一种直线式PECVD设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种直线式PECVD设备，其包含多个腔室，从进料端依次包含：进料腔，预热腔、多个反应腔、冷却腔和出料腔；所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均为独立的腔室，进料腔进料口和出料腔出料口及相邻腔室之间均设有密封隔断组件。当相邻两反应腔进行不同的沉积反应时，该两个反应腔之间还设有独立的缓冲腔；所述缓冲腔与反应腔之间也设有密封隔断组件。该直线式PECVD设备通过各个独立腔室的设置，及进料腔和出料腔的设置可以优化预热腔和冷却腔的功能，将稳定反应腔工艺气体和压力的时间节拍放在预热腔和冷却腔进行，减少反应腔的工艺沉积时间，从而大大缩短了整体节拍，有效提升设备产能。有效提升设备产能。有效提升设备产能。

【技术实现步骤摘要】
一种直线式PECVD设备


[0001]本技术涉及太阳能电池生产设备领域，尤其涉及一种直线式PECVD设备。

技术介绍

[0002]目前PECVD有链式和团簇式，其中在HJT使用的PECVD基本上是使用链式，链式PECVD采用多个腔体连接起来，有的是多个工艺腔拼接在一起，但每个腔室均有独立的阀门和独立的泵组；另外一种是工艺腔室中间没有阀门，与工艺腔连接的前后腔有阀门。
[0003]多个工艺腔是拼接在一起，工艺腔之间没有阀门，当各工艺腔使用不同的工艺气体条件时，各工艺腔的气体会发生串扰，导致工艺不稳定，工艺灵活性差。
[0004]申请人的在先申请CN 214736083 U公开了一种优化沉积腔的线式PECVD设备，其通过优化沉积腔提升生产效率，对各沉积反应进行分段，在满足工艺需求的前提下，提升整线运行节拍，即节约沉积时间，又保证了工艺的可灵活调整性。但是当载板要从预热腔到工艺腔时，在阀门打开时，工艺腔需要Ar吹扫，确保工艺腔内无工艺气体，当吹扫完成后预热腔与工艺腔的阀门打开，载板传入工艺腔，工艺腔需要充气稳定腔体内压力，压力稳定后才开始做沉积工艺；工艺完成后载板传出还需要重复刚才的吹扫动作，这样能确保各工艺气体不串气。但这也相应增加稳定工艺腔腔体内压力及传出的前吹扫的节拍时间，相当于腔室吹扫的时间需要算入整体的工艺节拍中；另外载板传送到位后工艺腔内需要充工艺气体，且需要一定的时间来稳定工艺腔体内的压力，且工艺沉积完成后需要抽掉工艺气体。工艺执行过程种充气、稳压和抽气占用的时间太多，导致设备生产节拍拉长，产能减少。再者I
N
段工艺腔有沉积I层和N层，两种沉积的工艺气体不一样，要保证工艺腔内气体不串扰有一定的困难，吹扫的时间需要加长。个别膜层的工艺沉积时间较长，如微晶工艺，使得各膜层的工艺时间不匹配，节拍加长，整体的产能进一步降低，要保证产能需要增加更多的工艺腔，设备产线加长，能耗增高。因此，现有技术存在不足。

