【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】控制方法和高速流体注射系统
技术介绍
[0001]发展的市场对产物的需求以及更为多产工艺的实施,为改进容器制造行业的工艺效率开辟出了新的领域。如今,在此行业有着最大改进潜力的生产工艺可能是在如本体和盖的容器部件上应用流体的工艺。大多数应用的流体是由被应用在部件的表面上的固体产物在有机或水性溶剂中的分散体所组成的粘合剂、密封剂或清漆。
[0002]在这些工艺中,在将液态的流体应用到部件出表面上后,溶剂挥发并在部件的表面上留下固体产物或干提取物,其为用于视作去除溶剂后余留的流体部分的名称。例如,在密封剂的情形之下,干提取物的体积在容器的密闭中余留的自由空间上具有着影响:过量的干提取物会妨碍适当的密闭,而不足的量可能会导致容器的内容物泄漏或被污染。因此,所应用的密封剂的干提取物体积被认为是确保容器密闭完整性的关键参数。
[0003]为了满足具体的干提取物体积要求,一方面必须考量流体本身的参数,例如密度和溶剂:固体产物的比例;但是,尤其地必须注意应用在各零件或部件的表面上的液体流体的量。
[0004]为了有效率和有利润,在例如盖的容器部件上应用流体,尤其地是应用密封剂的工艺,需要大量生产和高工艺能力。准确的应用流体的量是得到根据规格的盖的关键。
[0005]通常地,在这些应用工艺中,使用有着一个或多个注射设备的静止式或旋转式流体注射机器,所述设备将毫克数量级的密封流体应用到在生产线中高速移动的一个或多个零件上。
[0006]在静止式机器中,注射器或多个注射器是固定的,而盖子按设定的方式移动,在相应的时间余留在应 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于高速流体注射系统(1)的控制方法,包括:多个流体注射器(2),各流体注射器(2)包括在第一关闭位置和第二打开位置(V)之间可移动的阀元件(3),其中,可以单独控制各所述阀元件(3)的第二打开位置(V)以调节由各所述流体注射器(2)所注射的流量(Q);流体供给装置(4),被配置为用于向多个所述流体注射器(2)供应加压流体;多个流量计(5),其中各流量计(5)关联到流体注射器(2),且其中各流量计(5)被配置为用于测量由其关联到的所述流体注射器(2)所注射的所述流体的所述流量(Q);第一控制设备(6),被配置为用于接收各所述流体注射器(2)的流量(Q)的信号,并至少控制各所述阀元件(3)的第二打开位置(V);用于各流体注射器(2)的第一控制回路(L1),有着由所述流体注射器(2)所注射的所述流量(Q)的反馈,其中,所述第一控制回路(L1)被配置为用于通过作用于被配置为用于至少控制各所述阀元件(3)的第二打开位置(V)的所述第一控制设备(6)来控制所述注射流体的所述流量(Q);其中,所述方法包括步骤:提供所述高速流体注射系统(1)的动态等效模型;输入流量参考值范围(Q
A
‑
Q
B
);开始流体注射工艺;与所述流体注射器(2)关联到的所述流量计(5),测量各流体注射器(2)的所述注射流量(Q)的值,所述第一控制设备(6)将各流体注射器(2)的所述流量(Q)的测量值与所述流量参考值范围(Q
A
‑
Q
B
)作比较;如果所述流量(Q)的值在所述流量参考值范围(Q
A
‑
Q
B
)外,改变所述流体注射器(2)的所述阀元件(3)的所述第二打开位置(V);如果流量(Q)的值在所述流量参考值内(Q
A
‑
Q
B
)内,不采取行动。2.根据权利要求1所述的流体注射系统(1)的控制方法,其特征在于,所述流体注射系统(1)是旋转式的或静止式的。3.根据权利要求2所述的流体注射系统(1)的控制方法,其特征在于,所述流体供给装置(4)进一步包括压力调节装置(7),其被配置为用于改变所述流体供应压力(P),其中,所述流体注射系统(1)包括第二控制设备(6.1),其被配置为用于接收所述各流体注射器(2)的第二打开位置的参考值范围(V
A
‑
V
B
)以及在所述第二打开位置的所述参考值范围(V
A
‑
V
B
)内的更窄且更居中范围(V
c
‑
V
d
)的信号,并用于控制所述压力调节装置(7);且其中,如果至少一个所述流体注射器(2)的所述第二打开位置(V)的值在所述第二打开位置的所述参考值范围(V
A
‑
V
B
)之外,所述方法进一步包括步骤:改变所述流体供给压力(P)。4.根据前述权利要求所述的流体注射系统(1)的控制方法,其特征在于,其中如果所有所述流体注射器(2)的所述第二打开位置(V)的所述平均值在更窄且更居中的所述参考值范围(V
c
–
V
d
)之外,所述方法进一步包括所述步骤:改变所述流体供给压力(P)。
5.根据权利要求3至4中任一项所述的流体注射系统(1)的控制方法,其特征在于其中所述流体供给装置(4)进一步包括被配置为用于改变所述流体供应温度(T)的温度调节装置(9),并且其中,所述流体注射系统(1)包括第三控制设备(6.2);其中所述第三控制设备(6.2)进一步被配置为用于接收所述流体供给压力(P)的信号、所述流体供给压力的参考值范围(P
A
‑
P
B
),以及用于控制所述温度调节装置(9...
【专利技术属性】
技术研发人员:伊斯梅尔,
申请(专利权)人:阿克特加阿蒂斯蒂卡有限公司,
类型:发明
国别省市:
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