布线形成系统及其方法技术方案

本发明专利技术涉及一种布线形成系统及其方法，光学外观检查装置（１３），对布线图案形成后的印刷基板全部区域，采用线宽测定算法测定布线图案的线宽。而且，光学外观检查装置（１３），以区域（２２）为单位制成线宽直方图。然后，光学外观检查装置（１３），在同一区域（２２）中将制成的线宽直方图与掩模图像数据的线宽直方图进行比较，制成线宽分布。信息管理系统（１４）基于采用规定数的印刷基板而制成的线宽分布的平均来制成校正数据。曝光装置（１２）基于上述校正数据，对设计数据或曝光用的图像数据上的布线图案的线宽，以区域（２２）为单位进行变粗、变细的校正。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别是涉及形成印刷基板的布线图案的布线形成系统。
技术介绍
印刷基板的布线图案经过蚀刻工序等而形成。在该蚀刻工序中，例如存在因蚀刻粗或细等使布线图案的线宽发生变化的问题。为了解决该问题，蚀刻工序后检查布线图案是否按照设计要求(例如测定长度)，工作人员根据该检查结果来改变蚀刻条件，或修改在蚀刻工序前曝光工序使用的掩模。然而，工作人员每当通过检查发现未按设计要求制成、产生所谓不良基板时需要重新作成蚀刻条件或掩模，存在生产性无法提高的问题。因此有人提出把设计数据与各工序后的数据进行比较并把该比较结果反馈给曝光工序而防止产生不良基板的布线形成系统(例如参见JP特开2004-56068号公报)。下面，参照图15对现有的布线形成系统进行说明。图15是表示现有的布线形成系统的结构的框图。图15中示出的现有的布线形成系统，是由设汁数据制成装置91、曝光装置92、外观检查装置93、蚀刻工序94、外观检查装置95、以及尺寸调整标准(リサイジングル一ル)制成装置96构成的系统。设汁数据制成装置91是制成CAD数据等设汁数据的装置。曝光装置92是根据由设汁数据制成装置91制成的设计数据制成曝光用的图像数据。另外，曝光装置92根据曝光用的图像数据，通过激光扫描等在印刷基板上直接描绘掩模而进行曝光。因此，曝光装置92是不使用掩模的装置。曝光后的印刷基板被送至外观检查装置93。外观检查装置93对曝光后的印刷基板进行拍摄而取得图像数据。在外观检查装置93中取得的图像数据，被反馈至曝光装置92。曝光装置92把该图像数据与上述设计数据加以比较，计测印刷基板的伸缩及变形等。根据该比较结果，曝光装置92校正设计数据(定标(scaling)校正)。蚀刻工序94，对曝光后的印刷基板进行蚀刻，在印刷基板上形成布线图案。外观检查装置95，对蚀刻后的印刷基板进行拍摄，取得图像数据。尺寸调整标准制成装置96把蚀刻后的印刷基板的图像与设计数据进行比较，制成尺寸调整标准。在这里，所谓尺寸调整标准是指，使用公知的数学方法对为了使蚀刻后的印刷基板的布线图案成为按照设计数据的布线图案，必需如何校正曝光用的图像数据这样的反问题进行求解而得到的标准。设汁数据制成装置91按照尺寸调整标准对设计数据进行校正(蚀刻校正)。然后，曝光装置92根据校正过的设计数据制成曝光用的图像数据。因此，现有的布线形成系统中，把设计数据与各工序后的数据进行比较，把该比较结果最终反馈给曝光装置，即通过进行上述定标校正及蚀刻校正，可以防止不良基板的发生。然而，在上述现有的布线形成系统中，尺寸调整标准，仅公开了采用公知的数学方法得到上述反问题这样的情况，尺寸调整标准的具体结构仍然不清楚。另外，从实际制造方面考虑，例如，因邻近效应产生的布线图案的变形或蚀刻不匀等种种缺陷发生，但在上述现有的布线形成系统中，对这种缺陷未加以考虑。另外，这种缺陷对印刷基板整个区域不是同样发生，在基板的每个区域，该缺陷的发生程度不同。鉴于上述理由，在上述现有的布线形成系统中根据尺寸调整标准的校正，从实际制造考虑，存在实际使用困难、实现进行精度高的校正和生产性的提高实质上是不可能的问题。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种，针对实际制造时产生的种种缺陷，分别进行精度高的校正，实现印刷基板生产效率的提高。为了解决上述课题，本专利技术采用以下所示的结构。第1方面是涉及一种布线形成方法，是对基板实施曝光处理而形成布线图案的印刷基板的布线形成方法，其特征在于，具有曝光步骤，采用有关布线图案的设计数据或基于该设计数据的曝光用图像数据，直接对基板进行曝光，或者，采用基于设计数据或曝光用图像数据而制成的掩模，对基板进行曝光；线宽测定步骤，按照每个单位区域测定经过曝光步骤的曝光处理而最终形成了布线图案的印刷基板的布线图案的线宽；线宽校正数据制成步骤，通过按每个单位区域对线宽测定步骤中测定的线宽、与设计数据或曝光用图像数据的线宽进行比较，从而制成每个单位区域的线宽校正数据；线宽校正步骤，采用线宽校正数据，对曝光步骤中使用的设计数据或曝光用图像数据进行校正。