转印膜、转印膜的制造方法、偏振片及图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种转印膜、转印膜的制造方法、偏振片及图像显示装置，该转印膜用于转印光学各向异性层，并且在通过包括转印光学各向异性层的工序的方法制造的图像显示装置中，在外光下观察时缺陷少。一种转印膜，其包含含有基材的伪支撑体及光学各向异性层，其中，基材在波长550nm下的面内延迟为0～20nm，光学各向异性层是使用液晶化合物形成的层，并且将从转印膜剥离伪支撑体而得到的光学各向异性层在规定的环境下静置后的、光学各向异性层的面内方向上的尺寸变化率的最大值设为ΔL(max)、将尺寸变化率的最小值设为ΔL(min)时，满足式(1)和式(2)中的至少一方。式(1)ΔL(max)/ΔL(min)≤1.5，式(2)ΔL(max)≤0.08％。式(2)ΔL(max)≤0.08％。

【技术实现步骤摘要】
转印膜、转印膜的制造方法、偏振片及图像显示装置


[0001]本专利技术涉及一种转印膜、转印膜的制造方法、偏振片及图像显示装置。

技术介绍

[0002]具有折射率各向异性的光学各向异性层被适用于图像显示装置的防反射膜及液晶显示装置的光学补偿膜等各种用途中。
[0003]例如，在专利文献1中公开了包含光学各向异性层(相位差层)的图像显示装置。尤其，在专利文献1中，使用了包括设置在脱模性支撑基材上的光学各向异性层的转印膜。
[0004]专利文献1：日本特开2019
‑
168692号公报
[0005]在使用如专利文献1中记载的包括光学各向异性层的转印膜时，大多在确认转印膜有无光学缺陷后适用于各种制造中。
[0006]本专利技术人等发现，在使用专利文献1中记载的转印膜制造图像显示装置时，在外光下观察得到的图像显示装置时确认到很多缺陷，需要进一步改良。

