本发明专利技术涉及基板支撑装置用基板支撑组装体，本发明专利技术的特征在于，包括：夹头底座，支撑待处理的基板，在外周面附近，沿着周围方向形成设置收纳部，在通过设置收纳部包围的内侧部分形成向上方开放的收容槽，能够以旋转轴为中心进行旋转；夹头销，配置在夹头底座的设置收纳部上部，能够沿着远离和靠近基板的方向移动；器具部，配置于设置收纳部内，与夹头销相连接，用于使夹头销移动；驱动部，用于向器具部传递动力；以及超声波清洁单元，收容在收容槽，在夹头底座的外周面附近沿着周围方向形成的设置收纳部内集中配置器具部，在中心的收容槽收纳超声波清洁单元，因此，可具有能够通过超声波发生单元清洁基板的背面的功能效果。发生单元清洁基板的背面的功能效果。发生单元清洁基板的背面的功能效果。
【技术实现步骤摘要】
基板处理装置用基板支撑组装体
[0001]本专利技术涉及基板处理装置用基板支撑组装体，更详细地，涉及如下的基板支撑组装体，即，为了清洁或干燥等半导体工序，在支撑基板的状态下使其进行旋转。
技术介绍
[0002]通常，半导体设备是通过在基板上以薄膜形态蒸镀多种物质并将其碳化来制造的，为此，需要进行蒸镀工序、光刻工序、蚀刻工序、清洁工序及干燥工序等多种不同步骤的工序。
[0003]其中，清洁工序和干燥工序为去除存在于上述基板上的异物或粒子等之后进行干燥的工序，通过在将基板支撑在旋转头部(夹头底座)上的状态下使其高速旋转并向基板的表面或背面供给处理液来进行。
[0004]通常，当上述旋转头部旋转时，为了防止基板向旋转头部的侧方向脱离而沿着上述旋转头部的周围方向设置多个夹头销，包括上述夹头销、旋转头部、器具部(机构)及用于驱动上述器具部的驱动部来构成基板支撑装置。
[0005]上述多个夹头销具有如下结构，即，在基板被把持在旋转头部上的把持位置与从基板分离的解除位置之间往复移动。
[0006]但是，在现有技术的基板支撑装置中，在与基板的背面相向的旋转头部的上部面形成有盖，通过设置于上述盖的挡板喷射清洁液或气体等物质来进行清洁。
[0007]因此，根据这种结构的现有技术，存在很难通过如超声波发生单元等具有其他清洁原理的装置来清洁基板的背面的缺点。
[0008]现有技术文献
[0009]专利文献
[0010]专利文献1：韩国授权专利公报第10
‑
1145775号(2012年05月07日)
技术实现思路
[0011]本专利技术为了解决上述现有技术的问题而提出，本专利技术的目的在于，提供如下的基板处理装置用基板支撑组装体，即，可通过如超声波发生单元的介质来清洁基板的背面。
[0012]为了实现上述目的，本专利技术的基板处理装置用基板支撑组装体的特征在于，包括：夹头底座，支撑待处理的基板，在外周面附近，沿着周围方向形成设置收纳部，在通过上述设置收纳部包围的内侧部分形成向上方开放的收容槽，能够以旋转轴为中心进行旋转；夹头销，配置在上述夹头底座的设置收纳部上部，能够沿着远离和靠近上述基板的方向移动；器具部，配置于上述设置收纳部内，与上述夹头销相连接，用于使夹头销移动；驱动部，用于向上述器具部传递动力；以及超声波清洁单元，收容在上述收容槽。
[0013]本专利技术的特征在于，在上述夹头底座的收容槽底部或夹头底座的侧壁贯通形成排水孔。
[0014]本专利技术的特征在于，在上述夹头底座的收容槽底部形成的排水孔与上述设置收纳
部的内侧边缘相邻。
[0015]本专利技术的特征在于，在上述收容槽的底部中心形成用于插入上述超声波清洁单元的下部突出部的插入槽，与上述插入槽相邻地，在上述收容槽的底部，包围上述超声波清洁单元的下部突出部的外周面的隔断壁向上方突出形成。
[0016]本专利技术的特征在于，上述超声波清洁单元能够以靠近或远离上述基板的方式进行升降。
[0017]本专利技术的特征在于，当从俯视图观察时，上述超声波清洁单元以旋转轴为中心沿着半径方向延伸而成，其宽度从旋转轴朝向前端逐渐变大并从规定位置开始恒定。
[0018]本专利技术的特征在于，在上述超声波清洁单元的内部形成用于接收清洁液并朝向基板喷射的内部清洁流路，在外部设置1个以上的清洁液外部供给喷嘴。
[0019]本专利技术的特征在于，当从俯视图观察时，上述内部清洁流路在夹头底座的中心附近，配置在上述超声波清洁单元的宽度方向中心。
[0020]本专利技术的特征在于，上述超声波清洁单元的外部与清洁液内部供给喷嘴相连接，上述清洁液内部供给喷嘴与上述内部清洁流路的入口相连接，当从俯视图观察时，上述清洁液内部供给喷嘴的供给部朝向上述内部清洁流路的出口的中心延伸而成。
[0021]本专利技术的特征在于，上述内部清洁流路的出口形成于上述超声波清洁单元的上部面，上述内部清洁流路以朝向上述基板的方式倾斜而成，当从俯视图观察时，在上述超声波清洁单元的上部露出的内部清洁流路的上述半径方向的两端部中的至少一个以上述旋转轴为中心来位于半径方向的相反侧。
[0022]本专利技术的特征在于，当从俯视图观察时，上述清洁液外部供给喷嘴以上述旋转轴为中心，相对于一个半径方向倾斜配置，以具有上述夹头底座的旋转方向成分，具有朝向上述基板的边缘的成分，在上述基板的中心朝向边缘方向，在超声波清洁单元长度的1/5～4/5范围位置喷射清洁液。
