等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜及保护板制造技术

本发明专利技术提供即使不设置保护膜视觉反射率也较低的ＰＤＰ用电磁波屏蔽膜及使用了该ＰＤＰ用电磁波屏蔽膜的视觉反射率较低的ＰＤＰ用保护板。所用的电磁波屏蔽膜１０具备基体１１和导电膜１２，该导电膜１２为从基体１１侧开始交替层叠折射率１．５５～２．５的无机物层１２ａ和金属层１２ｂ而设置了ｎ层金属层１２ｂ和（ｎ＋１）层无机物层１２ａ的多层结构体，无机物层１２ａ是含有选自金属氧化物、金属氮化物及金属氧氮化物的１种以上的层，金属层１２ｂ是由纯银或银合金形成的层，从基体侧数起为第２～ｎ层的各金属层的膜厚大于从基体侧数起为第１层的金属层的膜厚，ｎ为３～５的整数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于保护等离子体显示屏(以下简称为PDP)主体而被设置于 PDP观察者侧、具有屏蔽PDP产生的电磁噪声的电磁波屏蔽功能的PDP用电 磁波屏蔽膜及PDP用保护板。
技术介绍
由于电磁波会从PDP的前表面被释放，因此以屏蔽该电磁波为目的，在 PDP的观察者侧设置具备在塑料膜等基体上形成有导电膜的电磁波屏蔽膜的 PDP用保护板。例如，专利文献1中提出了具备多层导电膜和保护该导电膜的保护膜的 PDP用保护板，该导电膜为从基体侧开始合计交替层叠了(2n+l)层(n为正整数) 的含有1种以上的金属的以氧化锌为主成分的氧化物层和以银为主成分的金属 层的多层导电膜。最近，基于要求(i)随着导电膜的高性能化而无需设置保护膜，(ii)PDP用保 护板的薄型化等理由，提出了无保护膜的PDP用保护板(例如，参照专利文献 2)。但是，由于保护膜和空气的折射率不同，如果从例如专利文献1记载的PDP 用保护板除去保护膜，则出现PDP用保护板的视觉反射率提高的问题。 专利文献l:国际公开文本第98/13850号 专利文献2:美国专利第6391462号说明书专利技术的揭示本专利技术的目的是提供即使不设置保护膜也可将PDP用保护板的视觉反射 率抑制在较低水平的PDP用电磁波屏蔽膜，以及无需设置保护膜且视觉反射率 低的PDP用保护板。本专利技术的PDP用电磁波屏蔽膜是具备基体和形成于基体上的导电膜的PDP用电磁波屏蔽膜，该屏蔽膜的特征在于，该导电膜为从基体侧开始交替层叠折射率1.55 2.5的无机物层和金属层而设置了n层金属层和(n+l)层(n为3 5的整数)无机物层的多层结构体，无机物层是含有选自金属氧化物、金属氮化 物及金属氧氮化物的l种以上的层，金属层是由纯银形成的层，或者由含有选 自金、钯及铋的1种以上的银合金形成的层，从基体侧数起为第2层、第3 层、……、第n层(以下也可表示为第2 n层)的各金属层的膜厚大于从基体侧 数起为第l层的金属层的膜厚。较好的是从基体侧数起为第i层(i为2 n的整数)的金属层的膜厚大于从 基体侧数起为第i-l层的金属层的膜厚。n优选为3。较好的是本专利技术的PDP用电磁波屏蔽膜的前述导电膜上还具有防污剂层。 较好的是前述无机物层含有选自氧化锌、氧化铟、氧化锡、氧化钛及氧化 铌的l种以上。较好的是前述无机物层为由含有选自锡、铝、铬、钛、硅、硼、镁及镓的 1种以上的元素的氧化锌形成的层。本专利技术的PDP用保护板的特征在于，具备支承基体和设置于该支承基体上 的本专利技术的PDP用电磁波屏蔽膜。此外，较好的是前述等离子体显示屏用电磁 波屏蔽膜中的基体的形成有导电膜的面的相反侧的面和前述支承基体的一面 贴合。较好的是本专利技术的PDP中设置有前述PDP用保护板，且前述PDP用保护 板的导电膜侧的表面被设置成为PDP侧。本专利技术的PDP用电磁波屏蔽膜即使不设置保护膜也可将PDP用保护板的 视觉反射率抑制在较低水平。本专利技术的PDP用保护板无需设置保护膜，且视觉反射率低。在本专利技术的PDP中设置PDP用保护板使PDP用保护板的导电膜侧的表面 成为PDP侦U。由于人几乎不接触PDP用保护板的导电膜的表面，所以无需在 导电膜的表面设置保护膜。附图的简单说明附图说明图1为表示本专利技术的PDP用电磁波屏蔽膜的一例的截面图。 图2为表示本专利技术的PDP用保护板的一例的截面图。图3为表示例l及例17的PDP用电磁波屏蔽膜的透射光谱的图。图4为表示例l及例17的PDP用电磁波屏蔽膜的反射光谱的图。图5为表示例2及例18的PDP用保护板的透射光谱的图。图6为表示例2及例18的PDP用保护板的反射光谱的图。图7为表示本专利技术的PDP用电磁波屏蔽膜的另一例子的截面图。