本发明专利技术提供了一种全自动表面清洁装置及清洁方法，全自动清洁装置包括安装于底架上的皮带线模组、上表面清洗模组和粘尘模组；上表面清洗模组跨设在皮带线模组的上游，用于将喷有雾化清洗剂的无尘布条对产品上表面湿式擦洗；粘尘模组跨设在皮带线模组的下游，用于对下方经过擦洗后的产品上表面通过粘尘带粘尘；本申请对料盘中多件产品上表面全自动清洗，综合了湿式擦洗、离子风干和除静电、以及胶带粘尘等清洁手段，保证了清洁质量，工作稳定可靠，效果好，不仅可以在玻璃镜片中应用，还可迁移至3C、半导体等涉及其他玻璃组装、加工、检测站等的清洗环境中推广应用。等的清洗环境中推广应用。等的清洗环境中推广应用。
【技术实现步骤摘要】
一种全自动表面清洁装置及清洁方法
[0001]本专利技术属于板面清洗领域，具体涉及一种全自动表面清洁装置及清洁方法。
技术介绍
[0002]玻璃产品通常极易粘尘或者在加工过程中沾到油污，指纹印，洗涤剂等脏污。这些脏污粘附在玻璃表面非常明显，一方面会严重干扰到AOI对于划伤，崩边，镜片模糊等异常问题的检测，另一方面这些脏污同样会影响到后道生产和产品质量。脏污等甚至能够占到整体比例的60％左右，实际真正的划伤等不良仅占5％不到。
[0003]目前业内有部分厂商做玻璃瑕疵检测这块，无一例外均碰到了脏污干扰检测的问题，大部分均因为脏污干扰检测的问题导致玻璃瑕疵检测良率极低。
[0004]以光学玻璃AOI检测为例，如在料盘等载具中待测的手机镜头为例，参见图1(手机玻璃镜片盖)和图2(盛有手机镜头的料盘)，目前AOI设备检测出的产品中，如果不做清洁，一次通过率仅40％。污染物导致的不良占到55％左右，瑕疵造成的不良实际统计在5％以内。具体的，以镀氟化镁膜蓝宝石玻璃为例，玻璃加工过程中的灰尘或者其他杂质经常粘附于玻璃表面，只要有一点灰尘即非常明显，严重影响AOI检测。这些脏污或灰尘分为有机物杂质或无机物杂质，有机物主要包括指纹印记，油墨，油剂，含杂质的有机溶剂，衣物细绒线，毛发等，无机物包括玻璃碎屑，粉尘等。
[0005]传统的解决该问题的方法主要有人工擦洗，特点是工作效率低，质量难于稳定；半自动化或自动化设备擦洗效果不佳，或清洁擦洗后难以除尽。
技术实现思路
[0006]为了克服现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种全自动表面清洁装置及清洁方法，其能解决上述问题。
[0007]一种全自动表面清洁装置，全自动清洁装置包括安装于底架上的皮带线模组、上表面清洗模组和粘尘模组；所述上表面清洗模组跨设在皮带线模组的上游，用于将喷有雾化清洗剂的无尘布条对产品上表面湿式擦洗；所述粘尘模组跨设在皮带线模组的下游，用于对下方经过擦洗后的产品上表面通过粘尘带粘尘。
[0008]进一步的，对应所述上表面清洗模组的湿式擦洗工位下方配置第一顶升模组，对应所述粘尘模组的粘尘工位下方配置第二顶升模组；两个顶升模组结构相同，用于对承载产品的料盘顶升至工作高度，以进行擦洗或粘尘。
[0009]进一步的，所述上表面清洗模组和粘尘模组均可在垂直于皮带线模组的平面内运动，以实现在高度上抵靠产品表面，并在纵向上往复运动对产品擦洗或粘尘。
[0010]进一步的，在上表面清洗模组的下游设置离子风机，用于加速干燥和除静电。
[0011]本专利技术还提供了一种全自动表面清洁方法，方法基于前述全自动表面清洁装置实施，方法包括：
[0012]S1、皮带线模组将载有产品的料盘流到无尘布清洗工位，被第一顶升模组的顶升
板顶起至湿式擦洗工位的擦洗高度；
[0013]S2、第一顶升模组开启真空吸，将顶升板上方料盘内载有的产品吸附定位；
[0014]S3、上表面清洗模组启动，开启清洁剂喷雾阀，给料轮供给的无尘布喷上雾化的清洗剂；
[0015]S4、上表面清洗模组的擦洗头受控下降到擦洗工作高度，与料盘接触；
[0016]S5、上表面清洗模组的擦洗机构整体受Y轴电机驱动，沿Y轴方向来回运动擦洗数次；
[0017]S6、上表面清洗模组的擦洗头抬起，无尘布收卷盘移动一小段距离，更换新的无尘布；
[0018]S7、第一顶升模组控制顶升板下降，真空关闭，皮带线模组将料盘输送向胶带的粘尘工位；
[0019]S8、粘尘模组启动，驱动胶带收卷盘转动，更新胶带；
[0020]S9、第二顶升模组的顶升板将胶带下方的料盘顶起至粘尘高度；
[0021]S10、第二顶升模组开启真空吸，将顶升板上方料盘内载有的产品吸附定位；
[0022]S11、粘尘模组的橡胶辊轮受辊轮气缸控制下压至粘尘工作高度；
[0023]S12、粘尘模组的橡胶辊轮被电机带动，沿Y轴来回运动数次；
[0024]S13、粘尘模组的橡胶辊轮抬起，粘附在产品上的胶带弹起，与产品和料盘分离，完成一个料盘内产品的粘尘；
[0025]S14、料盘下降至轨道，流向下一站。