[0023]本专利技术的特征在于，在上述夹头底座的下方隔开配置的下部固定框架设置有用于检测基板的第一对射式传感器，在上述夹头底座的收容槽底部形成用于使上述第一对射式传感器的光透射的透光孔，在基板上方隔开配置的上部固定框架配置有用于检测上述第一对射式传感器的光的第二对射式传感器。
[0024]本专利技术的特征在于，在上述夹头底座的收容槽底部设置通过覆盖上述透光孔来进行密封并使光透射的密封窗，上述密封窗配置在1个位置以上。
[0025]根据具有如上所述的结构的本专利技术的基板处理装置用基板支撑组装体，本专利技术可具有如下的效果，即，可在夹头底座的外周面附近沿着周围方向形成的设置收纳部内集中配置器具部，在中心的收容槽收纳超声波清洁单元，从而通过超声波发生单元清洁基板的背面。
[0026]并且，根据本专利技术，本专利技术具有如下的效果，即，调节支撑销等的位置，以使上述设置收纳部的内周面靠近基板的外周面，若将超声波发生单元准确地安装在上述收容槽，则可对整个基板进行均匀且有效的超声波清洁。
[0027]并且，根据本专利技术，本专利技术具有如下的效果，即，在上述收容槽的底部或夹头底座的侧壁贯通形成排水孔，从而防止从基板上供给并流入到收容槽的清洁液或干燥液等药液轻松从收容槽排出并累积。
[0028]并且，根据本专利技术，本专利技术具有如下的效果，即，上述排水孔可以使流入到上述收容槽的药液迅速排出，同时，当夹头底座旋转时，可通过离心力，使药液轻松向上述收容槽底部的排水孔移动并排出。
[0029]并且，根据本专利技术，本专利技术具有如下的效果，即，在上述收容槽的底部中心形成用于插入上述超声波清洁单元的下部突出部的插入槽，当与上述插入槽相邻地，在上述收容槽的底部，包围上述超声波清洁单元的下部突出部的外周面的隔断壁向上方突出形成时，可防止通过上述隔断壁流入到收容槽的药液通过中心的插入槽向马达等流入。
[0030]并且，根据本专利技术，本专利技术具有如下的效果，即，上述超声波清洁单元能够以靠近或远离上述基板的方式进行升降，用于调节超声波强度，由此基板的种类可根据工序适当地调节对于上述基板的清洁效果。
[0031]并且，根据本专利技术，本专利技术具有如下的效果，即，上述超声波清洁单元具有能够以旋转轴为中心沿着半径方向延伸的形状，其宽度从旋转轴朝向前端逐渐变大并从规定位置开始恒定，即，外壁相互并排形成，因此，可以使超声波清洁单元在上述收容槽的底部占据的面积最小化。
[0032]并且，根据本专利技术，本专利技术具有如下的效本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，包括：夹头底座，支撑待处理的基板，在外周面附近，沿着周围方向形成设置收纳部，在通过上述设置收纳部包围的内侧部分形成向上方开放的收容槽，能够以旋转轴为中心进行旋转；夹头销，配置在上述夹头底座的设置收纳部上部，能够沿着远离和靠近上述基板的方向移动；器具部，配置于上述设置收纳部内，与上述夹头销相连接，用于使夹头销移动；驱动部，用于向上述器具部传递动力；以及超声波清洁单元，收容在上述收容槽。2.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，在上述夹头底座的收容槽底部或夹头底座的侧壁贯通形成排水孔。3.根据权利要求2所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，在上述夹头底座的收容槽底部形成的排水孔与上述设置收纳部的内侧边缘相邻。4.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，在上述收容槽的底部中心形成用于插入上述超声波清洁单元的下部突出部的插入槽，与上述插入槽相邻地，在上述收容槽的底部，包围上述超声波清洁单元的下部突出部的外周面的隔断壁向上方突出形成。5.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，上述超声波清洁单元能够以靠近或远离上述基板的方式进行升降。6.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，当从上方观察时，上述超声波清洁单元以旋转轴为中心沿着半径方向延伸而成。7.根据权利要求6所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，当从上方观察时，上述超声波清洁单元的宽度从旋转轴朝向上述半径方向逐渐变大并从规定位置开始恒定。8.根据权利要求6所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，在上述超声波清洁单元的内部形成用于接收清洁液并朝向基板喷射的内部清洁流路，在外部设置1个以上的清洁液外部供给喷嘴。9.根据权利要求8所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，当从上方观察时，...
【专利技术属性】
技术研发人员：李泽烨，
申请(专利权)人：得八益十意恩至，
类型：发明
国别省市：
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