图8为表示例3及例19的PDP用电磁波屏蔽膜的透射光谱的图。图9为表示例3及例19的PDP用电磁波屏蔽膜的反射光谱的图。图10为表示本专利技术的PDP用电磁波屏蔽膜的又一例子的截面图。图11为表示例5的PDP用电磁波屏蔽膜的透射光谱的图。图12为表示例5的PDP用电磁波屏蔽膜的反射光谱的图。符号说明1为PDP用保护板，IO为电磁波屏蔽膜，ll为基体，12为导电膜，12a为无机物层，12b为金属层，14为电磁波屏蔽膜，15为电磁波屏蔽膜，20为支承基体。实施专利技术的最佳方式 〈PDP用电磁波屏蔽膜〉图1为表示本专利技术的PDP用电磁波屏蔽膜(以下简称为电磁波屏蔽膜)的一 例的简单截面图。电磁波屏蔽膜10的基本结构是具备基体11、设置于该基体 11上的导电膜12和设置于该导电膜12上的防污剂层13。(基体)基体11优选透明基体。"透明"是指透射60%以上的可见光范围内的波 长的光。透明基体更好的是透射80%以上的可见光范围内的波长的光，特好的 是透射90%以上。作为透明基体的材质，可例举玻璃(包括风冷强化玻璃、化学强化玻璃等 强化玻璃)，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、三乙酰基纤维素(TAC)、聚碳酸酯 (PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(P麗A)等塑料等。(导电膜)导电膜12是从基体11侧开始交替层叠无机物层12a和金属层12b而设置 了 n层金属层12b和(n+l)层(n为3 5的整数)无机物层12a的多层结构体。图 1中的导电膜12是n4的例子。通过设置3 5层金属层12b，可降低导电膜 12的电阻值，可扩大反射范围。此外，通过设置3层金属层12b，可增加内部200680024273.3说明书第4/19页应力和抑制透光性的下降。无机物层12a含有选自金属氧化物、金属氮化物及金属氧氮化物的1种以上。此外，无机物层12a的折射率为1.55 2.5，优选1.8 2.5，特好为1.9 2.5。折射率在上述范围内，可利用与金属层12b的干涉效果提高透射率，"折 射率"是指波长555nm的折射率。作为折射率为1.55 2.5的金属氧化物，可例举以氧化铝、氧化锌、氧化 铟、氧化钛、氧化铌、氧化锡等为主成分的金属氧化物。其中，从与金属层12b 的银的相容性良好、可提高导电膜12的耐久性的角度考虑，优选以氧化锌为 主成分。此外，从折射率的角度考虑，优选以氧化铟、氧化钛或氧化铌为主成 分。作为折射率为1.55 2.5的金属氮化物，可例举以氮化硅(Si3N4)、氮化铝 (A1N)为主成分的金属氮化物。作为折射率为1.55 2.5的金属氧氮化物，可例举以氧氮化硅(SiON)、氧 氮化铝(A10N)为主成分的金属氧氮化物。作为无机物层12a，优选由含有选自锡、铝、铬、钛、硅、硼、镁及镓的 1种以上的元素的氧化锌形成的层。特好的是无机物层12a是由含铝的氧化锌 (以下简称为AZO)、含镓的氧化锌(以下简称为GZO)或者含钛的氧化锌(以下简 称为TZO)形成的层。作为无机物层12a使用了 AZO时，锌及铝作为氧化锌及氧化铝或者混合 有两者的复合氧化物的形式存在。此外，作为无机物层12a使用了 GZO时，锌 和镓作为氧化锌及氧化镓或者混合有两者的复合氧化物的形式存在。作为无机 物层12a使用了 TZO时，锌和钛作为氧化锌及氧化钛或者混合有两者的复合氧 化物的形式存在。较好的是无机物层12a以氧化物换算合计含有90质量％以上的A1203、 Ga203或Ti02和ZnO，更好的是含有95质量％以上，特好的是含有99质量％ 以上。本文档来自技高网...

【技术保护点】
等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，具备基体和形成于基体上的导电膜，且该导电膜为从基体侧开始交替层叠折射率１．５５～２．５的无机物层和金属层而设置了ｎ层金属层和（ｎ＋１）层无机物层的多层结构体，无机物层是含有选自金属氧化物、金属氮化物及金属氧氮化物的１种以上的层，金属层是由纯银形成的层，或者由含有选自金、钯及铋的１种以上的银合金形成的层，从基体侧数起为第２～ｎ层的各金属层的膜厚大于从基体侧数起为第１层的金属层的膜厚，ｎ为３～５的整数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：森本保，小西正哲，川崎正人，尾山卓司，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]