一种阳极室的液体管理方法，包括如下步骤：准备镀敷槽，上述镀敷槽配置有阳极和与上述阳极的上表面接触或者紧贴的隔膜，并具备由上述隔膜分隔出的上方的阴极室和下方的阳极室以及与上述阳极室连通而用于从上述阳极室向上述镀敷槽的外部排出气泡的排气通路；在上述阳极室和上述阴极室保持镀敷液，并使上述阳极室的镀敷液的液面亦即上述排气通路内的镀敷液的液面比上述阴极室的镀敷液的液面低；基于配置于上述排气通路内的液面传感器的输出，辨别上述排气通路内的镀敷液的液面的高度是否不足规定高度；以及在辨别为上述排气通路内的镀敷液的液面的高度不足规定高度时，对上述阳极室供给纯水或者电解液。阳极室供给纯水或者电解液。阳极室供给纯水或者电解液。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阳极室的液体管理方法和镀敷装置
[0001]本专利技术涉及阳极室的液体管理方法，特别是涉及镀敷装置的阳极室的液体管理方法和镀敷装置。
技术介绍
[0002]作为能够在半导体晶圆等的基板实施镀敷处理的镀敷装置，公知有记载于美国专利申请公开第2020
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0017989号说明书(专利文献1)那样的镀敷装置。该镀敷装置具备：镀敷槽，其存积镀敷液并且配置有阳极；基板保持架，其以使作为阴极的基板与阳极相向而配置的方式保持该基板；和隔膜，其配置于上述阳极与上述基板保持架之间并将镀敷槽内部分隔为阳极室和阴极室，上述镀敷装置使镀敷液沿着基板的表面流动。隔膜在固定于镀敷槽内的框架的下侧配置，但若阴极室的压力比阳极室的压力高，则存在如下情况：隔膜离开框架而向下方延伸，在框架与隔膜之间形成捕捉气泡的兜孔。为了防止这样的现象，在美国专利申请公开第2020
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0017989号说明书(专利文献1)的装置中，以使阳极室的压力比阴极室的压力高的方式调整镀敷液向阳极室的供给，防止隔膜向下方延伸。
[0003]专利文献1：美国专利申请公开第2020
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0017989号说明书
[0004]在如由申请人提出的[国际专利申请第PCT/JP2022/016809号]记载的镀敷模块那样使隔膜(膜片)与阳极紧贴的构造中，为了通过阴极室与阳极室之间的压力差而保证隔膜与阳极的紧贴，需要始终将阳极室的镀敷液(阳极液)的液面控制得比阴极室的镀敷液(阴极液)的液面低。此外，需要防止阳极液的枯竭。
专利
技术实现思路
[0005]本专利技术是鉴于上述情况而完成的，目的之一在于在镀敷装置中，将阳极液的液面控制得比阴极液的液面低，并且防止阳极液的减少或者枯竭。
[0006]根据本专利技术的一方面，提供阳极室的液体管理方法，包括如下步骤：准备镀敷槽，上述镀敷槽配置有阳极和与上述阳极的上表面接触或者紧贴的隔膜，并具备由上述隔膜分隔出的上方的阴极室和下方的阳极室以及与上述阳极室连通而用于从上述阳极室向上述镀敷槽的外部排出气泡的排气通路；在上述阳极室和上述阴极室保持镀敷液，并使上述阳极室的镀敷液的液面亦即上述排气通路内的镀敷液的液面比上述阴极室的镀敷液的液面低；基于配置于上述排气通路内的液面传感器的输出，辨别上述排气通路内的镀敷液的液面的高度是否不足规定高度；以及在辨别为上述排气通路内的镀敷液的液面的高度不足规定高度时，对上述阳极室供给纯水或者电解液。
附图说明
[0007]图1是表示一实施方式所涉及的镀敷装置的整体结构的立体图。
[0008]图2是表示一实施方式所涉及的镀敷装置的整体结构的俯视图。
[0009]图3是用于对一实施方式所涉及的镀敷模块的结构进行说明的剖视图。
[0010]图4是将镀敷模块的局部放大的剖视图。
[0011]图5是阳极附近的放大剖视图。
[0012]图6是表示隔膜71向阳极41固定的固定构造的例子的剖视图。
[0013]图7是表示隔膜71向阳极41固定的固定构造的例子的剖视图。
[0014]图8是阳极室液管理控制的流程图。
[0015]图9是实验用的镀敷模块(无隔膜)的照片。
[0016]图10是实验用的镀敷模块(有隔膜)的照片。
[0017]图11是镀敷中的阳极电压的测定结果。
[0018]图12A是镀敷前的镀敷模块(无隔膜)的照片。
[0019]图12B是镀敷中的镀敷模块(无隔膜)的照片。
[0020]图13A是镀敷前的镀敷模块(有隔膜)的照片。
[0021]图13B是镀敷中的镀敷模块(有隔膜)的照片。
具体实施方式
[0022]以下，参照附图对本专利技术的实施方式所涉及的镀敷装置1000进行说明。另外，附图为了容易理解物体的特征而示意性地图示，不局限于各结构要素的尺寸比率等与实际相同这种情况。此外，几个附图中作为参考用而图示X
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Y
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Z的正交坐标。在该正交坐标中，Z方向相当于上方，
