在大规模集成”能产生射线的装置“中，使用磁场部件控制单一”能产生射线的装置“发出的射线的方向，可以使得集成的”能产生射线的装置“可以具有相同的材质和物理结构和外形、发出的射线可以垂直于同一平面的情况下，使用磁场部件将这些集成的”能产生射线的装置“发出的射线都射向同一个指定的点。的射线都射向同一个指定的点。
【技术实现步骤摘要】
使用磁场控制大规模集成射线装置中单一射线装置射线方向的方法
[0001]本专利技术涉及引发核聚变反应和对核聚变能的利用。
技术介绍
[0002]引发核聚变反应、高压振荡电路，大规模集成电路。
技术实现思路
[0003]在大规模集成”能产生射线的装置“中，使用磁场部件控制单一”能产生射线的装置“发出的射线的方向，可以使得集成的”能产生射线的装置“可以具有相同的材质和物理结构和外形、发出的射线可以垂直于同一平面的情况下，使用磁场部件将这些集成的”能产生射线的装置“发出的射线射向一个指定的点，这个方法不同于“通过调整”能产生射线的装置“角度或内部部件结构或内部部件角度的方法使集成的”能产生射线的装置“发出的射线射向一个指定的点”，可以有效的降低制造大规模集成”能产生射线的装置“的难度和成本。
[0004]假设一个”能产生射线的装置“直径是100纳米，可以在一片12吋的晶圆集成超过7万亿个”能产生射线的装置“，如果通过制造每个”能产生射线的装置“物理结构不同，比如某个部件的角度不同，使得超过7万亿个”能产生射线的装置“发出的射线指向同一点，制造难度和成本会非常高。
[0005]假设一个”能产生射线的装置“直径是100纳米，可以在一片12吋的晶圆集成超过7万亿个”能产生射线的装置“，如果通过制造每个”能产生射线的装置“物理结构相同，通过调整”能产生射线的装置“角度，使得超过7万亿个”能产生射线的装置“发出的射线指向同一点，制造难度和成本会非常高。
[0006]假设一个”能产生射线的装置“直径是100纳米，可以在一片12吋的晶圆集成超过7万亿个”能产生射线的装置“，如果通过磁场部件调整每个”能产生射线的装置“射出射线的方向，使得超过7万亿个”能产生射线的装置“发出的射线指向同一点，那么在12吋晶圆上制作的超过7万亿个”能产生射线的装置“可以具有相同的物理结构和相同的方向，这样在一个平面上制造几万亿个结构相同和方向相同的”能产生射线的装置“难度会变得很低，成本也会很低。
[0007]在大规模集成”能产生射线的装置“中给每个”能产生射线的装置“都配置一个磁场部件用于调整这个”能产生射线的装置“发出的射线射向指定的点。
[0008]使用像”像显像管类似的偏转线圈“，通过指定各个线圈的电流或电压或电流密度确定偏转线圈产生的磁场状态，使得大规模集成”能产生射线的装置“其中的某一”能产生射线的装置“发出的射线在经过偏转线圈磁场时射向到指定的方向。
[0009]给大规模集成”能产生射线的装置“的每一个”能产生射线的装置“都配置一个磁场部件，在这些”能产生射线的装置“发出的射线经过配置给的磁场部件时会使射线射向指
定的点，这个射向向的点同时也是这些集成的”能产生射线的装置“发出的射线经过配置的磁场部件时会使射线射向的指定的点。
[0010]给大规模集成”能产生射线的装置“的每一个”能产生射线的装置“都配置一个”像显像管类似的偏转线圈“部件，在这些”能产生射线的装置“发出的射线经过配置的”像显像管类似的偏转线圈“部件时会使射线射向指定的点，这个指向的点同时也是这些集成的”能产生射线的装置“发出的射线经过配置的”像显像管类似的偏转线圈“部件时会使射线射向的指定的点。
[0011]给在大规模集成”能产生射线的装置“中的每一个”能产生射线的装置“配置一个磁场部件或”像显像管类似的偏转线圈“部件，目的是为了使这些大规模集成的”能产生射线的装置“所发出的射线都能射向同一个指定的点。
