带防污层的光学薄膜制造技术

本发明专利技术的带防污层的光学薄膜(F)朝着厚度方向(T)依次具备透明基材(10)和防污层(30)。防污层(30)的与透明基材(10)相反的表面(31)侧的、通过利用X射线光电子能谱法进行的元素分析而检测到的F相对于Si的比率在分析深度为1nm时为20以上。1nm时为20以上。1nm时为20以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带防污层的光学薄膜


[0001]本专利技术涉及带防污层的光学薄膜。

技术介绍

[0002]从防污性的观点出发，在触摸面板显示器等显示器的图像显示侧的外表面粘贴有例如带防污层的光学薄膜。带防污层的光学薄膜具备透明基材和防污层，所述防污层配置在该透明基材的一面侧的最表面。利用防污层来抑制手油脂等污染物质附着于显示器表面，另外，所附着的污染物质容易被去除。关于这种带防污层的光学薄膜的相关技术，在例如下述专利文献1中有所记载。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2020
‑
52221号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]在使用带防污层的光学薄膜时，附着于防污层的污染物质通过例如擦拭操作而被去除。然而，重复对防污层进行擦拭操作会成为防污层的防污性降低的原因。从带防污层的光学薄膜的防污功能的观点出发，不优选防污层的防污性降低。
[0008]本专利技术提供适于抑制防污层的防污性降低的带防污层的光学薄膜。
[0009]用于解决问题的方案
[0010]本专利技术[1]包括一种带防污层的光学薄膜，其朝着厚度方向依次具备透明基材和防污层，前述防污层的与前述透明基材相反的表面侧的、通过利用X射线光电子能谱法进行的元素分析而检测到的F相对于Si的比率在分析深度为1nm时为20以上。
[0011]本专利技术[2]包括上述[1]所述的带防污层的光学薄膜，其中，前述防污层中的前述比率从分析深度1nm朝着分析深度5nm单调递减。
[0012]本专利技术[3]包括上述[1]或[2]所述的带防污层的光学薄膜，其中，前述防污层含有具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。
[0013]本专利技术[4]包括上述[1]～[3]中任一项所述的带防污层的光学薄膜，其中，前述防污层为干法涂布膜。
[0014]本专利技术[5]包括上述[1]～[4]中任一项所述的带防污层的光学薄膜，其中，在前述透明基材与前述防污层之间具备无机氧化物基底层，在该无机氧化物基底层上配置有前述防污层。
[0015]本专利技术[6]包括上述[5]所述的带防污层的光学薄膜，其中，前述无机氧化物基底层包含二氧化硅。
[0016]本专利技术[7]包括上述[5]或[6]所述的带防污层的光学薄膜，其中，前述无机氧化物基底层的前述防污层侧的表面具有0.5nm以上且10nm以下的表面粗糙度Ra。
[0017]专利技术的效果
[0018]本专利技术的带防污层的光学薄膜中，如上所述，防污层的与透明基材相反的表面侧的、通过利用X射线光电子能谱法进行的元素分析而检测到的F相对于Si的比率在分析深度为1nm时为20以上。因此，本带防污层的光学薄膜适于抑制防污层的防污性降低。
附图说明
[0019]图1是本专利技术的光学薄膜的一个实施方式的截面示意图。
[0020]图2是本专利技术的光学薄膜的变形例的截面示意图(本变形例不具备光学功能层)。
具体实施方式
[0021]作为本专利技术的带防污层的光学薄膜的一个实施方式的光学薄膜F如图1所示那样，朝着厚度方向T的一面侧依次具备透明基材10、光学功能层20和防污层30。本实施方式中，光学薄膜F朝着厚度方向T的一面侧依次具备透明基材10、密合层41、光学功能层20和防污层30。另外，光学薄膜F具有在与厚度方向T正交的方向(面方向)上扩展的形状。
[0022]本实施方式中，透明基材10朝着厚度方向T的一面侧依次具备树脂薄膜11和硬涂层12。
[0023]树脂薄膜11为具有挠性的透明树脂薄膜。作为树脂薄膜11的材料，可列举出例如聚酯树脂、聚烯烃树脂、聚苯乙烯树脂、丙烯酸类树脂、聚碳酸酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、纤维素树脂、降冰片烯树脂、聚芳酯树脂和聚乙烯醇树脂。作为聚酯树脂，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯。作为聚烯烃树脂，可列举出例如聚乙烯、聚丙烯和环烯烃聚合物(COP)。作为纤维素树脂，可列举出例如三乙酸纤维素(TAC)。这些材料可以单独使用，也可以组合使用两种以上。作为树脂薄膜11的材料，从透明性和强度的观点出发，使用选自由聚酯树脂、聚烯烃树脂和纤维素树脂组成的组中的一种，更优选使用选自由PET、COP和TAC组成的组中的一种。
