偏振片的制造方法技术

本发明专利技术可高效地制造外观优异的偏振片。本发明专利技术的实施方式的偏振片的制造方法包括：对具有相互对置的第一主面及第二主面、并且所述第一主面的表面粗糙度Ra为0.5μm以下的保护膜的所述第一主面进行表面改性；将所述保护膜的所述表面改性面与具有基材和表面处理层的层叠膜的所述表面处理层进行贴合而得到层叠体；以及在所述层叠体的所述基材侧层叠起偏器。以及在所述层叠体的所述基材侧层叠起偏器。以及在所述层叠体的所述基材侧层叠起偏器。

【技术实现步骤摘要】
偏振片的制造方法


[0001]本专利技术涉及偏振片的制造方法。

技术介绍

[0002]以液晶显示装置及电致发光(EL)显示装置(例如，有机EL显示装置、无机EL显示装置)为代表的图像显示装置正在迅速地普及。在搭载于图像显示装置的图像显示面板中，一般使用偏振片。代表性地，广泛使用将偏振片与相位差板一体化而成的带相位差层的偏振片(例如，专利文献1)。
[0003]上述偏振片代表地通过将具有偏振功能的起偏器和保护该起偏器的构件层叠而得到，期望良好地进行该层叠来提高偏振片的制造效率。另外，期望制造外观优异的偏振片。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本专利第3325560号公报