[0012]使用磁场反射和磁场折射高压振荡电路发出的非射向指定方向的射线到指定方向上，使得高压振荡电路在指定方向上的射线更多并具有更高的能量。
[0013]使用磁场反射和磁场折射能发出射线电路发出的非射向指定方向的射线到指定方向上，使得能发出射线电路在指定方向上的射线更多并具有更高的能量。
[0014]本公开所说的”像显像管类似的偏转线圈“可以是由多个线圈磁场组合而成。
[0015]本公开认为大规模集成的”能产生射线的装置“使用相同物理结构，通过调整”能产生射线的装置“的角度来实现这些集成的”能产生射线的装置“发出的射线射向同一个点的方法，制造困难成本高。
[0016]本公开认为大规模集成的”能产生射线的装置“使用不同物理结构，例如通过改变”能产生射线的装置“内某个部件的角度或材质来实现这些集成的”能产生射线的装置“发出的射线射向同一个点的方法，制造困难成本高。
[0017]本公开所说的射线，包括各种频率的光线，或者各种放射性核素，或者原子、电子、中子等粒子在能量交换过程中发射出的、具有特定能量的粒子束或光子束流。
附图说明
[0018]图1：具体实施方式用图。
[0019]A1：发射激光的部件。
[0020]A2：发射激光的部件。
[0021]A3：发射激光的部件。
[0022]A4：发射激光的部件。
[0023]A5：发射激光的部件。
[0024]A6：发射激光的部件。
[0025]A7：发射激光的部件。
[0026]A8：发射激光的部件。
[0027]A9：发射激光的部件。
[0028]B1：和显示管类似的偏转线圈，可以偏转经过线圈的射线。
[0029]B2：和显示管类似的偏转线圈，可以偏转经过线圈的射线。
[0030]B3：和显示管类似的偏转线圈，可以偏转经过线圈的射线。
[0031]B4：和显示管类似的偏转线圈，可以偏转经过线圈的射线。
[0032]B5：和显示管类似的偏转线圈，可以偏转经过线圈的射线。
[0033]B6：和显示管类似的偏转线圈，可以偏转经过线圈的射线。
[0034]B7：和显示管类似的偏转线圈，可以偏转经过线圈的射线。
[0035]B8：和显示管类似的偏转线圈，可以偏转经过线圈的射线。
[0036]B9：和显示管类似的偏转线圈，可以偏转经过线圈的射线。
[0037]图2：具体实施方式用图。
[0038]A1：发射激光的部件。
[0039]A2：发射激光的部件。
[0040]A3：发射激光的部件。
[0041]A4：发射激光的部件。
[0042]A5：发射激光的部件。
[0043]A6：发射激光的部件。
[0044]A7：发射激光的部件。
[0045]A8：发射激光的部件。
[0046]A9：发射激光的部件。
[0047]C1：由磁性材料构成的柱体，可以对其进行特定的磁化，形成特定的磁场。
[0048]C2：由磁性材料构成的柱体，可以对其进行特定的磁化，形成特定的磁场。
[0049]C3：由磁性材料构成的柱体，可以对其进行特定的磁化，形成特定的磁场。
[0050]C4：由磁性材料构成的柱体，可以对其进行特定的磁化，形成特定的磁场。
[0051]C5：由磁性材料构成的柱体，可以对其本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.通过类似显像管的的偏转线圈部件，把大规模集成的具有相同物理结构相同朝向的“能发出射线的装置”发出的射线会聚到一个指定的点的方...
【专利技术属性】
技术研发人员：何世鸿，
申请(专利权)人：何世鸿，
类型：发明
国别省市：
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