用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置，包括：进风空气过滤单元，其被配置为用于对进气空气过滤，并且将过滤的空气提供给超声波加湿器以用作输送被汽化后水分子的媒介；进水过滤单元，其被配置为对进水进行过滤，并且将过滤后的洁净水提供给超声波加湿器；超声波加湿器，其被配置为包括雾化板，通过雾化板的高频振荡，从而生成高湿空气，并且将生成的高湿空气提供到雾化管；雾化管，其被配置为连接超声波加湿器与新风系统或者循环风系统的送风系统的加湿段；高精度湿度传感器，其被配置对所述湿度控制目标区域的相对湿度进行实时测量，以产生用于控制超声波加湿量的控制湿度调节控信号。波加湿量的控制湿度调节控信号。波加湿量的控制湿度调节控信号。

【技术实现步骤摘要】
用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置
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[0001]本专利技术涉及半导体加工技术，具体地涉及一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置。

技术介绍

[0002]随着半导体生产技术的更新换代，其生产设备造价成本越来越高，并且
[0003]其对于生产环境的要求也相应提高。为了保证半导体生产的顺利进行，需要为半导体生产洁净环境提供精确控制的湿度环境。
[0004]半导体生产工艺对环境温湿度的控制要求非常高。其中，控制环境湿度
[0005]是抑制静电产生的重要手段；过快或过大的湿度波动也影响到工艺生产的良15率水平；影响到一些高精设备的精度与寿命；以及作业人员的体感舒适度。
[0006]一般半导体工艺要求22℃洁净环境下，相对湿度控制在50％
±
2.5％。
[0007]在当前的生产工艺中，洁净环境空气处理系统普遍采用的加湿方式一般是电极式、电热式、高压喷雾等等。然而，在现有的加湿器系统中，对水质
[0008]和内外环境的变化考虑不充分；此外，加湿系统对环境的湿度控制精度不够。20因此，需要一种用于对半导体生产洁净环境提供精确控制的湿度环境的洁净
[0009]环境湿度精调节装置作为原加湿系统的替代或者补充。

