板表面液体流平效果差。热造成基板表面液体流平效果差。

【技术实现步骤摘要】
支撑转移装置、基板的转移方法以及固化系统


[0001]本公开涉及显示
，尤其涉及一种支撑转移装置、基板的转移方法以及固化系统。

技术介绍

[0002]在显示面板等产品的生产工艺中，需要采用固化工艺对液体材料进行固化以形成特定结构，例如封装组件的有机层、显示面板中的平坦化层等。上述膜层材料多为液态，采用涂布、喷涂、旋涂、打印等方式形成于平面的基板上，流平后通过固化工艺形成相应的膜层结构。
[0003]然而，目前待处理基板，特别是减薄过的待处理基板上通过流平固化工艺形成的膜层，多存在局部平整度较差的问题。因此，目前的支撑转移装置及转移方法、光固化系统仍有待改进。

技术实现思路

[0004]本公开实施例提供一种支撑转移装置及光固化系统，以解决或缓解相关技术中的一项或更多项技术问题。
[0005]作为本公开实施例的第一个方面，本公开实施例提供支撑转移装置，包括：
[0006]承载台；
[0007]多个支撑组件，支撑组件包括顶针，顶针包括支撑杆以及与支撑杆的一端连接的支撑部，支撑组件被配置为相对于承载台移动以使得支撑部与待处理基板接触并将待处理基板转移至承载台；
[0008]其中，支撑杆内部具有第一气流通道，第一气流通道被配置为供气体流通，以对支撑部进行温度调节。
[0009]在一个实施例中，承载台具有与顶针相对应的通孔，支撑组件被配置为相对于承载台朝向第一方向移动以使得顶针穿过通孔与待处理基板接触，并相对于承载台朝向与第一方向相反的方向移动以将待处理基板转移至承载台，第一方向为自支撑组件朝向承载台上方的方向。
[0010]在一个实施例中，支撑部具有与第一气流通道连通的气孔，第一气流通道中的气体通过气孔排出。
[0011]在一个实施例中，支撑部具有多个气孔，多个气孔均匀设置于支撑部。
[0012]在一个实施例中，支撑部包括金属基体，以及位于金属基体外表面的防静电层。
[0013]在一个实施例中，顶针满足以下条件的至少之一：
[0014]第一气流通道的内径为1mm
‑
3mm；
[0015]支撑部可拆卸地固定于支撑杆的一端。
[0016]在一个实施例中，支撑装置还包括：
[0017]底座，底座设置有用于固定支撑杆的凹槽，顶针的远离支撑部的一端通过磁吸作
用固定于凹槽内，底座还设置有与凹槽连通的第二气流通道，第二气流通道的一端与第一气流通道连通，第二气流通道的另一端通过流量调节阀与供气管路连通。
[0018]在一个实施例中，该支撑转移装置还包括支撑板，支撑板位于承载台的下方，支撑组件均匀布置在支撑板的朝向所承载台的一侧表面上，底座的材质包括磁铁。
[0019]作为本公开的第二个方面，提出了一种基板的转移方法，该方法应用于前面的支撑转移装置，方法包括：
[0020]控制多个支撑组件相对于承载台朝向第一方向移动，使得顶针的支撑部与待处理基板接触并支撑待处理基板，第一方向为自支撑组件朝向承载台上方的方向；
[0021]控制多个支撑组件相对于承载台朝向与第一方向相反的方向移动，以将待处理基板放置在承载台上；
[0022]其中，在支撑部未与待处理基板接触时，向支撑杆的第一气流通道内供入气体以对支撑部进行温度调节。
[0023]作为本公开的第三个方面，提出了一种固化系统，其包括腔室和前面的支撑装置。
[0024]上述概述仅仅是为了说明书的目的，并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外，通过参考附图和以下的详细描述，本公开进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。
附图说明
[0025]在附图中，除非另外规定，否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解，这些附图仅描绘了根据本公开的一些实施方式，而不应将其视为是对本公开范围的限制。
[0026]图1为根据本公开一个实施例的支撑转移装置的结构示意图；
[0027]图2为根据本公开一个实施例的顶针的结构示意图；
[0028]图3为根据本公开一个实施例的顶针的支撑部结构示意图；
[0029]图4为根据本公开一个实施例的底座的结构示意图；
[0030]图5为根据本公开一个实施例的顶针的结构示意图。