技术实现思路

[0005]针对上述问题，本技术提供了一种直线式PECVD设备，通过在原来的预热腔和冷却腔前分别增加一个进料腔和出料腔，同时将预热腔和冷却腔内的功能细分，优化整体流程，提升设备生产能力，设备除必要的工艺时间和机械动作时间外，其他的时间均可在膜层沉积工艺时间内完成，大大缩短了整体节拍，提升设备产能。
[0006]为实现上述目的，本技术采用如下技术方案：
[0007]一种直线式PECVD设备，所述直线式PECVD包含多个腔室，其从进料端依次包含：进料腔，预热腔、多个反应腔、冷却腔和出料腔；所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均为独立的腔室，进料腔进料口和出料腔出料口及相邻腔室之间均设有密封隔断组件。
[0008]进一步，所述当相邻两反应腔进行不同的沉积反应时，该两个反应腔之间还设有独立的缓冲腔；所述缓冲腔与反应腔之间设有密封隔断组件。
[0009]进一步的，所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均设置有进气装置和配
套的独立干泵系统。
[0010]进一步的，所述反应腔还设置有加热装置，优选的所述加热装置为可以升降的加热板。
[0011]进一步的，所述缓冲腔设置有进气装置和配套的独立干泵系统。
[0012]进一步的，所述缓冲腔还设置有加热装置。
[0013]和现有技术相比，本技术提供的直线式PECVD设备具有如下有益效果：
[0014](1)各个腔室独立，在预热腔，冷却腔及缓冲腔可进行惰性气体吹扫，保证反应气体在各腔室内不窜气，保证反应腔内的工艺气体的纯度，从而提升产品的品质。
[0015](2)通过在预热腔前和冷却腔后分别增加一个进料腔和出料腔，可以将预热腔和冷却腔内的功能细分，即在进出反应腔前，可以预先在预热腔和冷却腔可以通入与即将进出的反应腔的工艺气体，保证其工艺气体浓度和压力均与反应腔室一致，保证产品进出反应腔室气体浓度和压力不变，产品到位后阀门关闭反应腔就可以开始工艺沉积，即通过将稳定反应腔工艺气体和压力的时间节拍放在预热腔和冷却腔进行，减少反应腔的工艺沉积时间，从而大大缩短了整体节拍，有效提升设备产能。同时反应腔内气体成分压力不会有变化，也有效提升工艺气体的利用率。
[0016]综上，本技术提供的直线式PECVD设备通过对各个腔室的合理设置，优化整体工艺流程程，使设备除必要的工艺时间和机械动作时间外，其他的时间均可在工艺时间内完成，大大缩短了整体节拍，提升设备产能。
附图说明
[0017]构成本申请的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0018]图1为本技术一实施例的直线式PECVD设备结构示意图。
[0019]图2为本技术另一实施例的直线式PECVD设备结构示意图。
[0020]图3为本技术又一实施例的直线式PECVD设备结构示意图。
[0021]附图标号说明：01—进料腔；02—预热腔；03—反应腔，03
‑
1—反应腔一，03
‑
2—反应腔二，03
‑
3—反应腔三，03
‑
4—反应腔四，03
‑
5—反应腔五，03
‑
6—反应腔六；04—冷却腔；05—出料腔；06—密封隔断组件，06
‑
1—密封隔断组件一，06
‑
2—密封隔断组件二，06
‑
3—密封隔断组件三，06
‑
4—密封隔断组件四，06
‑
5—密封隔断组件五，06
‑
6—密封隔断组件六，06
‑
7—密封隔断组件七，06
‑
8—密封隔断组件八，06
‑
9—密封隔断组件九，06
‑
10—密封隔断组件十，06
‑
11—密封隔断组件十一，06
‑
12—密封隔断组件十二；07—加热板，07
‑
1—加热板一，07
‑
2—加热板二，07
‑
3—加热板三，07
‑
4—加热板四，07
‑
5—加热板五，07
‑
6—加热板六；缓冲腔08。
具体实施方式
[0022]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0023]一种直线式PECVD设备，其包含多个腔室，从进料端依次包含：进料腔，预热腔、多个反应腔、冷却腔和出料腔；所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均为独立的腔室，进料腔进料口和出料腔出料口及相邻腔室之间均设有密封隔断组件。
[0024]所述当本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种直线式PECVD设备，其包含多个腔室，其特征在于：所述直线式PECVD设备从进料端依次包含：进料腔，预热腔、多个反应腔、冷却腔和出料腔；所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均为独立的腔室，进料腔进料口和出料腔出料口及相邻腔室之间均设有密封隔断组件。2.根据权利要求1所述的直线式PECVD设备，其特征在于：所述相邻两个反应腔之间还设有独立的缓冲腔；所述缓冲腔与反应腔之间设有密封隔断组件。3.根据权利要求1所述的直线式...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨与胜，庄辉虎，练小洪，
申请(专利权)人：福建金石能源有限公司，
类型：新型
国别省市：