盖带及制造方法技术

本发明专利技术提供了一种制品，该制品包括盖带，所述盖带包括基膜层、凹进区域、能撕开的部件和粘结剂。所述基膜层具有相对的纵向边缘。所述凹进区域沿着所述基膜层的纵向边缘延伸。所述能撕开的部件基本上与纵向边缘平行。所述粘结剂设置在所述凹进区域上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
本专利技术涉及用于传送元件的盖带和制造这类盖带的方法和设备。在制造环境中，经常需要夹持和传送元件。例如，在电子电路装 配
，经常需要将电子元件从元件供给源传送到电路板上要附 连的具体位置。元件能有多种不同的类型，包括表面贴装元件。具体 实例包括存储器芯片、集成电路芯片、电阻器、连接器、处理器、电容器、门阵列等。可能会使用如美国专利No.5，325，654所公开的载带 /盖带系统来传送小型精密元件。电子产业不断向更小的装置发展，而这些更小的元件又随之要求 载带/盖带系统可更加精密和准确地移除这些元件。大多数已知的盖带 使用热活化粘结剂(HAA)或压敏粘结剂(PSA)将盖带粘在载带上。 要移除元件，首先要小心地将盖带从载带上剥离或松解，以将元件露 在真空喷嘴或其它用于安全移除元件的元件处理设备。然而，已知的盖带存在一些操作困难。例如，将盖带从载带上剥 离时会产生"震动"、粗暴、不均匀和不一致的剥离，这将导致载带/ 盖带移动进而致使小型元件发生位移。另外已知的是，震动性剥离还 会将小型元件从载带上的袋中弹出，从而导致误选并最终导致自动化 元件处理设备停机。根据盖带的宽度和所用载带类型，粘性盖带的剥离力有相当大的 差别。较宽的HAA盖带需要更高的温度以获得稳固的粘结。同样， 较宽的PSA盖带具有较小的剥离力，并需要暴露更宽的粘结剂以获得 稳固的粘结。此外，专为一类载带(例如聚苯乙烯)设计的盖带在用于其它类型的载带材料(例如聚碳酸酯)时并非总是具有良好的性能。 即使盖带标称可用于不同类型的载带，但仍可能达不到最佳剥离力及 产生不均匀的剥离。此外，HAA盖带的稳定性较差，因为随着时间和 温度的变化剥离力会减小。另外，已知的盖带在储存和运输过程中存在困难。例如，当盖带 底部表面上的粘结剂在压力和/或热力条件下移动和变形时粘结剂会被"挤出"，从而导致粘结剂移动到盖带边缘之外。这样是有问题的， 因为它可导致粘结剂在不希望的位置粘结，从而产生污染、不必要的 清洁，降低美学价值以及造成其它问题(诸如不希望有的设备停产)。 此外，如果由平膜(即没有凹槽的薄膜)制成的盖带自身巻绕，会引 起粘结剂条之间出现不希望的松垂，从而导致巻不稳定。
技术实现思路
在本专利技术的一个方面，制品包括盖带，所述盖带包括基膜层、凹 进区域、能撕开的部件、以及粘结剂。基膜层具有相对的纵向边缘。 凹进区域沿着基膜层的纵向边缘延伸。能撕开的部件基本上与基薄膜 的纵向边缘平行。粘结剂设置在凹进区域上。在本专利技术的另一方面，制造盖带的方法包括提供具有相对纵向边 缘的基膜层、形成沿着每条纵向边缘延伸的凹进区域、形成基本上平 行纵向边缘的能撕开的部件、以及将粘结剂应用于每个凹进区域。上述内容并非旨在描述本专利技术所公开的每个实施例或每项具体实 施。以下附图和具体实施方式更具体地示出示例性实施例。附图说明图1是根据本专利技术的盖带的示意性剖视图。图2是根据本专利技术的另一个盖带实施例的示意性剖视图。图3是根据本专利技术的另一个盖带实施例的示意性剖视图。图4A是根据本专利技术的另一个盖带实施例的示意性剖视图。 图4B是根据本专利技术的另一个盖带实施例的示意性剖视图。图5是图1所示的盖带在施加热力和压力后的示意性剖视图。图6是根据本专利技术的成巻盖带的一部分的示意性剖视图。图7是根据本专利技术的载带/盖带系统的透视图，示出了盖带如何从其上分离。图8是根据本专利技术的盖带刻划装置的示意性侧视图。 图9是图8所示的刻划装置的一部分的示意性侧向剖视图。 图10是图8和9所示的刻划装置的一部分的示意性后视图。 图11A是根据本专利技术的一系列盖带的一个实施例的示意性剖视图。图11B是根据本专利技术的一系列盖带的另一个实施例的示意性剖 视图。尽管上述各图提出了本专利技术的数种实施例，但正如论述中所提到 的，还可以想到其它的实施例。