基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置，其能够在确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。在搬运辊所支承的基板（Ｂ）的主面上，使清洗刷部（２２１、２２２）的毛束（５０）的前端（５０Ｈ）成为从该毛束（５０）延伸的方向沿基板（Ｂ）的主面而向一个方向弯曲的状态，而使该前端（５０Ｈ）与基板（Ｂ）的主面滑动接触。在该姿势下，前端（５０Ｈ）与基板（Ｂ）的表面滑动接触的同时，该清洗刷部（２２１）沿与基板搬运方向垂直并与基板表面平行的方向往复移动，从而清洗搬运中的基板表面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在液晶显示装置(LCD)、等离子显示器(PDP)、半导体装置等的制造过程中对LCD或者PDP用玻璃基板、半导体基板、印刷电路板等例如进行清洗处理等的各种处理的基板处理装置。
技术介绍
一直以来，在LCD或者PDP用玻璃基板等的基板制造生产线上，在使用了如蚀刻处理等的药液的特定的处理装置之后设置有基板清洗机构，进行将残留在基板表面的薄膜或颗粒等的异物清洗除去的工作。作为具有这样的基板清洗机构的基板处理装置，例如，如专利文献1所示，提出了如下装置向通过辊式输送机等的搬运装置搬运的基板供给纯水等的处理液的同时，使圆筒状的辊式刷与该基板表面接触。另外，如专利文献2所示，还提出了一种清洗装置，其在所搬运的基板的上表面侧以及下表面侧按规定间隔配置多个棒状刷，通过使棒状刷在垂直于基板搬运方向的方向上往复运动，从而除去基板上的尘埃等。专利文献1JP特开平9-326377号公报；专利文献2JP特开平10-34090号公报。但是，上述专利文献1所示的基板处理装置，因为使用辊式刷清洗基板，所以制作具备大型尺寸的基板的清洗所要求的精度的辊式刷很困难。即，伴随着基板大型化，与基板的搬运方向垂直并在水平方向上延伸的辊式刷的长度变长，所以，因基板自身的重量而在长度方向的中央部分附近产生弯曲，将基板和辊式刷的间隔保持一定变得困难，制作基板和辊式刷的间隔保持一定的清洗机构不是容易的。上述专利文献2所示的清洗装置的情况下，若在清洗刷毛束的前端所形成的平面不均匀，就不能使清洗刷与基板的主面均匀的滑动接触，但使清洗刷毛束的前端的平面均匀在加工上困难。另外，通过这样的由垂直于基板表面的姿势构成的棒状刷，要确保充分的清洗性能，就必须加大对基板表面的按压力，因此在基板搬运时，有可能由该按压力对基板搬运产生障碍，或者使基板蜿蜒而行地进行搬运。而且，需要以上述清洗刷前端的平面和基板主面平行的状态来按压清洗刷，但随着基板大型化，与基板的搬运方向垂直并沿水平方向延伸的清洗刷长度变长，因基板自身的重量而在长度方向的中央部附近易产生弯曲，因此在使在清洗刷的长度方向上使清洗刷不向上下倾斜，而将基板和清洗刷的间隔保持一定的状态下，将清洗刷主体按压在基板主面上，要求精度高而变得困难。
技术实现思路
本专利技术是为解决上述问题而提出的，其目的在于提供一种基板处理装置，其能够确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。本专利技术(1)所记载的基板处理装置，包括支承基板的支承装置；清洗刷，其具有底座、和由从该底座延伸的多个毛构成的毛束；滑动接触装置，其在上述支承装置所支承的基板的主面上，使上述清洗刷的毛束的前端部从该毛束延伸的方向沿着上述基板的主面向一个方向弯曲了的状态下，而使该前端部与上述基板的主面滑动接触。(9)所记载的专利技术，是一种基板处理方法，在使由从清洗刷的底座延伸的多个毛构成的毛束的前端部，以沿着上述基板的主面的方式向一个方向弯曲的状态下，使上述前端部与上述基板的主面滑动接触而对基板进行处理。在这些的结构中，清洗刷的毛束的前端部，在以沿基板的主面的方式弯曲的状态下与基板的主面滑动接触。因此，这样在弯曲的状态的清洗刷毛束的前端部，由于作用有要返回笔直状态的应力，所以清洗刷毛束的前端部向着基板的主面侧加载。该结果是，即使例如清洗刷毛束的前端部形成的平面不均一，还有，由于清洗刷的长条化，因清洗刷自身的重量而在清洗刷的长度方向中央部附近产生弯曲，在清洗刷的长度方向上清洗刷多少有些向上下倾斜，也可以使清洗刷毛束的前端部相对于基板主面均一的滑动接触。