本发明专利技术在被处理物为大型的情况下，也能够以简单的结构进行表面处理。用第一单元１１Ｌ和第二单元１１Ｒ构成表面处理装置１的处理头１０。在这些单元１１中，用于喷出处理气体的喷出口３４沿第一方向延伸。第一方向与使被处理物移动的第二方向正交。两个单元１１配置为相互在第一方向错开，且在第二方向错开。两个单元１１的喷出口３４之间在从第二方向观察的情况下重叠。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及向被处理物喷出处理气体，进行被处理物的清洗、表面改 性、蚀刻、抛光、成膜等表面处理的装置，包括等离子体表面处理装置或热CVD装置等。尤其，涉及在等离子体处理中，将被处理物配置于电极 间空间的外部，朝向其喷出在电极间形成的等离子体的所谓的远程式等离 子体处理装置。
技术介绍
在液晶面板等平板显示器的制造领域等中，近年来，被处理物处于大 型化的倾向，表面处理装置也寻求针对大型被处理物的应对。在专利文献1、 2中记载了设置两列将多个电极与长边方向平行地排 列而成的电极列，在这些两个电极列之间形成了间隙状放电空间的等离子 体表面处理装置。即使各电极短，也能够将间隙状放电空间设成与大型被 处理物的宽度尺寸对应的长度。通过将用该间隙状放电空间等离子体化的 处理气体喷到被处理物，能够一次性处理被处理物的整个宽度。被处理物 在与电极的长边方向(间隙状放电空间的延伸方向)正交的方向上被输送。在专利文献3、 4中记载了将多个电极在与长边方向正交的方向上排 列而成的电极模块沿所述长边方向设置前后两级的技术。在给电极模块的 相邻的电极之间形成间隙状放电空间。前级的电极模块和后级的电极模块 在上述电极的排列设置方向上错开排列树脂间距的一半程度。从而，前级 和后级的间隙状放电空间也错开一半间距。被处理物在各电极的长边方向 进而各间隙状放电空间的长边方向上被输送。专利文献l:日本特开2005—302685号公报专利文献2:日本特开2005—302686号公报专利文献3:日本特开2005 —135892号公报专利文献4:日本特开2005—333096号公报在将包含电极模块等的多个单元一直线排列时，需要在面向相邻的单 元的端部不设置配线或配管，或在所述端部以外的部分设置台架的支承 部，不是将通常的单元单单排列多个。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供能够以简单的结构应对大型的被处理物的表 面处理装置。为了解决上述问题，本专利技术是一种表面处理装置，其将处理气体喷到 被处理物的表面，处理该表面，其特征在于，具备第一单元，其具有用于喷出所述处理气体的第一孔列，该第一孔列在 第一方向上延伸；第二单元，其具有用于喷出所述处理气体的第二孔列，该第二孔列在 与所述第一孔列相同的方向上延伸；移动机构，其使所述被处理物相对于所述第一、第二单元，在与所述 第一方向正交的第二方向上相对移动，其中所述第一单元和第二单元配置为，相互在所述第一方向上错开，且在 所述第二方向上错开。由此，即使在被处理物为大型的情况下，也能够以简单的结构进行表 面处理。优选所述第一孔列的长边方向的第二单元侧的端部、和所述第二孔列 的长边方向的第一单元侧的端部在从所述第二方向观察的情况下，在所述 第一方向上重叠。由此，在各单元的孔列端部中，即使由于处理气体的减速或失活而处 理能力比孔列中央部降低的情况下，也能够通过使两个单元重叠而使该重 叠部分处的处理能力成为将两个低的处理能力加起来的大小，得到与各单 元的孔列中央部相等的处理能力。优选还具备台架；连结机构，其将所述第一单元连结于该台架，且能够在所述第一方向上调节所述第一单元的位置。由此，能够吸收沿第一方向的组装误差，或调节上述重叠的宽度。优选还具备台架；连结机构，其将所述第一单元连结于该台架，且能够在与所述第一方向及第二方向正交的第三方向上调节所述第一单元 的位置。由此，能够吸收沿第三方向的组装误差，或调节单元和被处理物之间 的距离(工作距离)，或矫正单元间的个体差异等引起的第一处理区域的 处理程度和第二处理区域的处理程度的不均一。优选还具备台架；连结机构，其将所述第一单元连结于该台架，且 能够对所述第一单元调节从所述第一方向观察的角度。由此，能够吸收从第一方向观察的角度误差，或调节向被处理物喷出 气体的方向，或矫正单元间的个体差异等引起的第一处理区域的处理状态 和第二处理区域的处理状态的不均一。