一种耐磨抗氧化双银镀膜玻璃制造技术

技术编号:37105159 阅读:39 留言:0更新日期:2023-04-01 05:04
本技术涉及一种耐磨抗氧化双银镀膜玻璃,属于真空磁控溅射镀膜技术领域。包括玻璃基板以及镀覆在玻璃基板上的膜系结构;所述膜系结构从内向外依次为氮化硅SiNx层、氧化锌锡ZnSnOx层、氮化硅SiNx层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、氧化锌ZnOx层、氮化硅SiNx层、氧化锌锡ZnSnOx层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、氮化硅SiNx层、氮化铌NbNx层、氮化硅SiNx层和氮化锆ZrNx层。本实用新型专利技术通过磁控溅射的方法,溅射一层厚度15nm~50nm的氮化锆ZrNx层作为保护层,保护层的材料结构致密且具有很高的硬度,并且与下层材料的结合力好,可以对膜面起到很好的保护作用。好的保护作用。好的保护作用。

【技术实现步骤摘要】
一种耐磨抗氧化双银镀膜玻璃


[0001]本技术涉及一种耐磨抗氧化三银镀膜玻璃,属于真空磁控溅射镀膜


技术介绍

[0002]随着建筑节能要求越来越高,双银等高效节能产品逐步代替单银或双银镀膜玻璃。双银产品离线镀膜玻璃是在玻璃表面溅镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜,以改变玻璃的光学性能,满足某种特定需求的膜系产品。三银Low

E产品遮阳系数范围广,具有良好的透光性以及优异的隔热、保温性,可根据太阳能的透射量制作不同的产品,以适应不同地区的需要,可以有效地控制太阳辐射并反射远红外辐射,较普通单银镀膜玻璃更节能,应用也更广泛。
[0003]一般情况下双银Low

E玻璃不能单片使用,需要配合另一片玻璃组成中空产品。由于离线可钢化双银镀膜玻璃多用于深加工领域,需要经过数道工序的加工最终才能形成终端产品推向市场,每一道工序都有可能对产品造成损伤,经过的工序越多,周期越长损伤几率就越大。特别是长途运输以及后续加工会造成膜面划伤。主要原因是现有的膜层耐磨性不好,容易造成划伤。
[0004]市场现有镀膜抗划伤技术都有各种缺陷如类金刚石膜C石墨膜层镀制出来其表面吸附能力增强,经过工序清洗机水洗会吸附杂质,特别是在夏季潮湿时极易对膜层造成腐蚀氧化。二氧化钛薄膜具有多种结构,在溅射过程中会产生孔状缺陷,导致玻璃钢化后容易出现花纹状缺陷。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种新型的耐磨抗氧化双银镀膜玻璃,来技术上述问题。
[0006]为了实现上述目的,本技术采用的技术方案是:
[0007]一种耐磨抗氧化双银镀膜玻璃,包括玻璃基板以及镀覆在玻璃基板上的膜系结构;所述膜系结构从内向外依次为氮化硅SiNx层、氧化锌锡ZnSnOx层、氮化硅SiNx层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、氧化锌ZnOx层、氮化硅SiNx层、氧化锌锡ZnSnOx层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、氮化硅SiNx层、氮化铌NbNx层、氮化硅SiNx层和氮化锆ZrNx层。
[0008]本技术技术方案的进一步改进为:保护层使用ZrNx靶在玻璃最外面形成一种坚硬的保护膜氮化锆ZrNx层,氮化锆ZrNx层的膜层厚度为15