[0026]相比现有技术，本专利技术的有益效果在于：本申请对料盘中多件产品上表面全自动清洗，综合了湿式擦洗、离子风干和除静电、以及胶带粘尘等清洁手段，保证了清洁质量，工作稳定可靠，效果好，不仅可以在玻璃镜片中应用，还可迁移至3C、半导体等涉及其他玻璃组装、加工、检测站等的清洗环境中推广应用。
附图说明
[0027]图1为玻璃镜片图；
[0028]图2为载有手机玻璃镜片载具料盘图；
[0029]图3为全自动清洁装置的结构示意图。
[0030]图中，
[0031]3000、全自动清洁装置；
[0032]3100、皮带线模组；
[0033]3200、上表面清洗模组；
[0034]3300、粘尘模组；
[0035]3400、第一顶升模组；
[0036]3500、第二顶升模组；
[0037]3600、离子风机；
[0038]3700、收集模组。
具体实施方式
[0039]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0040]上表面全自动清洁装置
[0041]一种全自动表面清洁装置，不限于应用如手机、平板电脑、笔记本等镜头玻璃的清洁或清洗，全自动清洁装置3000包括安装于底架上的皮带线模组3100、上表面清洗模组3200和粘尘模组3300。
[0042]布置关系：所述上表面清洗模组3200跨设在皮带线模组3100的上游，用于将喷有雾化清洗剂的无尘布条对产品上表面湿式擦洗。所述粘尘模组3300跨设在皮带线模组3100的下游，用于对下方经过擦洗后的产品上表面通过粘尘带粘尘。对应所述上表面清洗模组3200的湿式擦洗工位下方配置第一顶升模组3400，对应所述粘尘模组3300的粘尘工位下方配置第二顶升模组3500；两个顶升模组结构相同，用于对承载产品的料盘顶升至工作高度，以进行擦洗或粘尘。
[0043]其中，所述上表面清洗模组3200和粘尘模组3300均可在垂直于皮带线模组3100的平面内运动，以实现在高度上抵靠产品表面，并在纵向上往复运动对产品擦洗或粘尘。
[0044]进一步的，在上表面清洗模组3200的下游设置离子风机3600，用于加速干燥和除静电。
[0045]在粘尘模组3300的下游也设置一个离子风机3600，用于加速干燥和除静电。
[0046]进一步的，在上表面清洗模组3200的一侧设置收集模组3700，用于本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种全自动表面清洁装置，其特征在于：全自动清洁装置(3000)包括安装于底架上的皮带线模组(3100)、上表面清洗模组(3200)和粘尘模组(3300)；所述上表面清洗模组(3200)跨设在皮带线模组(3100)的上游，用于将喷有雾化清洗剂的无尘布条对产品上表面湿式擦洗；所述粘尘模组(3300)跨设在皮带线模组(3100)的下游，用于对下方经过擦洗后的产品上表面通过粘尘带粘尘。2.根据权利要求1所述的全自动表面清洁装置，其特征在于：对应所述上表面清洗模组(3200)的湿式擦洗工位下方配置第一顶升模组(3400)，对应所述粘尘模组(3300)的粘尘工位下方配置第二顶升模组(3500)；两个顶升模组结构相同，用于对承载产品的料盘顶升至工作高度，以进行擦洗或粘尘。3.根据权利要求2所述的全自动表面清洁装置，其特征在于：所述上表面清洗模组(3200)和粘尘模组(3300)均可在垂直于皮带线模组(3100)的平面内运动，以实现在高度上抵靠产品表面，并在纵向上往复运动对产品擦洗或粘尘。4.根据权利要求1或3所述的全自动表面清洁装置，其特征在于：在上表面清洗模组(3200)的下游设置离子风机(3600)，用于加速干燥和除静电。5.根据权利要求1所述的全自动表面清洁装置，其特征在于：在上表面清洗模组(3200)的一侧设置收集模组(3700)，用于收集废料。6.根据权利要求3所述的全自动表面清洁装置，其特征在于：所述上表面清洗模组(3200)包括上料盘组件、喷雾组件、擦洗头组件、收料盘组件和清洗驱控组件；所述粘尘模组(3300)包括胶带上料组件、辊轮组件、胶带收料组件和粘尘驱控组件。7.一种全自动表面清洁方法，方法基于权利要求3
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5任一...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹迪，郭杰，周加龙，吕高选，贾帅帅，纪亚楠，巩旭辉，曹葵康，周明，
申请(专利权)人：苏州天准科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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