另外，(2)所记载的专利技术，是如(1)所记载的基板处理装置，上述清洗刷成为在第一方向上延伸的棒状，还具有在与上述第一方向交叉的第二方向上将上述基板相对于上述清洗刷进行相对搬运的搬运装置，相对于通过上述搬运装置而沿着上述第二方向相对于上述清洗刷被相对搬运的上述基板的主面，上述滑动接触装置，使上述清洗刷的毛束的前端部向着上述基板的相对搬运方向的下游侧而弯曲的状态下，使上述清洗刷沿着上述第一方向往复移动，同时，与上述基板的主面滑动接触。根据该结构，相对于沿第二方向而相对于清洗刷进行相对搬运的基板的主面，使清洗刷毛束的前端部朝向基板的相对搬运方向的下游侧而弯曲的状态下，使该清洗刷沿第一方向进行往复移动的同时与基板的主面滑动接触，因此即使由于清洗刷的长条化，在清洗刷的长度方向上清洗刷多少有些上下倾斜，在使清洗刷毛束的前端部相对于基板主面均一滑动接触的状态下，也可以使清洗刷沿上述第一方向往复运动。(3)所记载的专利技术，是如(2)所记载的基板处理装置，上述滑动接触装置，以上述清洗刷的毛束的前端部朝向上述基板的相对搬运方向的下游侧的方式，使上述清洗刷倾斜而支承着该清洗刷，同时，使上述清洗刷与上述基板的主面滑动接触。根据该结构，以不阻碍基板的相对搬运方向的方式配置清洗刷，因此即使处于使清洗刷与基板的主面滑动接触状态，也可以顺利的搬运基板。另外，(4)所记载的专利技术，是如(2)或(3)所记载的基板处理装置，沿着上述第二方向，并列配置有多个上述清洗刷。根据该结构，通过沿着上述第二方向的多个清洗刷的并列设置，由清洗刷部连续进行基板表面的污垢的扫去，而提高对基板的主面的清洗能力。另外，(5)所记载的专利技术，是如(3)或(4)所记载的基板处理装置，在上述支承装置所支承的上述基板的两个主面侧上，分别配置多个上述清洗刷。根据该结构，通过在上述基板的两边的主面侧配置多个清洗刷，从而提高清洗刷部对基板两边的主面的清洗能力。另外，(6)所记载的专利技术，是如(5)所记载的基板处理装置，在上述支承装置所支承的上述基板的两个主面侧上相互对向配置多个上述清洗刷，并且，以在上述支承装置上没有支承上述基板时、该对向配置的上述各清洗刷的前端部相互接触的方式配置上述各清洗刷，同时，在上述支承装置上没有支承上述基板时，通过上述滑动接触装置使对向配置的上述各清洗刷的前端部相互滑动接触。根据该结构，在支承装置没有支承基板的状态下，使上述各清洗刷的前端部相互接触，滑动接触装置使相对向配置的上述各清洗刷的前端部相互滑动接触，而使两边的清洗刷部的毛束前端部彼此相互摩擦，由此，清洗各清洗刷的两边的毛束前端。另外，(7)所记载的专利技术，是如(1)至(6)中任一项所记载的基板处理装置，上述清洗刷的毛束的前端部形成的平面，成为朝向毛束应被弯曲的一个方向而与上述支承装置所支承的上述基板的主面接近的倾斜面。根据该结构，在处于清洗刷毛束相对于基板的主面滑动接触而弯曲的状态时，清洗刷前端部从侧面看扩展为扇形状，因此作用于基板的主面的毛的根数增加，清洗效率提高。例如，若清洗刷毛束的前端没有被斜切，则清洗刷毛束与基板的主面滑动接触时毛层叠，位于毛束的弯曲部分的上侧的毛没有作用于基板的主面，但根据上述结构，可以减少产生这样的情况。此外，(8)所记载的专利技术，是如(1)至(7)中任一项所记载的基板处理装置，还具有处理液供给装置，该处理液供给装置向着处于与上述基板的主面滑动接触而弯曲的状态的上述清洗刷的毛束的前端部供给处理液。另外，(10)所记载的专利技术，是如(9)所记载的基板处理方法，向处于与上述基板的主面滑动接触而弯曲的状态的上述清洗刷的毛束的前端部供给处理液。根据这些的结构，通过向清本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，包括：支承基板的支承装置；清洗刷，其具有底座、和由从该底座延伸的多个毛构成的毛束；滑动接触装置，其在上述支承装置所支承的基板的主面上，使上述清洗刷的毛束的前端部从该毛束延伸的方向沿着上述基板的主面向一个方向弯曲了的状态下，而使该前端部与上述基板的主面滑动接触。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山本悟史，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]