直流电弧喷射等离子体分束器制造技术

一种直流电弧喷射等离子体分束器，属于直流电弧喷射等离子技术领域。由遮蔽板、支杆、底座、封闭栓组成；在底座上安装可以调节高度的支杆，支杆上安置采用高熔点材料制成的遮蔽板，在遮蔽板上间隔开出可开闭的束流孔；遮蔽板（１）与封闭栓（２）采用间隙配合，遮蔽板（１）与支杆（３）也采用间隙配合，支杆（３）与底座（４）采用螺纹连接。本实用新型专利技术的优点在于，可以对直流电弧喷射等离子体进行分流和约束，使分流束中的等离子体均匀性得到改善，装置简单，操作简便，而且避免了电磁场和流场扰动对等离子体的影响。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于直流电弧喷射等离子
，特别涉及一种直流 电弧喷射等离子体分束器，应用在对直流电弧喷射等离子体进行分流和 约束，提高直流电弧等离子体均匀性的装置。 技术背景直流电弧喷射等离子体具有能量大、功率高、流速快的特点(^^..Afafen'a/s，S(7卯^2W)，因此难于控制。尤其在利用这种等离子体进行 化学气相沉积时，常常造成所制备膜体中成分和组织的不均匀性，形成 大量的缺陷(参1*嚴广嚴箏，直魔筝庸f沐喷射劍备无麥贫^支:^ ^^^^廣^"游逼^"蕴l^设^六乂工逼沐学叛，33 6W)。对这种等离子体的控制通常采用电磁场耦合流场的控制方法(^i ;发欲专^/ ZLW7 一辨寧庸f沐^)，然而这种控制受扰动影响严重，等离子体不均匀性仍然很大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种直流电弧喷射等离子体分束器，解决了 直流电弧喷射等离子体难于控制这一问题，可以对直流电弧喷射等离子 体进行分流和约束，使分流束中的等离子体均匀性得到改善，装置简单， 操作简便，而且避免了电磁场和流场扰动对等离子体的影响。本技术由遮蔽板、支杆、底座、封闭栓组成；在底座上安装可 以调节高度的支杆，支杆上安置采用高熔点材料制成的遮蔽板，在遮蔽 板上间隔开出可开闭的束流孔，对直流电弧喷射等离子体进行分流约束。 遮蔽板1与封闭栓2采用间隙配合，遮蔽板1与支杆3也采用间隙配合， 支杆3与底座4采用螺纹连接。遮蔽板、支杆、底座、封闭栓的材质均 为石墨或难熔金属。束流孔为分布在遮蔽板上的通孔，其孔径(D)为 2-8mra，其在遮蔽板上的分布为以遮蔽板中心为圆心，向心径向排列， 各束流孔的间隔(L)要比束流孔直径大3到10mm，即D+3mm S L《D+10ram。有益效果由于使用束流孔，降低了分流束中的等离子体的平均自由程，增加了等离子体的碰撞截面，提高了等离子体的均匀性；此外， 由于束流孔具有平面分布特点，且束流孔可开闭，因此可以实现等离子 体的选区利用，避免了等离子体的交互作用，减少了扰动，使等离子体 的均匀性进一步提高。附图说明图1为直流电弧喷射等离子体分束器的总装图，其中，遮蔽板1; 封闭栓2;支杆3;底座4。图2为分束器的遮蔽板俯视图。 图3为分束器的遮蔽板侧视图。 图4为分束器的封闭栓剖面图。图5为分束器的支杆剖面图。 图6为分束器的底座俯视图。 图7为分束器的底座侧视图。具体实施方式图1至图7为本技术优选的具体实施方式，是应用于直径为5 厘米的直流电弧喷射等离子体的分束器的具体实例。遮蔽板为石墨，其 上钻有彼此间隔的束流孔，用来封闭束流孔的封闭栓也为石墨，可嵌入 束流孔。遮蔽板安置在石墨支杆的台肩上；支杆与石墨底座之间以螺纹 连接，使支杆可以上下调整高度。在底座4上安装可以调节高度的支杆3，支杆3上安置采用高熔点 材料制成的遮蔽板1,在遮蔽板1上间隔开出可开闭的束流孔，对直流 电弧喷射等离子体进行分流约束。遮蔽板1与封闭栓2采用间隙配合， 遮蔽板1与支杆3也采用间隙配合，支杆3与底座4采用螺纹连接。束 流孔为分布在遮蔽板上的通孔,其孔径(D)为4咖，其在遮蔽板上的分 布为以遮蔽板中心为圆心，向心径向排列，各束流孔的间隔(L)比束 流孔直径大4。权利要求1、一种直流电弧喷射等离子体分束器，其特征在于，由遮蔽板、支杆、底座、封闭栓组成；在底座上安装可以调节高度的支杆，支杆上安置采用高熔点材料制成的遮蔽板，在遮蔽板上间隔开出可开闭的束流孔；遮蔽板(1)与封闭栓(2)采用间隙配合，遮蔽板(1)与支杆(3)也采用间隙配合，支杆(3)与底座(4)采用螺纹连接。2、 根据权利要求所述的直流电弧喷射等离子体分束器，其特征在于， 遮蔽板、支杆、底座、封闭栓的材质均为石墨。3、 根据权利要求所述的直流电弧喷射等离子体分束器，其特征在于， 束流孔为分布在遮蔽板上的通孔,其孔径(D)为2-8mm，其在遮蔽板上 的分布为以遮蔽板中心为圆心，向心径向排列，各束流孔的间隔(L) 要比束流孔直径大3至IJ10mm。专利摘要一种直流电弧喷射等离子体分束器，属于直流电弧喷射等离子
由遮蔽板、支杆、底座、封闭栓组成；在底座上安装可以调节高度的支杆，支杆上安置采用高熔点材料制成的遮蔽板，在遮蔽板上间隔开出可开闭的束流孔；遮蔽板(1)与封闭栓(2)采用间隙配合，遮蔽板(1)与支杆(3)也采用间隙配合，支杆(3)与底座(4)采用螺纹连接。本技术的优点在于，可以对直流电弧喷射等离子体进行分流和约束，使分流束中的等离子体均匀性得到改善，装置简单，操作简便，而且避免了电磁场和流场扰动对等离子体的影响。文档编号H05H1/34GK201063955SQ20072010374公开日2008年5月21日 申请日期2007年3月6日 优先权日2007年3月6日专利技术者佟玉梅, 吕反修, 唐伟忠, 宋建华, 彬 李, 李成明, 杰·阿斯卡瑞, 薛前进, 陈广超, 黑立富 申请人:北京科技大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种直流电弧喷射等离子体分束器，其特征在于，由遮蔽板、支杆、底座、封闭栓组成；在底座上安装可以调节高度的支杆，支杆上安置采用高熔点材料制成的遮蔽板，在遮蔽板上间隔开出可开闭的束流孔；遮蔽板（１）与封闭栓（２）采用间隙配合，遮蔽板（１）与支杆（３）也采用间隙配合，支杆（３）与底座（４）采用螺纹连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈广超，李彬，薛前进，JAskari，唐伟忠，李成明，宋建华，黑立富，佟玉梅，吕反修，
申请(专利权)人：北京科技大学，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]