【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种送气系统,尤其涉及一种水冷等离子淋浴器的送气系统。
技术介绍
在现代先进的半导体加工工艺的离子注入工艺中,等离子淋浴技术得到应用,改善了离子注入工艺的性能,提高了产品的成品率。当等离子淋浴器工作时,需要有稳定的工作气流供给,维持工作弧流,保持充足的等离子体产生。
技术实现思路
针对上述情况,本专利技术提供一种水冷等离子淋浴器的送气系统,能够向等离子淋浴气提供高精密可控的氩(Ar)或氙(Xe)气流,且无污染,很好地满足了等离子淋浴器工作的要求。本专利技术通过以下技术方案实现一种水冷等离子淋浴器的送气系统,包括一个气瓶、四个气动阀、两个压力表、一个调压阀、一个过滤器、一个质量流量计。其中所述的气瓶是气体容器,装有供等离子淋浴器工作的高压气体;该气瓶连接一个气动阀,该气动阀控制气瓶气体的通断;所述气动阀连接一个压力表,该压力表显示气瓶的气体压力;所述压力表后面连接一个调压阀,该调压阀起调节主气路中的气体压力作用,保证送气量和系统安全;所述压力表和调压阀之间连接一个气动阀,该气动阀装在氮气旁路上,控制旁路上用于清洗管路的氮气开关;所述调压阀后连接一个压力表,该压力表显示经过调压阀后管路中气体的压力;所述压力表后连接一个过滤器,该过滤器对通过的气体过滤,主要滤除气体的杂质颗粒;所述压力表和过滤器之间连接一个气动阀,该气动阀是在主气路与抽真空设备间的阀门,抽真空时,气动阀开;所述过滤器后面连接一个气动阀,该气动阀控制送气气路与离子淋浴枪的通断;所述气动阀后面连接质量流量计,该质量流量计用于精确控制流入离子淋浴器的气流大小。本专利技术结构简单,能保证送气 ...
【技术保护点】
一种水冷等离子淋浴器的送气系统,其特征在于:包括一个气瓶、四个气动阀、两个压力表、一个调压阀、一个过滤器、一个质量流量计;其中所述的气瓶是气体容器,装有供等离子淋浴器工作的高压气体;该气瓶连接一个气动阀,该气动阀控制气瓶气体的通断;所述气动阀连接一个压力表,该压力表显示气瓶的气体压力;所述压力表后面连接一个调压阀,该调压阀调节主气路中的气体压力;所述压力表和调压阀之间连接一个气动阀,该气动阀装在氮气旁路上,控制旁路上用于清洗管路的氮气开关;所述调压阀后连接一个压力表,该压力表显示经过调压阀后管路中气体的压力;所述压力表后连接一个过滤器,该过滤器对通过的气体过滤;所述压力表和过滤器之间连接一个气动阀,该气动阀是在主气路与抽真空设备间的阀门,抽真空时,气动阀开;所述过滤器后面连接一个气动阀,该气动阀控制送气气路与离子淋浴枪的通断;所述气动阀后面连接质量流量计,该质量流量计控制流入离子淋浴器的气流大小。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:彭立波,文超,何科峰,邱小莎,
申请(专利权)人:北京中科信电子装备有限公司,
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]
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