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的问题
[0008]鉴于上述情况，本专利技术的主要目的在于，高效地制造外观优异的偏振片。
[0009]用于解决问题的手段
[0010]根据本专利技术的实施方式，提供一种偏振片的制造方法。该制造方法包括：对具有相互对置的第一主面及第二主面、并且所述第一主面的表面粗糙度Ra为0.5μm以下的保护膜的所述第一主面进行表面改性；将所述保护膜的所述表面改性面与具有基材和表面处理层的层叠膜的所述表面处理层进行贴合而得到层叠体；以及在所述层叠体的所述基材侧层叠起偏器。
[0011]在一个实施方式中，上述表面改性通过电晕处理或等离子体处理中的至少一者进行。
[0012]在一个实施方式中，通过上述表面改性，使上述第一主面的表面粗糙度Ra减少0.1μm～0.4μm。
[0013]在一个实施方式中，上述表面改性后的上述第一主面的表面粗糙度Ra为0.15μm以下。
[0014]在一个实施方式中，上述表面改性通过电晕处理进行，上述电晕处理的处理强度为10W
·
min/m2以上且50W
·
min/m2以下。
[0015]在一个实施方式中，将上述层叠体与上述起偏器重合后，通过一对加压构件夹持上述层叠体和上述起偏器并进行加压。
[0016]在一个实施方式中，上述保护膜为聚烯烃膜。
[0017]在一个实施方式中，上述表面处理层包含氟或硅中的至少一者。
[0018]在一个实施方式中，上述层叠膜的上述表面处理层侧的反射率为3％以下。
[0019]专利技术效果
[0020]根据本专利技术的实施方式，能够高效地制造外观优异的偏振片。
附图说明
[0021]图1A是表示本专利技术的一个实施方式的偏振片的制造工序1的图。
[0022]图1B是表示接着上述工序1的工序2的图。
[0023]图1C是表示接着上述工序2的工序3的图。
[0024]图2A是实施例1的偏振片的观察照片。
[0025]图2B是比较例2的偏振片的观察照片。
[0026]符号说明
[0027]10
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保护膜
[0028]20
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层叠膜
[0029]21
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基材(保护层)
[0030]22
ꢀꢀꢀꢀꢀ
表面处理层
[0031]30
ꢀꢀꢀꢀꢀ
起偏器
[0032]40
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保护层
[0033]100
ꢀꢀꢀꢀ
偏振片
具体实施方式
[0034]以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明，但本专利技术不限定于这些实施方式。另外，为了使说明更明确，附图有时与实施方式相比示意性地表示各部的宽度、厚度、形状等，但始终只是一个例子，并不限定本专利技术的解释。
[0035](术语及符号的定义)
[0036]本说明书中的术语及符号的定义如下所述。
[0037](1)折射率(nx、ny、nz)
[0038]“nx”是面内的折射率成为最大的方向(即慢轴方向)的折射率，“ny”是在面内与慢轴正交的方向(即快轴方向)的折射率，“nz”是厚度方向的折射率。
[0039](2)面内相位差(Re)
[0040]“Re(λ)”是以23℃下的波长为λnm的光测得的面内相位差。例如，“Re(550)”是以23℃下的波长为550nm的光测得的面内相位差。将层(膜)的厚度设定为d(nm)时，Re(λ)通过式：Re(λ)＝(nx
‑
ny)
×
d求出。
[0041](3)厚度方向的相位差(Rth)
[0042]“Rth(λ)”是以23℃下的波长为λnm的光测得的厚度方向的相位差。例如，“Rth(550)”是以23℃下的波长为550nm的光测得的厚度方向的相位差。将层(膜)的厚度设定为d(nm)时，Rth(λ)通过式：Rth(λ)＝(nx
‑
nz)
×
d求出。
[0043]本专利技术的一个实施方式的偏振片的制造方法包括：对具有相互对置的第一主面及第二主面的保护膜的第一主面进行表面改性(表面改性工序、工序1)；将保护膜的表面改性面贴合于具有基材和表面处理层的层叠膜的表面处理层上而得到层叠体(贴合工序、工序
2)；以及在层叠体的基材侧层叠起偏器(层叠工序、工序3)。
[0044]图1A～图1C是示出本专利技术的一个实施方式的偏振片的制造方法的工序的图。
[0045]在图1A所示的工序1中，对具有相互对置的第一主面10a及第二主面10b的保护膜10的第一主面10a进行表面改性。保护膜10代表性地制成长条状且可卷绕成卷状。在此，“长条状”是指，长度相对于宽度足够长的细长形状，例如是指长度相对于宽度为10倍以上、优选为20倍以上的细长形状。
[0046]在工序2中，将第一主面10a进行了表面改性后的保护膜10贴合于具有基材21和表面处理层22的层叠膜20的表面处理层22上，图1B示出层叠体90完成的状态。如图所示，将保护膜10的第一主面10a贴合于表面处理层22。保护膜10与层叠膜20的层叠例如在对它们进行辊输送(通过所谓的辊对辊)的同时进行。通过使用经表面改性的保护膜，能够得到与层叠膜的密合性优异的层叠体。密合性优异的层叠体在之后的工序中可以抑制保护膜从层叠膜剥离，可有助于制造效率的提高。
[0047]代表性地，通过上述表面改性来提高上述第一主面的表面能量。表面改性例如通过电晕处理、等离子体处理进行。这些处理可以单独使用，也可以组合使用。
[0048]优选采用电晕处理。电晕处理例如通过在与电介质绝缘的电极之间以高频施加高电压而产生电晕、并在电介质与电极之间配置保护膜而进行。电极与保护膜的距离例如为1.5mm～2.5mm。在一个实施方式中，一边输送保护膜一边实施电晕处理。具体而言，一边沿着长条状的保护膜的长度方向输送一边实施电晕处理。保护膜的输送速度例如为10m/min～20m/min。电极宽度(处理宽度)例如为1.3m～1.5m。电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种偏振片的制造方法，该方法包括：对具有相互对置的第一主面及第二主面、并且所述第一主面的表面粗糙度Ra为0.5μm以下的保护膜的所述第一主面进行表面改性；将所述保护膜的所述表面改性面与具有基材和表面处理层的层叠膜的所述表面处理层进行贴合而得到层叠体；以及在所述层叠体的所述基材侧层叠起偏器。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述表面改性通过电晕处理或等离子体处理中的至少一者进行。3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，通过所述表面改性，使所述第一主面的表面粗糙度Ra减少0.1μm～0.4μm。4.根据权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，所述表面改性后的所述第一主面的表面粗糙度Ra为0.15μm以下。5...

【专利技术属性】
技术研发人员：长田兴，小岛理，后藤周作，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：