[0024]树脂薄膜11的硬涂层12侧的表面可以进行了表面改性处理。作为表面改性处理，可列举出例如电晕处理、等离子体处理、臭氧处理、底漆处理、辉光处理和偶联剂处理。
[0025]从强度的观点出发，树脂薄膜11的厚度优选为5μm以上、更优选为10μm以上、进一步优选为20μm以上。从处理性的观点出发，树脂薄膜11的厚度优选为300μm以下、更优选为200μm以下。
[0026]树脂薄膜11的总透光率(JIS K 7375
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2008)优选为80％以上、更优选为90％以上、进一步优选为95％以上。这种构成适于确保在触摸面板显示器等显示器的表面具备光学薄膜F时对该光学薄膜F要求的透明性。树脂薄膜11的总透光率例如为100％以下。
[0027]硬涂层12配置在树脂薄膜11的厚度方向T的一面上。硬涂层12是用于使光学薄膜F的露出表面(在图1中为上表面)不易形成划痕的层。
[0028]硬涂层12为固化性树脂组合物的固化物。作为固化性树脂组合物中含有的固化性树脂，可列举出例如聚酯树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯树脂、丙烯酸类氨基甲酸酯树脂、酰胺树脂、有机硅树脂、环氧树脂和三聚氰胺树脂。这些固化性树脂可以单独使用，也可以组合使用两种以上。从确保硬涂层12的高硬度的观点出发，作为固化性树脂，优选使用丙烯
酸类氨基甲酸酯树脂。
[0029]另外，作为固化性树脂组合物，可列举出例如紫外线固化型的树脂组合物和热固化型的树脂组合物。从因不经高温加热即可固化而有助于提高光学薄膜F的制造效率的观点出发，作为固化性树脂组合物，优选使用紫外线固化型的树脂组合物。紫外线固化型的树脂组合物包含选自由紫外线固化型单体、紫外线固化型低聚物和紫外线固化型聚合物组成的组中的至少一种。作为紫外线固化型的树脂组合物的具体例，可列举出日本特开2016
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179686号公报中记载的硬涂层形成用组合物。
[0030]固化性树脂组合物可以含有微粒。对固化性树脂组合物配混微粒有助于调整硬涂层12的硬度、调整表面粗糙度、调整折射率和赋予防眩性。作为微粒，可列举出例如金属氧化物颗粒、玻璃颗粒和有机颗粒。作为金属氧化物颗粒的材料，可列举出例如二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化锆、氧化钙、氧化锡、氧化铟、氧化镉和氧化锑。作为有机颗粒的材料，可列举出例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸类
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苯乙烯共聚物、苯并胍胺、三聚氰胺和聚碳酸酯。
[0031]从通过确保硬涂层12的硬度来确保防污层30表面的硬度的观点出发，硬涂层12的厚度优本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种带防污层的光学薄膜，其朝着厚度方向依次具备透明基材和防污层，所述防污层的与所述透明基材相反的表面侧的、通过利用X射线光电子能谱法进行的元素分析而检测到的F相对于Si的比率在分析深度为1nm时为20以上。2.根据权利要求1所述的带防污层的光学薄膜，其中，所述防污层中的所述比率从分析深度1nm朝着分析深度5nm单调递减。3.根据权利要求1或2所述的带防污层的光学薄膜，其中，所述防污层含有具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。4.根据权利要求1～3中任...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫本幸大，梨木智刚，角田丰，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：