技术实现思路

[0007]鉴于上述实际情况，本专利技术的课题在于提供一种转印膜，其用于转印光学各向异性层，并且在通过包括转印光学各向异性层的工序的方法制造的图像显示装置中，在外光下观察时缺陷少。
[0008]并且，本专利技术的课题还在于提供一种转印膜的制造方法、偏振片及图像显示装置。
[0009]本专利技术人等对现有技术的问题点进行深入研究的结果，发现通过以下结构能够解决上述课题。
[0010](1)一种转印膜，其包括包含基材的伪支撑体及配置在伪支撑体上的光学各向异性层，其中，
[0011]基材在波长550nm下的面内延迟为0～20nm，
[0012]光学各向异性层是使用液晶化合物形成的层，
[0013]将从转印膜剥离伪支撑体而得到的光学各向异性层在温度25℃、相对湿度60％的环境下静置8天后的、光学各向异性层的面内方向上的尺寸变化率的最大值设为ΔL(max)、尺寸变化率的最小值设为ΔL(min)时，满足后述式(1)和式(2)中的至少一方。
[0014](2)根据(1)所述的转印膜，其中，伪支撑体还包含取向膜。
[0015](3)根据(1)或(2)所述的转印膜，其中，光学各向异性层是将沿着在厚度方向上延伸的螺旋轴扭曲取向的液晶化合物固定而成的层，或者是将均匀取向的液晶化合物固定而成的层。
[0016](4)根据(1)至(3)中任一项所述的转印膜，其中，光学各向异性层是将沿着在厚度方向上延伸的螺旋轴扭曲取向的液晶化合物固定而成的层，
[0017]液晶化合物的扭曲角为15～140
°
。
[0018](5)根据(4)所述的转印膜，其中，液晶化合物的扭曲角为60～91
°
。
[0019](6)一种包括伪支撑体及光学各向异性层的转印膜的制造方法，该方法包括工序1：在包含基材的伪支撑体上涂布含有具有聚合性基团的液晶化合物的液晶组合物而形成涂膜，使涂膜中的液晶化合物取向，对涂膜实施固化处理而形成光学各向异性层，该方法中，
[0020]将从转印膜剥离伪支撑体而得到的光学各向异性层在温度25℃、相对湿度60％的环境下静置8天后的、光学各向异性层的面内方向上的尺寸变化率最大的方向设为方向X时，转印膜中的伪支撑体的通过后述方法X计算出的方向X上的伪支撑体的尺寸变化率X为
‑
0.25％以下。
[0021](7)一种转印膜的制造方法，其包括：
[0022]工序1，在包含基材的伪支撑体上涂布含有具有聚合性基团的液晶化合物的液晶组合物而形成涂膜，使涂膜中的液晶化合物取向，对涂膜实施固化处理而形成光学各向异性层；以及
[0023]工序2，在工序1之后，使光学各向异性层与过热水蒸气接触。
[0024](8)一种偏振片，其包含从(1)至(5)中任一项中所述的转印膜剥离伪支撑体而得到的光学各向异性层以及偏振器。
[0025](9)根据(8)所述的偏振片，其中，
[0026]在光学各向异性层与偏振器之间还包含与光学各向异性层不同的其他光学各向异性层，
[0027]光学各向异性层是将沿着在厚度方向上延伸的螺旋轴扭曲取向的液晶化合物固定而成的层，
[0028]液晶化合物的扭曲角为60～91
°
，
[0029]光学各向异性层在波长550nm下的折射率各向异性Δn与光学各向异性层的厚度d之积Δnd为142～202nm，
[0030]其他光学各向异性层在波长550nm下的面内延迟为142～202nm。
[0031](10)一种图像显示装置，其包含(8)或(9)所述的偏振片。
[0032]专利技术效果
[0033]根据本专利技术，能够提供一种转印膜，其用于转印光学各向异性层，并且在通过包括转印光学各向异性层的工序的方法制造的图像显示装置中，在外光下观察时缺陷少。
[0034]并且，根据本专利技术，还能够提供一种转印膜的制造方法、偏振片及图像显示装置。
具体实施方式
[0035]以下，对本专利技术进行详细说明。
[0036]另外，在本说明书中，用“～”表示的数值范围是指将“～”前后所记载的数值作为下限值和上限值而包含的范围。
[0037]并且，如果没有特别说明，面内慢轴和面内快轴则为波长550nm下的定义。即，只要没有特别说明，例如，面内慢轴方向是指波长550nm下的面内慢轴的方向。
[0038]在本专利技术中，Re(λ)和Rth(λ)分别表示波长λ下的面内延迟和厚度方向上的延迟。没有特别记载时，波长λ为550nm。
[0039]在本专利技术中，Re(λ)和Rth(λ)是在AxoScan OPMF
‑
1(由Opto Science,Inc.制造)中
在波长λ下测量而得的值。通过AxoScan输入平均折射率((nx+ny+nz)/3)和膜厚(d(μm))，计算
[0040]面内慢轴方向(
°
)
[0041]Re(λ)＝R0(λ)
[0042]Rth(λ)＝((nx+ny)/2
‑
nz)
×
d。
[0043]另外，R0(λ)显示为利用AxoScan OPMF
‑
1计算的数值，表示Re(λ)。
[0044]在本说明书中，关于折射率nx、ny及nz，使用阿贝折射仪(NAR
‑
4T，由ATAGO CO.,LTD.制造)，并使用钠灯(λ＝589nm)作为光源进行测量。并且，在测量波长依赖性的情况下，能够利用多波长阿贝折射仪DR
‑
M2(由ATAGO CO.,LTD.制造)与干涉滤光器组合而进行测量。
[0045]并且，能够使用聚合物手册(JOHN WILEY&SONS,INC)和各种光学膜目录的值。将主要光学膜的平均折射率的值例示于以下：纤维素酰化物(1.48)、环烯烃聚合物(1.52)、聚碳酸酯(1.59)、聚甲基丙烯酸甲酯(1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种转印膜，其包括包含基材的伪支撑体及配置在所述伪支撑体上的光学各向异性层，其中，所述基材在波长550nm下的面内延迟为0～20nm，所述光学各向异性层是使用液晶化合物形成的层，将从所述转印膜剥离所述伪支撑体而得到的所述光学各向异性层在温度25℃、相对湿度60％的环境下静置8天后的、所述光学各向异性层的面内方向上的尺寸变化率的最大值设为ΔL(max)、将尺寸变化率的最小值设为ΔL(min)时，满足式(1)和式(2)中的至少一方，式(1)ΔL(max)/ΔL(min)≤1.5，式(2)ΔL(max)≤0.08％。2.根据权利要求1所述的转印膜，其中，所述伪支撑体还包含取向膜。3.根据权利要求1或2所述的转印膜，其中，所述光学各向异性层是将沿着在厚度方向上延伸的螺旋轴扭曲取向的液晶化合物固定而成的层，或者是将均匀取向的液晶化合物固定而成的层。4.根据权利要求1或2所述的转印膜，其中，所述光学各向异性层是将沿着在厚度方向上延伸的螺旋轴扭曲取向的液晶化合物固定而成的层，所述液晶化合物的扭曲角为15～140
°
。5.根据权利要求4所述的转印膜，其中，所述液晶化合物的扭曲角为60～91
°
。6.一种包括伪支撑体及光学各向异性层的转印膜的制造方法，所述方法包括工序1：在包含基材的所述伪支撑体上涂布含有具有聚合性基团的液晶化合物的液晶组合物而形成涂膜，使所述涂膜中的所述液晶化合物取向，对所述涂膜实施固化处理而形成所述光学各向异性层，将从所述转印膜剥离所述伪支撑体而得到的所述光学各向异性层在温度25℃、相对湿度60％的环境下静置8天后的、所述光学各向异性层的面内方向上的尺寸变化率最大的方向设为方向X时，所述转印膜中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：前田贤谦，高桥勇太，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：