优选还具备台架；连结机构，其将所述第一单元连结于该台架，且 能够对所述第一单元调节从所述第二方向观察的角度。由此，能够吸收从第二方向观察的角度误差，或调节向被处理物喷出 气体的方向，或矫正单元间的个体差异等引起的第一处理区域的处理状态 和第二处理区域的处理状态的不均一。优选还具备台架； 一对连结机构，其分别设置于所述第一单元的所 述第一方向的两端部，且将所述第一单元连结于所述台架，且能够在与所 述第一方向及第二方向正交的第三方向上调节所述第一单元的位置。由此，不仅能够在第三方向上调节第一单元的位置，而且还能够调节 从第二方向观察的角度。优选还具备台架；四个连结机构，其分别设置于所述第一单元的从 与所述第一方向及第二方向正交的第三方向观察到的四角，且将所述第一 单元连结于所述台架，且能够在与所述第一方向及第二方向正交的第三方 向上调节所述第一单元的位置。由此，不仅能够在第三方向上调节第一单元的位置，而且还能够调节 从第一方向观察的角度及从第二方向观察的角度。优选还具备-台架；连结机构，其将所述第一单元连结于该台架，所述连结机构具有被支承部，其设置于所述第一单元；单元支承部，其设置于所述台架，且在与所述第一方向及第二方向正交的第三方向上与所述被支承部对置；第一、第二连结轴，其设置为在所述被支承部、和单元支承部之间沿 所述第三方向延伸；第一限制部，其设置于所述第一连结轴，且容许所述被支承部相对于 所述单元支承部沿所述第三方向远离，并限制接近；第二限制部，其设置于所述第二连结轴，且容许所述被支承部相对于 所述单元支承部沿所述第三方向接近，并限制远离。由此，能够将第一单元支承为可在第一方向和第三方向上调节位置， 能够吸收第一方向及第三方向上的安装误差。优选在所述被支承部和单元支承部中的一方中，形成有用于插通所述 第一连结轴或第二连结轴而连结的插通孔，该插通孔形成为长轴朝向所述 第一方向的长孔。由此，能够在第一方向上调节第一单元相对于台架的位置，能够吸收 第一单元的沿第一方向的组装误差，或能够将第一单元在第一方向上相对 于第二单元调节位置，能够调节上述重叠的宽度。优选所述第一连结轴是轴线朝向所述第三方向的螺纹部件，在所述第一连结轴的所述被支承部侧的端部螺合所述第一限制部，所 述第一连结轴的所述单元支承部侧的端部顶碰在所述单元支承部，所述第一限制部与所述被支承部的朝向所述单元支承部的面抵接或 接合。由此，能够以简单的结构，容许所述被支承部相对于单元支承部沿所 述第三方向远离，限制其接近。优选所述第二连结轴是轴线朝向所述第三方向的螺纹部件，在所述第二连结轴的所述被支承部侧的端部上设置有所述第二限制 部，所述第二连结轴的所述单元支承部侧的端部螺合于所述单元支承部，所述第二限制部与所述被支承部的朝向与所述单元支承部相反的一 侧的面抵接。由此，能够以简单的结构，容许所述被支承部相对于单元支承部沿所 述第三方向接近，限制其远离。优选不仅是第一单元，而且第二单元也通过与第一单元相同的连结枳i 构连结于台架。优选所述第一单元包含在所述第一方向上分别延伸的一对电极，这些 电极在所述第二方向上对置而在相互之间形成放电空间，该放电空间的下 游端与所述第一孔列相连。优选第二单元也相同地构成。由此，能够进行等离子体表面处理。本专利技术适合在大气压左右下生成等离子本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种表面处理装置，其将处理气体喷到被处理物的表面而处理该表面，其特征在于，具备： 第一单元，其具有用于喷出所述处理气体的第一孔列，该第一孔列在第一方向上延伸； 第二单元，其具有用于喷出所述处理气体的第二孔列，该第二孔列在与所述第一孔列相同的方向上延伸； 移动机构，其使所述被处理物相对于所述第一、第二单元，在与所述第一方向正交的第二方向上相对移动，其中 所述第一单元和第二单元配置为，相互在所述第一方向上错开，且在所述第二方向上错开。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：日野守，今井克广，竹内裕人，中森勇一，高桥英则，屋代进，
申请(专利权)人：积水化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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