微电子衬底的清洗组合物制造技术

本发明专利技术提供一种用于清洗微电子衬底的剥离和清洗组合物，该组合物包括：至少一种有机剥离溶剂，至少一种亲核胺，至少一种不含氮的弱酸，其量足以中和约３重量％～约７５重量％的亲核胺，使得剥离组合物的水相ｐＨ为约９．６～约１０．９，所述弱酸在水溶液中的ｐＫ值为２．０或更大且当量低于１４０，至少一种去除金属化合物选自二甘醇和二甘醇胺，和水，以及用这些组合物清洗微电子衬底的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种用于清洗微电子衬底的剥离和清洗组合物，该组合物包含：　　　　ａ）至少一种有机剥离溶剂，　　　　ｂ）至少一种亲核胺，　　　　ｃ）至少一种不含氮的弱酸，其量足以中和约３重量％～约７５重量％的亲核胺，使得该剥离组合物的水相ｐＨ为约９．６～约１０．９，所述弱酸在水溶液中的ｐＫ值为２．０或更大且当量低于１４０，　　　　ｄ）至少一种去除金属化合物，选自二甘醇和二甘醇胺，和　　　　ｅ）水。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖恩M凯恩，
申请(专利权)人：马林克罗特贝克公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]