100nm之间。
[0009]本技术技术方案的进一步改进为:膜系结构从内向外各层厚度依次为氮化硅SiNx层35nm、氧化锌锡ZnSnOx层25nm、氮化硅SiNx层32nm、金属银Ag层10nm、金属镍铬NiCr层8nm、氧化锌ZnOx层15nm、氮化硅SiNx层40nm、氧化锌锡ZnSnOx层35nm、金属银Ag层14nm、金属镍铬NiCr层10nm、氮化硅SiNx层30nm、氮化铌NbNx层20nm、氮化硅SiNx层30nm、氮化锆ZrNx层45nm。
[0010]由于采用了上述技术方案,本技术取得的技术效果有:
[0011]本技术通过磁控溅射的方法,溅射一层厚度 15nm~50nm 的氮化锆ZrNx层。锆靶号称人造金刚石,材料结构致密且具有很高的硬度,并且与下层材料的结合力好,可以对膜面起到很好的保护作用,在后续加工、运输和储藏等过程中,能够防止膜面的划伤、压伤等机械损伤。
附图说明
[0012]图1是本技术结构示意图。
具体实施方式
[0013]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本技术。
[0014]本技术是一种耐磨抗氧化双银镀膜玻璃,是一种新型的镀膜玻璃。该镀膜玻璃包括玻璃基板以及镀覆在玻璃基板上的膜系结构。如图1所示,所述膜系结构从内向外依次为氮化硅SiNx层、氧化锌锡ZnSnOx层、氮化硅SiNx层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、氧化锌ZnOx层、氮化硅SiNx层、氧化锌锡ZnSnOx层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、氮化硅SiNx层、氮化铌NbNx层、氮化硅SiNx层和氮化锆ZrNx层。
[0015]本技术在玻璃最外侧设置保护层,保护层使用ZrNx靶在玻璃最外面形成一种坚硬的保护膜氮化锆ZrNx层。具体的,控制氮化锆ZrNx层的膜层厚度为15

100nm之间。
[0016]本技术在具体的实施中,需要控制各个膜层的厚度。优选的实施方式是:膜系结构从内向外各层厚度依次为氮化硅SiNx层35nm、氧化锌锡ZnSnOx层25nm、氮化硅SiNx层32nm、金属银Ag层10nm、金属镍铬NiCr层8nm、氧化锌ZnOx层15nm、氮化硅SiNx层40nm、氧化锌锡ZnSnOx层35nm、金属银Ag层14nm、金属镍铬NiCr层10nm、氮化硅SiNx层30nm、氮化铌NbNx层20nm、氮化硅SiNx层30nm、氮化锆ZrNx层45nm。
[0017]具体的制作方法如下:
[0018]1)、选用优质浮法玻璃基片经本特勒清洗机进入真空腔,真空腔本底真空度为5.0*10

6 mbar以上。
[0019]2)、镀膜腔通过输入溅射反应气体把真空度控制在2.0x10
‑3ꢀ‑
5.0x10
‑3mbar,在清洁的玻璃基片上依次镀上,
[0020]第一复合电介质层,即氮化硅SiNx层35nm、氧化锌锡ZnSnOx层25nm、氮化硅SiNx层32nm。
[0021]第一银层,金属银Ag层10nm。
[0022]第一保护层,金属镍铬NiCr层8nm
[0023]第二复合电介质层,氧化锌ZnOx层15nm、氮化硅SiNx层40nm、氧化锌锡ZnSnOx层35nm。
[0024]第二银层,金属银Ag层14nm。
[0025]第二保护层,金属镍铬NiCr层10nm。
[0026]第三复合电介质层,氮化硅SiNx层30nm、氮化铌NbNx层20nm、氮化硅SiNx层30nm。
[0027]3)、使用中频电源,双旋转阴极组成的锆靶阴极位,通入Ar与N2比例为10:50,溅射在玻璃最表面形成ZrNx保护层。
[0028]本技术采取多层镀膜结构,因其镀有氮化硅SiNx能有效的阻挡玻璃在钢化时玻璃中Na
+
离子向外扩散增强了玻璃耐热性和抗氧化性。
[0029]本技术的核心关键是在玻璃最表面镀有ZrNx层,提高表层硬度,增加了玻璃的长途运输机械性能。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种耐磨抗氧化双银镀膜玻璃,其特征在于:包括玻璃基板以及镀覆在玻璃基板上的膜系结构;所述膜系结构从内向外依次为氮化硅SiNx层、氧化锌锡ZnSnOx层、氮化硅SiNx层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、氧化锌ZnOx层、氮化硅SiNx层、氧化锌锡ZnSnOx层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、氮化硅SiNx层、氮化铌NbNx层、氮化硅SiNx层和氮化锆ZrNx层;保护层使用ZrNx靶在玻璃最外面形成一种坚硬的保护膜氮化锆ZrNx层,氮化锆ZrNx层的膜层厚度为15

【专利技术属性】
技术研发人员:杨宏斌李忠祥齐丽婧李玉忠冷庆吉张振兴
申请(专利权)人:河北物华天宝镀膜科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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