一种抛光机制造技术

技术编号:37133177 阅读:21 留言:0更新日期:2023-04-06 21:31
本实用新型专利技术涉及抛光机技术领域,公开了一种抛光机,包括有主体、抛光盘和定位盘,主体包括底座、控制系统和驱动系统,抛光盘连接于驱动系统,抛光盘包括有上转动盘,上转动盘远离驱动系统的一侧表面依次设置有保护膜和上胶垫,定位盘设置于底座上,定位盘与上转动盘对应设置,且定位盘上设置有下胶垫,本方案通过在上转动盘与上胶垫之间设置一层保护膜,能够避免抛光过程在胶垫外边缘产生抛光粉的堆积,避免抛光粉成块后掉落造成待抛光件的不良,同时能够减少后期保养时的清洁时间,并且可以增加上胶垫的粘贴粘性和对胶垫起到保护作用,增加上胶垫的使用寿命。加上胶垫的使用寿命。加上胶垫的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光机


[0001]本技术涉及抛光机
,尤其涉及一种抛光机。

技术介绍

[0002]触控显示领域的基片通常采用化学机械抛光技术进行表面研磨,通过化学作用过程和机械作用过程的交替进行实现基片表面的研磨抛光,达到符合触控显示屏幕所需的基片微观波纹度和表面质量。具体的,抛光机上盘一般是铝合金材质,触控显示屏幕用基片进行抛光前,先要在抛光机上盘贴附对应基片大小的抛光胶垫,接着将待抛光基片贴附在胶垫表面,然后再对基片进行抛光加工处理,随着抛光加工的持续进行,胶垫的边缘会累积抛光粉,在进行抛光机保养时,每个上盘的胶垫边缘需要刮除抛光粉进行上盘清洁,对于每台抛光机来说需要耗费较长的时间进行清洁,增加了保养成本和保养时间,同时在抛光加工过程中胶垫的边缘会产生结块的抛光粉,在积累到一定数量后结块的抛光粉会从上盘掉落到下盘,容易产生基片的划伤,从而降低了基片抛光的良率。
[0003]因此,如何改善抛光机的生产良率和提高抛光机的清洁效率,已经成为行业内迫切需要解决的一个问题。

技术实现思路

[0004]本技术旨在解决至少一个
技术介绍
中的问题。为此,本技术提出一种抛光机,所述抛光机具有良好的,并且。
[0005]根据本技术实施例的一种抛光机,包括有主体、抛光盘和定位盘,所述主体包括底座、控制系统和驱动系统;所述抛光盘连接于所述驱动系统,所述抛光盘包括有上转动盘,所述上转动盘远离所述驱动系统的一侧表面依次设置有保护膜和上胶垫;所述定位盘设置于底座上,所述定位盘与所述上转动盘对应设置,且所述定位盘上设置有下胶垫,通过在上转动盘与上胶垫之间设置一层保护膜,能够避免抛光过程在胶垫外边缘产生抛光粉的堆积,避免抛光粉成块后掉落造成待抛光件的不良,同时能够减少后期保养时的清洁时间,并且可以增加上胶垫的粘贴粘性和对胶垫起到保护作用,增加上胶垫的使用寿命。
[0006]根据本技术的另一个实施例,所述保护膜为PE膜、PET膜或PVC膜中的一种。
[0007]根据本技术的另一个实施例,所述保护膜的厚度在1mm

