一种蒸镀速率交替监测系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种蒸镀速率交替监测系统。它解决了现有晶振片切换具有监测空窗期且监测稳定性差，的技术问题。本蒸镀速率交替监测系统包括：晶振盘，一侧设有若干圆周间隔分布的晶振片；挡板组件，包括转轴，所述转轴驱动连接有设置在所述晶振盘一侧的旋转挡板，所述旋转挡板设有间隔设置且位于同一圆形轨迹上的弧形孔和预蒸镀孔，所述弧形孔与预蒸镀孔用于供对应晶振片露出于挡板组件，所述弧形孔的弧形轨迹所成圆心角大于相邻两个晶振片之间所成圆心角。本蒸镀速率交替监测系统能够完成预蒸镀晶振片与寿命结束晶振片的无缝切换，填补了切换晶振片时的空窗时间以及给予了晶振片切换后蒸镀速率波动的过渡缓冲时间，提高蒸镀速率的精准性。镀速率的精准性。镀速率的精准性。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀速率交替监测系统


[0001]本技术属于这蒸镀监测领域，涉及一种蒸镀速率交替监测系统。

技术介绍

[0002]有机发光二极管在生产过程中因镁材料在石英晶振片表面沉积难以成膜而无法监控到镁材料实际蒸镀速率，从而无法精确控制镁材料蒸镀的膜厚问题。因为镁材料较难在石英晶振片上沉积，在石英晶振片切换后，较长时间内无法监控到镁实际蒸发速率，导致生产中断，一个生产周期最大需要切换多次晶振片，现有的蒸镀速率监测模块均选择将下一切换的晶振片在上一晶振片寿命达到之前完成预蒸镀，使切换后预蒸镀后晶振片监测速率稳定，但是实际切换过程中，新旧晶振片均无法准确监测，切换完成后，新晶振片仍需时间稳定监测速率进行过渡缓冲，具有较长的监测空窗期。
[0003]例如中国专利文献公开了蒸镀速率检测设备、蒸镀设备及蒸镀速率检测方法[202111299900.7],至少包括：旋转挡板、带孔盖和晶振盘；其中，晶振盘上设置有多个晶振片；带孔盖设置在晶振盘外侧，带孔盖的投影面积覆盖晶振盘，带孔盖上设置有两个第一通孔，第一通孔用于完全露出晶振盘上的整个晶振片；旋转挡板设置在带孔盖外侧，旋转挡板上设置有预定形状的第二通孔，第二通孔用于在旋转挡板按照预定速度旋转至第一通孔所在位置时完全露出第一通孔内的全部第一晶振片和部分第二晶振片，以通过露出的部分第二晶振片在第二晶振片整体上蒸镀第一预定厚度的蒸镀材料。通过运用该检测设备，在切换晶振片时蒸镀速率不会波动，提升了产品质量，但是仍未解决上述技术问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是针对现有技术存在的上述问题，提供一种蒸镀速率交替监测系统。
[0005]本技术的目的可通过下列技术方案来实现：
[0006]所述蒸镀速率交替监测系统包括：
[0007]晶振盘，一侧设有若干圆周间隔分布的晶振片；
[0008]挡板组件，包括转轴，所述转轴驱动连接有设置在所述晶振盘一侧的旋转挡板，所述旋转挡板设有间隔设置且位于同一圆形轨迹上的弧形孔和预蒸镀孔，所述弧形孔与预蒸镀孔用于供对应晶振片露出于挡板组件，所述弧形孔的弧形轨迹所成圆心角大于相邻两个晶振片之间所成圆心角。
[0009]进一步地，所述弧形孔与预蒸镀孔之间设有预蒸镀挡块且预蒸镀挡块的外径大于所述晶振片的外径。
[0010]进一步地，所述预蒸镀孔的内径小于或者等于所述弧形孔的径向内径。
[0011]进一步地，所述晶振盘设有圆周分布且供晶振片匹配置入的安装槽，所述旋转挡板封闭安装槽且弧形孔与预蒸镀孔分别与对应安装槽连通。
[0012]进一步地，所述弧形孔的内径大于所述安装槽的内径。
[0013]进一步地，所述转轴穿设在所述晶振盘的中部且连接有旋转驱动机构。
[0014]进一步地，所述晶振盘与挡板组件之间设有安装座，晶振盘与安装座可拆卸连接，所述转轴穿设在安装座上。
[0015]进一步地，所述安装座设有与晶振片对应设置且能够与弧形孔与预蒸镀孔对应连通的让位孔。
[0016]进一步地，所述晶振片截面形状包括圆形，矩形，三角形，椭圆形中的任意一种。
[0017]与现有技术相比，本蒸镀速率交替监测系统通过旋转挡板上同时露出两个晶振片，并且通过预蒸镀孔完成后置晶振片预蒸镀操作，能够完成预蒸镀晶振片与寿命结束晶振片的无缝切换，填补了切换晶振片时的空窗时间以及给予了晶振片切换后蒸镀速率波动的过渡缓冲时间，提高蒸镀速率的精准性。
附图说明
[0018]图1为本技术提供的一种蒸镀速率交替监测系统的结构示意图。