第2方面的特征在于，在上述第1方面中，线宽校正数据制成步骤，根据多个印刷基板的线宽测定结果，制成线宽校正数据。第3方面的特征在于，在上述第1方面中，线宽测定步骤，按照每个单位区域分别制成表示线宽的大小和其频率的关系的线宽直方图，采用该线宽直方图检测出该单位区域中的布线图案的线宽。第4方面的特征在于，在上述第3方面中，线宽测定步骤，按照每个单位区域，将线宽直方图中频率最高的线宽作为该单位区域中布线图案的线宽来检测出。第5方面的特征在于，在上述第1方面中，还具有线宽再测定步骤，对采用线宽校正步骤中校正过的校正后设计数据或曝光用图像数据而制成的印刷基板的布线图案进行光学性检查，测定该印刷基板的布线图案的线宽，按照每个单位区域检测出所测定的线宽、与设计数据或曝光用图像数据的线宽的差值；修正步骤，在线宽再测定步骤中的任一个单位区域中检测出差值时，基于该差值对线宽校正数据进行修正。第6方面涉及一种布线形成系统，是对基板实施曝光处理而形成布线图案的印刷基板的布线形成系统，其特征在于，具有曝光装置，其采用有关布线图案的设计数据或基于该设计数据的曝光用图像数据，直接对基板进行曝光，或者，采用基于设计数据或曝光用图像数据而制成的掩模，对基板进行曝光；线宽测定装置，其按照每个单位区域测定经过曝光装置的曝光处理而最终形成了布线图案的印刷基板的布线图案的线宽；线宽校正数据制成装置，其通过按每个单位区域对由线宽测定装置测定的线宽、与设计数据或曝光用图像数据的线宽进行比较，从而制成每个单位区域的线宽校正数据；线宽校正装置，其采用线宽校正数据，对曝光装置中使用的设计数据或曝光用图像数据进行校正。第7方面涉及一种布线形成方法，是对基板实施曝光处理而形成布线图案的印刷基板的布线形成方法，其特征在于，具有曝光步骤，采用有关布线图案的设计数据或基于该设计数据的曝光用图像数据，直接对基板进行曝光，或者，采用基于设计数据或曝光用图像数据而制成的掩模，对基板进行曝光；线间距测定步骤，对经过曝光步骤的曝光处理而最终形成了布线图案的印刷基板的布线图案的线间距进行测定；线间距校正数据制成步骤，在线间距测定步骤中测定的线间距比预先设定的最小线间距小时，制成线间距校正数据；线间距校正步骤，采用线间距校正数据，对曝光步骤中使用的设计数据或曝光用图像数据进行校正。第8方面的特征在于，在上述第7方面中，线间距校正数据制成步骤，根据线间距测定步骤测定的多个印刷基板的线间距的信息，判断是否以超过规定频率的频率发生线间距的缺陷，当该判断结果为肯定时，制成线间距校正数据。第9方面的特征在于，在上述第8方面中，线间距校正数据制成步骤，对线间距的缺陷以超过规定频率的频率发生的部位，采用该缺陷部位的多个印刷基板的线间距的平均值、最大值、最小值或最大频率值而制成线间距校正数据。第10方面涉及一种布线形成系统，是对基板实施曝光处理而形成布线图案的印刷基板的布线形成系统，其特征在于，具有曝光装置，其采用有关布线图案的设计数据或基于该设计数据的曝光用图像数据，直接对基板进行曝光，或者，采用基于设计数据或曝光用图像数据而制成的掩模，对基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种布线形成方法，是对基板实施曝光处理而形成布线图案的印刷基板的布线形成方法，其特征在于，具有：曝光步骤，采用有关上述布线图案的设计数据或基于该设计数据的曝光用图像数据，直接对基板进行曝光，或者，采用基于上述设计数据或上述曝光用图像数据而制成的掩模，对基板进行曝光；线宽测定步骤，按照每个单位区域测定经过上述曝光步骤的曝光处理而最终形成了布线图案的印刷基板的布线图案的线宽；线宽校正数据制成步骤，通过按上述每个单位区域对上述线宽测定步骤中测定的线宽、与上述设计数据或上述曝光用图像数据的线宽进行比较，从而制成上述每个单位区域的线宽校正数据；线宽校正步骤，采用上述线宽校正数据，对上述曝光步骤中使用的上述设计数据或上述曝光用图像数据进行校正。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：八坂智，冈山敏之，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]