3mm之间。
[0008]根据本技术的另一个实施例,所述保护膜贴附在所述上转动盘远离所述驱动系统的一侧表面上。
[0009]根据本技术的另一个实施例,所述上胶垫位于所述上转动盘的中部,且所述上胶垫贴附于所述上转动盘的面积小于所述保护膜的贴附于所述上转动盘的面积。
[0010]根据本技术的另一个实施例,所述定位盘的面积大于所述上转动盘的面积,且所述上转动盘的投影图形全部落在所述定位盘内。
[0011]根据本技术的另一个实施例,所述上转动盘和所述定位盘的截面图形为圆形、椭圆形、方形中的一种。
[0012]根据本技术的另一个实施例,所述下胶垫为聚氨酯垫。
[0013]根据本技术的另一个实施例,所述驱动系统包括驱动电机和机械手,所述上转动盘与所述机械手的一端连接。
[0014]根据本技术的另一个实施例,所述机械手、所述上转动盘和所述定位盘与所述控制系统电连接。
[0015]与现有技术相比,本技术具有以下有益效果:
[0016]本技术公开了一种抛光机,包括有主体、抛光盘和定位盘,主体包括底座、控制系统和驱动系统,抛光盘连接于驱动系统,抛光盘包括有上转动盘,上转动盘远离驱动系统的一侧表面依次设置有保护膜和上胶垫,定位盘设置于底座上,定位盘与上转动盘对应设置,且定位盘上设置有下胶垫,本方案通过在上转动盘与上胶垫之间设置一层保护膜,能够避免抛光过程在胶垫外边缘产生抛光粉的堆积,避免抛光粉成块后掉落造成待抛光件的不良,同时能够减少后期保养时的清洁时间,并且可以增加上胶垫的粘贴粘性和对胶垫起到保护作用,增加上胶垫的使用寿命。
[0017]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0018]附图仅用于示出实施方式,而并不认为是对本技术的限制。而且在整个附图中,用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中:
[0019]图1为本申请提供的抛光机的实施例的剖面示意图;
[0020]图2为本申请提供的抛光机的上转动盘的实施例的剖面示意图;
[0021]图中标记的含义为:
[0022]100、抛光机;110、主体;111、底座;112、控制系统;113、驱动系统;
[0023]1131、机械手;120、抛光盘;121、上转动盘;122、保护膜;
[0024]123、上胶垫;130、定位盘;131、下胶垫;200、基板。
具体实施方式
[0025]下面详细描述本技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本技术,而不能理解为对本技术的限制。
[0026]在本技术的描述中,需要理解的是,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
[0027]在本技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0028]为说明本申请提供的抛光机,以下结合说明书附图及实施例的文字说明进行详细阐述。
[0029]下面参考图1和图2描述根据本技术实施例的一种抛光机100,包括有主体110,抛光盘120和定位盘130,具体的,主体110包括底座111、控制系统112和驱动系统113,控制系统112和驱动系统113均设置在底座111上,可以理解的是,抛光机100通过控制系统112来调节参数,进而驱动系统113带动相应的部件进行抛光工序,进一步的,上转动盘121连接于驱动系统113,即驱动系统113带动抛光盘120转动从而实现基板200的抛光工序,具体的,抛光盘120包括有上转动盘121,上转动盘121远离驱动系统113的一侧表面依次设置有保护膜122和上胶垫123,即通过上转动盘121与基板200连接的表面依次设置保护膜122和上胶垫123,进而将需要抛光的基板200上转动盘121和定位盘130之间实现抛光,进一步的,定位盘130设置于底座111上,并且定位盘130与上转动盘121对应设置,同时定位盘130上设置有下胶垫131,可以理解的是,上转动盘121的上胶垫123和定位盘130的下胶垫131用于将待抛光的基板200进行定位和固定,进而通过驱动系统113带动上转动盘121转动从而实现基板200的抛光工本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光机,其特征在于,包括有:主体,所述主体包括底座、控制系统和驱动系统;抛光盘,所述抛光盘连接于所述驱动系统,所述抛光盘包括有上转动盘,所述上转动盘远离所述驱动系统的一侧表面依次设置有保护膜和上胶垫;定位盘,所述定位盘设置于底座上,所述定位盘与所述上转动盘对应设置,且所述定位盘上设置有下胶垫。2.如权利要求1所述的抛光机,其特征在于,所述保护膜为PE膜、PET膜或PVC膜中的一种。3.如权利要求1所述的抛光机,其特征在于,所述保护膜的厚度在1mm

3mm之间。4.如权利要求1所述的抛光机,其特征在于,所述保护膜贴附在所述上转动盘远离所述驱动系统的一侧表面上。5.如权利要求4所述的抛光机,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:申屠江民王连彬祝宇乔其爽李进
申请(专利权)人:浙江莱宝科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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