在所有情况下，本公开均以示例性而 非限制性地方式描述本专利技术。应该理解，本领域的技术人员可以设计 出大量其它修改形式和实施例，这些修改形式和实施例均在本专利技术原 理的范围和精神之内。各图可能未按比例绘制。各图使用类似的参考 标记来指示类似部件。具体实施方式本专利技术的各方面均涉及盖带、载带/盖带系统及制造盖带的方法和 设备。根据本专利技术的盖带可粘附到可夹持元件以进行储存和传送的载 带上。所述盖带可盖住载带上用来夹持元件的口袋，且有一部分可与 系统分离以暴露载带中的口袋。盖带上的能撕开的部件允许盖带的一 部分以基本上一致而均匀的分离力与盖带的其它部分(和盖带所粘附 的载带)分离，这种分离力可降低在分离过程中载带所夹持的元件产 生不希望的移动的可能性。如本文所用，术语"撕开"通常是指组件 各部分的受控分离。此外，根据本专利技术的盖带提供沿着盖带纵向边缘的凹槽，以帮助盖带在储存和应用期间维持相对平坦的轮廓。粘结剂 的位置与盖带边缘有一定间隔，这有助于防止粘结剂污染和粘结剂附 着到其它不希望的表面上，如盖带处理设备。图1是适用于载带/盖带系统的盖带20的示意性剖视图。盖带20包括具有相对的纵向边缘24和26以及相对的顶面28和底面 30的细长薄膜22。薄膜22可以是聚合物薄膜，例如聚对苯二甲酸 乙二醇酯、取向聚丙烯(如双轴取向聚丙烯)、取向聚酰胺、取向聚 氯乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯腈、聚烯烃和聚酰亚 胺薄膜。薄膜22可以是透明的。另外，薄膜22本质上可以是导电 的或静电耗散的。纵向延伸的能撕开的部件32和34及纵向延伸的 凹槽36和38的位置与薄膜22的底面30相关。能撕开的部件32 和34是空间上隔开的，薄膜22的中间部分40被限定在二者之间。 沿着薄膜22的顶面28的顶面涂层42是可选提供的。顶面涂层42 可包括静电耗散(SD)涂层、LAB (即粘结剂剥离涂层)、防反射或 减少眩光涂层和其它涂层以及这些涂层的组合。沿着薄膜22的底面 30的底面涂层44也是可选提供的，它可以是SD涂层或其它类型的 涂层，且可以至少部分地与薄膜22共混。所提供的纵向设置的粘结 剂条46和48沿着凹槽36和38。凹槽36和38分别位于薄膜22的纵向边缘24和26。凹槽 36和38都面向薄膜22的底面表面30，并分别面向纵向边缘24 和26。作为另外一种选择，盖带的两个表面上都有可能形成凹槽。该 功能十分有用，例如，如果粘结剂条的厚度大于DR，这将有利于巻绕兰想 皿市。在图1所示实施例中，两边的底部50和侧部52各自限定出了 凹槽36和38。粘结剂条46和48可分别设置在凹槽36和38的 底部50。凹槽36和38的底部50可以具有微纹理(图1中未示 出)以更好地将粘结剂条46和48粘附在薄膜22上。应该认识到，可利用其它凹槽形状，只要凹槽36和38面向薄膜22的相邻细长 边缘24或26和薄膜22的底面30。薄膜22，包括凹槽36和38以及所有微纹理可使用多种工艺形 成，诸如刻划、挤出、压延、微复制、激光烧蚀、超声波、模切、化 学蚀刻和剥除法等。在其它实施例中，凹槽36和38可使用不同工 艺形成。此外，薄膜22可以使用可沿着中心线(即薄膜22的顶面28 和底面30之间的中间线)断裂或分层的薄膜形成，且分隔线可从顶 部和底部向中心线切割以形成凹槽。如图11A所示，可建立断裂或分 层中心线，例如通过层压或共挤出具有弱本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制品，所述制品包括：　　　　盖带，其包括：　　　　具有相对纵向边缘的基膜层；　　　　沿所述纵向边缘延伸的凹进区域；　　　　基本上与所述纵向边缘平行的能撕开的部件；和　　　　在所述凹进区域上的粘结剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁本E瓦拉斯克斯乌雷，劳拉C德瓦尼，大卫J范诺韦贝克，丹尼尔H亨德森，巴巴拉L比雷利，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]