技术实现思路

[0010]本专利技术的一方面提供一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装25置，包括：进风空气过滤单元，其被配置为用于对进气空气过滤，并且利用
[0011]进风侧与加湿段的压差作用，将过滤的空气提供给超声波加湿器以用作输送被汽化后水分子的媒介；进水过滤单元，其被配置为对进水进行过滤，并且
[0012]将过滤后的洁净水提供给超声波加湿器，以提高雾化板的维护周期；超声波
[0013]加湿器，其被配置为包括雾化板，通过雾化板的高频振荡，汽化水分子，以30与过滤后的媒介空气混合，从而生成高湿空气，并且将生成的高湿空气提供
[0014]到雾化管；雾化管，其被配置为连接超声波加湿器与新风系统或者循环风系统的送风系统的加湿段，并且将高湿的空气提供到新风系统或者循环风系统的送风系统中，高精度湿度传感器，其被配置在新风系统或者循环风系统中的湿度控制目标区域，并且对所述湿度控制目标区域的相对湿度进行实时测量，以产生用于控制超声波加湿量的控制湿度调节控信号。
[0015]本专利技术的一方面提供一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置，所述洁净环境湿度精调节装置被配置用于包括新风系统MAU、高效过滤单元FFU和干盘管DCC系统的使用场景中，从新风系统MAU中的新风静压箱吸取的一部分旁通空气经过所述洁净环境湿度精调节装置，从而将汽化的水分子提供到雾化管，并且通过所述雾化管将高湿的空气提供到所述新风系统的加湿段，其中，所述高精度湿度传感器被配置在湿度控制目标区
域，进行湿度实时检测，提供控制湿度调节信号。
[0016]本专利技术的一方面提供一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置，所述洁净环境湿度精调节装置被配置用于包括循环风AHU系统的使用场景中，所述洁净环境湿度精调节装置的进风侧通过滤网与外部环境连接；雾化管与二次回风管连接，通过所述二次回风管的负压作用，吸取进风侧的外部空气，经过所述超声波加湿器，从而将汽化的水分子提供到雾化管；并且通过所述雾化管将高湿空气供到二次回风管，或循环风AHU系统的加湿段，其中，所述高精度湿度传感器被配置在湿度控制目标区域，进行湿度实时监测，提供控制湿度调节信号。
[0017]本专利技术的一方面提供一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置，其中，所述进水过滤单元包括安装在其中的5um以下的过滤器来为超声波加湿器提供进水，或者为超声波加湿器提供纯水或二级RO水，用于防止雾化板结污。
[0018]本专利技术的一方面提供一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置，其中，所述控制湿度调节信号被反馈回所述洁净环境湿度精调节装置，并且根据洁净环境湿度精调节装置设置的控制范围来控制超声波加湿器的加湿量。
[0019]本专利技术的一方面提供一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置，其中，当测量的控制湿度调节控信号超过第一控制阈值时，停止超声波加湿器的工作，并且当测量的控制湿度调节控信号低于第二控制阈值时，开启超声波加湿器的工作。
[0020]本专利技术的一方面提供一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置，其中，当测量的控制湿度调节控信号在第一控制范围内时，进一步地减小超声波加湿器的工作功率，从而提高控制目标区域环境相对湿度的精度。
[0021]本专利技术的一方面提供一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置，其中，超声波加湿器包括主机水箱和雾化板，进水经过过滤被提供到所述主机水箱，并且通过安装在主机水箱内的液位控制器，控制主机水箱内的水位高于雾化板水位检测片5mm，以达到最好的汽化效果。
附图说明
[0022]图1是根据本专利技术实施例的洁净环境湿度精调节装置用于包括新风系统MAU、高效过滤单元FFU和干盘管DCC系统的使用场景的示意图；以及
[0023]图2是示出了根据本专利技术另一实施例的洁净环境湿度精调节装置用于包括循环风AHU系统的使用场景中的示意图。
具体实施方式
[0024]在进行下面的详细描述之前，阐述贯穿本专利文件使用的某些单词和短语的定义可能是有利的。术语“耦接”“连接”及其派生词指两个或多个元件之间的任何直接或间接通信或者连接，而无论那些元件是否彼此物理接触。术语“传输”、“接收”和“通信”及其派生词涵盖直接和间接通信。术语“包括”和“包含”及其派生词是指包括但不限于。术语“或”是包含性的，意思是和/或。短语“与
……
相关联”及其派生词是指包括、包括在
……
内、互连、包含、包含在
……
内、连接或与
……
连接、耦接或与
……
耦接、与
……
通信、配合、交织、并列、接近、绑定或与
……
绑定、具有、具有属性、具有关系或与
……
有关系等。术语“控制器”是指
控制至少一个操作的任何设备、系统或其一部分。这种控制器可以用硬件、或者硬件和软件和/或固件的组合来实施。与任何特定控制器相关联的功能可以是集中式的或分布式的，无论是本地的还是远程的。短语“至少一个”，当与项目列表一起使用时，意指可以使用所列项目中的一个或多个的不同组合，并且可能只需要列表中的一个项目。例如，“A、B、C中的至少一个”包括以下组合中的任意一个：A、B、C、A和B、A和C、B和C、A和B和C。
[0025]贯穿本专利文件提供了其他特定单词和短语的定义。本领域普通技术人员应该理解，在许多情况下，即使不是大多数情况下，这种定义也适用于这样定义的单词和短语的先前和将来使用。
[0026]在本专利文件中，模块的应用组合以及子模块的划分层级仅用于说明，在不脱离本公开的范围内，模块的应用组合以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体生产工艺的洁净环境湿度精调节装置，包括：进风空气过滤单元，其被配置为用于对进气空气过滤，并且利用进风侧与加湿段的压差作用，将过滤的空气提供给超声波加湿器以用作输送被汽化后水分子的媒介；进水过滤单元，其被配置为对进水进行过滤，并且将过滤后的洁净水提供给超声波加湿器，以提高雾化板的维护周期；超声波加湿器，其被配置为包括雾化板，通过雾化板的高频振荡，汽化水分子，以与过滤后的媒介空气混合，从而生成高湿空气，并且将生成的高湿空气提供到雾化管；雾化管，其被配置为连接超声波加湿器与新风系统或者循环风系统的送风系统的加湿段，并且将高湿的空气提供到新风系统或者循环风系统的送风系统中；以及高精度湿度传感器，其被配置在新风系统或者循环风系统中的湿度控制目标区域，并且对所述湿度控制目标区域的相对湿度进行实时测量，以产生用于控制超声波加湿量的控制湿度调节控信号。2.根据权利要求1所述的洁净环境湿度精调节装置，所述洁净环境湿度精调节装置被配置用于包括新风系统MAU、高效过滤单元FFU和干盘管DCC系统的使用场景中，从新风系统MAU中的新风静压箱吸取的一部分旁通空气经过所述洁净环境湿度精调节装置，从而将汽化的水分子提供到雾化管，并且通过所述雾化管将高湿的空气提供到所述新风系统的加湿段，其中，所述高精度湿度传感器被配置在湿度控制目标区域，进行湿度实时检测，提供控制湿度调节信号。3.根据权利要求1所述的洁净环境湿度精调节装置，所述洁净环境湿度精调节装置被配置用于包括循环风AHU系统的使用场景中，所述洁净环...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱云飞，钱永学，黄鑫，赖亚明，王正前，朱正，
申请(专利权)人：上海昂瑞创新电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：