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Z方向相当于下方(重力作用的方向)。
[0023](第1实施方式)
[0024]图1是表示本实施方式的镀敷装置1000的整体结构的立体图。图2是表示本实施方式的镀敷装置1000的整体结构的俯视图。如图1和图2所示，镀敷装置1000具备装载口100、搬运机器人110、对准器120、预湿模块200、预浸模块300、镀敷模块400、清洗模块500、旋转清洗干燥器600、搬运装置700和控制模块800。
[0025]装载口100是用于向镀敷装置1000中搬入收纳于未图示的FOUP等盒的晶圆(基板)、或者从镀敷装置1000中将基板搬出至盒的模块。在本实施方式中，四台装载口100沿水平方向排列配置，但装载口100的数量和配置方式是任意的。搬运机器人110是用于搬运基板的机器人，且构成为在装载口100、对准器120、预湿模块200和旋转清洗干燥器600之间交接基板。搬运机器人110和搬运装置700在搬运机器人110与搬运装置700之间交接基板时，能够经由临时放置台(未图示)进行基板的交接。
[0026]对准器120是用于使基板的定向平面、凹口等位置对准于规定方向的模块。在本实施方式中，两台对准器120在水平方向上排列配置，但对准器120的数量和配置方式是任意的。预湿模块200通过使镀敷处理前的基板的被镀敷面以纯水或者脱气水等处理液湿润，从而将形成于基板表面的图案内部的空气置换为处理液。预湿模块200构成为，通过在镀敷时将图案内部的处理液置换为镀敷液，从而实施容易对图案内部供给镀敷液的预湿式处理。在本实施方式中，两台预湿模块200在上下方向上排列配置，但预湿模块200的数量和配置方式是任意的。
[0027]预浸模块300构成为实施预浸处理，上述预浸处理例如利用硫酸、盐酸等处理液蚀刻除去形成于镀敷处理前的基板的被镀敷面上的种子层表面等所存在的电阻大的氧化膜而清洗或者活化镀敷基底表面。在本实施方式中，两台预浸模块300在上下方向上排列配
置，但预浸模块300的数量和配置方式是任意的。镀敷模块400在基板上实施镀敷处理。在本实施方式中，存在两组在上下方向上排列三台并且在水平方向上排列配置四台这种12台镀敷模块400，设置有合计24台镀敷模块400，但镀敷模块400的数量和配置方式是任意的。
[0028]清洗模块500构成为为了除去残留于镀敷处理后的基板的镀敷液等而对基板实施清洗处理。在本实施方式中，两台清洗模块500在上下方向上排列配置，但清洗模块500的数量和配置方式是任意的。旋转清洗干燥器600是用于使清洗处理后的基板高速旋转而使基板干燥的模块。在本实施方式中，两台旋转清洗干燥器600在上下方向上排列配置，但旋转清洗干燥器600的数量和配置方式是任意的。搬运装置700是用于在镀敷装置1000内的多个模块间搬运基板的装置。控制模块800构成为控制镀敷装置1000的多个模块，能够通过例如具备自身与操作人员之本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种阳极室的液体管理方法，其特征在于，包括如下步骤：准备镀敷槽，所述镀敷槽配置有阳极和与所述阳极的上表面接触或者紧贴的隔膜，并具备由所述隔膜分隔出的上方的阴极室和下方的阳极室以及与所述阳极室连通而用于从所述阳极室向所述镀敷槽的外部排出气泡的排气通路；在所述阳极室和所述阴极室保持镀敷液，并使所述阳极室的镀敷液的液面亦即所述排气通路内的镀敷液的液面比所述阴极室的镀敷液的液面低；基于配置于所述排气通路内的液面传感器的输出，辨别所述排气通路内的镀敷液的液面的高度是否不足规定高度；以及在辨别为所述排气通路内的镀敷液的液面的高度不足规定高度时，对所述阳极室供给纯水或者电解液。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述阳极室保持镀敷液，并使所述阳极室的镀敷液的液面的高度成为所述阳极室的镀敷液比溢流高度低的高度。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，对所述阳极室供给纯水或者电解液，以使所述阳极室的镀敷液的液面的高度成为所述阳极室的镀敷液比溢流高度低的高度。4.根据权利要求1～3中任一项所述的方法，其特征在于，包括如下步骤：在所述阳极室的镀敷液的液面上升了时，在比所述阴极室的镀敷液溢流的高度低的高度，使所述阳极室的镀敷液溢流。5.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其特征在于，还包括如下步骤：不使所述阳极室的镀敷液循环，使所述阴极室的镀敷液循环。6.根据权利要求1～5中任一项所述的方法，其特征在于，包括如下步骤：向所述阳极室和所述阴极室导入相同组成的镀...
【专利技术属性】
技术研发人员：富田正辉，増田泰之，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：
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