[0031]附图标记说明：
[0032]100
‑
承载台；110
‑
通孔；200
‑
支撑柱；300
‑
顶针；320
‑
支撑杆；330
‑
支撑部；331
‑
金属基体；332
‑
防静电层；10
‑
气孔；310
‑
底座；311
‑
第一孔；312
‑
第二孔；314
‑
密封圈；313
‑
流量调节阀；400
‑
支撑板。
具体实施方式
[0033]在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本公开的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例，不同的实施例在不冲突的情况下可以任意结合。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。
[0034]在本公开的第一方面，本公开提出了一种支撑转移装置。参考图1，该支撑转移装置包括承载台100以及多个支撑组件，该支撑组件包括顶针300。参考图2，顶针300包括支撑杆320以及与支撑杆320的一端连接的支撑部330。如图1中所示出的，多个顶针300位于承载
台100的一侧，并被配置为相对于承载台100移动以使得支撑部与待处理基板接触并将待处理基板转移至承载台。支撑杆320内部具有第一气流通道，第一气流通道被配置为供气体流通，以对支撑部330进行温度调节。
[0035]该支撑转移装置可以利用前述第一气流通道对顶针进行控温管理，从而可缓解甚至解决由于顶针支撑部过热，而导致的承载台上待处理基板表面液体物料厚度不均的问题。由此，可令具有该支撑转移装置的固化系统等工艺设备具有控温精确、液体流平固化效果好，形成的膜层厚度更加均一等优点的至少之一。
[0036][0037]为了方便理解，下面首先对该支撑转移装置能够实现上述有益效果的原理进行简单说明：
[0038]如前，在显示领域，当制备平坦化层、薄膜封装组件中的有机层等结构时，需要将液体物料通过包括但不限于旋涂、喷涂、刮涂等工艺形成于待处理基板上并流平，随后进入光固化工艺阶段对液体原料进行固化，最终形成固化膜层。上述过程中通常采用支撑转移装置实现待处理基板的转移操作：利用机械手将待处理基板放置于凸出于承载台承载面的顶针上之后，令顶针下降，将待处理基板置于承载台表面，然后进行下一步处理工艺，例如光固化工艺等。当光固化工艺进程结束后，顶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种支撑转移装置，其特征在于，包括：承载台；多个支撑组件，所述支撑组件包括顶针，所述顶针包括支撑杆以及与所述支撑杆的一端连接的支撑部，所述支撑组件被配置为相对于所述承载台移动以使得所述支撑部与待处理基板接触并将所述待处理基板转移至所述承载台；其中，所述支撑杆内部具有第一气流通道，所述第一气流通道被配置为供气体流通，以对所述支撑部进行温度调节。2.根据权利要求1所述的支撑转移装置，其特征在于，所述承载台具有与所述顶针相对应的通孔，所述支撑组件被配置为相对于所述承载台朝向第一方向移动以使得所述顶针穿过所述通孔与待处理基板接触，并相对于所述承载台朝向与所述第一方向相反的方向移动以将所述待处理基板转移至所述承载台，所述第一方向为自所述支撑组件朝向所述承载台上方的方向。3.根据权利要求1所述的支撑转移装置，其特征在于，所述支撑部具有与所述第一气流通道连通的气孔，所述第一气流通道中的气体通过所述气孔排出。4.根据权利要求3所述的支撑转移装置，其特征在于，所述支撑部具有多个所述气孔，多个所述气孔均匀设置于所述支撑部。5.根据权利要求1所述的支撑转移装置，其特征在于，所述支撑部包括金属基体，以及位于所述金属基体外表面的防静电层。6.根据权利要求1所述的支撑转移装置，其特征在于，所述支撑转移装置满足以下条件的至少之一：所述第一气流通道的内径为1mm
‑
3mm；所述支撑部可拆卸地固定于所述支撑杆的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：张堉彬，张文睿，王大伟，孙泉钦，罗瑞玺，修瑞棋，李志伟，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：