[0019]图2为图1的蒸镀速率交替监测系统所具有的剖面结构示意图。
[0020]图3为图1的蒸镀速率交替监测系统所具有的晶振盘示意图。
[0021]图4为图1的蒸镀速率交替监测系统所具有的实施例二示意图。
[0022]图中，10、晶振盘；11、晶振片；12、安装槽；20、挡板组件；21、转轴；22、旋转挡板；23、弧形孔；24、预蒸镀孔；25、预蒸镀挡块；26、旋转驱动机构；30、安装座；31、让位孔。
具体实施方式
[0023]实施例一
[0024]请参阅图1至图3，其为本技术提供的一种蒸镀速率交替监测系统的结构示意图。本蒸镀速率交替监测系统包括：晶振盘10、设置在晶振盘10一侧的挡板组件20，以及驱动挡板组件20的旋转驱动机构26，可以想到的是，本蒸镀速率交替监测系统还包括其他功能组件以及具体结构，例如电气连接组件，控制组件，安装结构等，其均为本领域技术人员所习知的技术，故在此不再一一详细说明。
[0025]在本实施例中，晶振盘10截面形状呈圆形，晶振盘10上设有圆周分布的安装槽12，晶振片11外径与安装槽12内径匹配并且一一对应置入安装槽12中，安装槽12局晶振片11稳定安装的作用具有蒸镀导向功能，并且保持所有晶振片11一致的蒸镀环境条件，提高蒸镀监测精准性。晶振片11截面形状并不局限于常规的圆形形状，还可以是矩形，三角形，椭圆形中的任意一种。
[0026]挡板组件20包括穿设在晶振盘10上的转轴21，转轴21与旋转驱动机构26连接为转轴21转动提供动力，在本实施例中，旋转驱动机构26为旋转电机，转轴21驱动连接有设置在所述晶振盘10一侧的旋转挡板22，用于封闭晶振盘10设有晶振片11的一侧。
[0027]旋转挡板22设有间隔设置且位于同一圆形轨迹上的弧形孔23和预蒸镀孔24，弧形孔23与预蒸镀孔24均用于供对应晶振片11通过露出于挡板组件20，即蒸镀材料分别通过弧形孔23与预蒸镀孔24蒸镀至晶振片11上完成蒸镀与预蒸镀操作，弧形孔23的弧形轨迹所成圆心角为α，相邻两个晶振片11之间所成圆心角为β，弧形孔23的弧形轨迹所成圆心角为α大于相邻两个晶振片11之间所成圆心角为β，即弧形孔23最多能同时露出两个晶振片11，用于
蒸镀晶振片11的无缝切换。弧形孔23的内径大于所述安装槽12的内径，确保整个晶振片11能完全露出于旋转挡板22，实现完全蒸镀。
[0028]预蒸镀孔24与单个晶振片11对应，用于后置晶振片11的预蒸镀。预蒸镀孔24的内径小于弧形孔23的径向内径时，预蒸镀孔24内的晶振片11能够缓慢形成镀膜，为后续蒸镀速率稳定监测提供基础；预蒸镀孔24的内径等于弧形孔23的径向内径时，加速形成镀膜且蒸镀效果更均匀。
[0029]弧形孔23与预蒸镀孔24之间设有预蒸镀挡块25，预蒸镀挡块25能够在预蒸镀孔24中晶振片11预蒸镀完成后，驱动旋转挡板22，使预蒸镀挡块25遮挡该晶振片11，作为预蒸镀晶振片11备用。预蒸镀挡块25的外径大于晶振片11的外径，避免晶振片11过度预蒸镀。
[0030]本蒸镀速率交替监测系统工作原理：
[0031]S1，预蒸镀时，前置晶振片11露出的位置位于弧形孔23靠近预蒸镀孔24的一侧，提供常规蒸镀速率监测，后置晶振片11露出的位置位于预蒸镀孔24中，进行预蒸镀操作。
[0032]S2，后置晶振本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀速率交替监测系统，其特征在于，所述蒸镀速率交替监测系统包括：晶振盘，一侧设有若干圆周间隔分布的晶振片；挡板组件，包括转轴，所述转轴驱动连接有设置在所述晶振盘一侧的旋转挡板，所述旋转挡板设有间隔设置且位于同一圆形轨迹上的弧形孔和预蒸镀孔，所述弧形孔与预蒸镀孔用于供对应晶振片露出于挡板组件，所述弧形孔的弧形轨迹所成圆心角大于相邻两个晶振片之间所成圆心角。2.根据权利要求1所述的蒸镀速率交替监测系统，其特征在于，所述弧形孔与预蒸镀孔之间设有预蒸镀挡块且预蒸镀挡块的外径大于所述晶振片的外径。3.根据权利要求1所述的蒸镀速率交替监测系统，其特征在于，所述预蒸镀孔的内径小于或者等于所述弧形孔的径向内径。4.根据权利要求1所述的蒸镀速率交替监测系统，其特征在于，所述晶振盘设有圆周分布且供晶振...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁英达，张帆，
申请(专利权)人：广西自贸区睿显科技有限公司，
类型：新型
国别省市：