【技术实现步骤摘要】
一种硅片负压传输装置
[0001]本技术涉及硅片传输装置领域,尤其涉及一种硅片负压传输装置。
技术介绍
[0002]原有的硅片传输,需要借助转运装置将硅片进行转移,转运装置的传输效率低,当转运装置出现故障时硅片就不能进行传输了,还需要及时的更换新的转运设备,极大的影响了生产效率。
技术实现思路
[0003]为了提高硅片的传输效率,本技术采用以下技术方案:
[0004]一种硅片负压传输装置,包括负压传输皮带机、硅片上料料盒、风刀、吸盘、第一位置传感器、第二位置传感器;
[0005]硅片上料料盒设置于负压传输皮带机下方,风刀以及第一位置传感器设置于硅片上料料盒的第一固定位置处,硅片上料料盒内的硅片上料至第一固定位置,第一位置传感器检测硅片位置,风刀对硅片吹风;
[0006]第二位置传感器以及吸盘架设于硅片上料料盒的出料口,第二位置传感器检测硅片位置后吸盘吸取硅片,同时负压传输皮带机吸附硅片,吸盘停止工作后,负压传输皮带机传输硅片。
[0007]具体的,负压传输皮带机包括电机、第一传输轴、连接有吸附机构的吸附箱、第二传输轴;
[0008]第一传输轴和第二传输轴的两端分别连接有一个皮带轮,第一传输轴上连接有第一同步带轮,电机的驱动端连接有第二同步带轮,第一同步带轮和第二同步带轮通过同步带传动连接;吸附箱设置于第一传输轴与第二传输轴之间;第一传输轴的皮带轮、第二传输轴上的皮带轮之间通过传动连接,皮带贴合吸附箱上下端进行传动,皮带上开设有吸附孔,吸附箱通过吸附孔吸附硅片。 />[0009]具体的,吸附箱底部贯穿开设有长条状的吸附槽,吸附箱通过管道连接有真空泵,真空泵将吸附箱抽成负压,且吸附槽与吸附孔贯通,从而吸附硅片。
[0010]具体的,硅片上料料盒包括底板、多根料柱,多根料柱垂直安装于底板上,且围绕底板均匀分布,贯穿底板设置一顶升装置,顶升装置的驱动端连接有一矩形载板,载板四个角上分别安装有限位料板,硅片贴合设置于限位料板内。
[0011]具体的,限位料板上设置有倒角,倒角朝向载板的四个角,风刀的吹气方向竖直向下,且朝向限位料板的倒角端。风刀吹风时,可将气流分流至下方,在吹硅片的时候不会产生扰流。
[0012]具体的,吸盘为伯努利吸盘。伯努利吸盘可采用非直接接触式的吸附方式吸取硅片,减少了对与硅片碰撞而导致的损坏,大大降低硅片碎片率。
[0013]具体的,还包括第三位置传感器,第三位置传感器架设于硅片上料料盒的出料口,
第三位置传感器检测升降装置上升的极限。
附图说明
[0014]图1是一种硅片负压传输装置的结构示意图;
[0015]图2是一种硅片负压传输装置的侧视图;
[0016]图3是一种硅片负压传输装置的俯视图;
[0017]附图标记:1伯努利吸盘;
[0018]2负压传输皮带机;201电机;202皮带轮;203第一同步带轮;204第一传输轴;205第二传输轴;206皮带;207吸附孔;208吸附槽;209吸附箱;
[0019]301料柱;302载板;303底板;304限位料板;
[0020]401风刀;402第一位置传感器;
[0021]5第二位置传感器;6第三位置传感器。
具体实施方式
[0022]下面结合图1至图3对本技术做进一步说明。
[0023]一种硅片负压传输装置,包括负压传输皮带机2、硅片上料料盒、风刀401、伯努利吸盘1、第一位置传感器402、第二位置传感器5。
[0024]伯努利吸盘1可采用非直接接触式的吸附方式吸取硅片,减少了对与硅片碰撞而导致的损坏,大大降低硅片碎片率。
[0025]负压传输皮带206机包括电机201、第一传输轴204、连接有吸附机构的吸附箱209、第二传输轴205;第一传输轴204和第二传输轴205的两端分别连接有一个皮带轮202,第一传输轴204上连接有第一同步带轮203,电机201的驱动端连接有第二同步带轮,第一同步带轮203和第二同步带轮通过同步带传动连接;吸附箱209设置于第一传输轴204与第二传输轴205之间;第一传输轴204的皮带轮202、第二传输轴205上的皮带轮之间传动连接,皮带206贴合吸附箱209上下端进行传动,皮带206上开设有吸附孔207,吸附箱209底部贯穿开设有长条状的吸附槽208,吸附箱209通过管道连接有真空泵,真空泵将吸附箱209内抽成负压,且吸附槽208与吸附孔207贯通。
[0026]硅片上料料盒设置于负压传输皮带机2的下方。其中,硅片上料料盒包括底板303、多根料柱301,多根料柱301垂直安装于底板303上,且围绕底板303均匀分布,贯穿底板303设置一顶升装置。顶升装置的驱动端连接有一矩形载板302,载板302四个角上分别安装有限位料板,限位料板上设置有倒角,倒角朝向载板302的四个角,硅片贴合设置于限位料板内。风刀401以及第一位置传感器402设置于硅片上料料盒的第一固定位置处,硅片上料料盒内的硅片上料至第一固定位置,第一位置传感器402检测硅片位置,风刀401的吹气方向竖直向下,且朝向限位料板的倒角端。风刀401吹风时,可将气流分流至下方,在吹硅片的时候不会产生扰流。为了避免升降装置上升超过硅片顶升的极限,造成硅片损坏,在硅片上料料盒的出料口架设有第三位置传感器6,第三位置传感器6检测被硅片顶升的极限。
[0027]顶升装置将硅片顶升出硅片上料料盒后,需要通过负压传输皮带机2进行传输,但是直接通过负压传输皮带机2的皮带进行吸附,没有缓冲时间,容易造成吸附位置不稳定导致硅片损坏,所以在硅片上料料盒的出料口架设有第二位置传感器5,第二位置传感器5检
测硅片被顶升至待吸附位置后,伯努利吸盘1吸取硅片,且吸附几秒,同时负压传输皮带机2吸附硅片,伯努利吸盘1停止吸附后,负压传输皮带机2开始传输硅片,这样通过伯努利吸盘1辅助负压传输皮带机2吸附硅片,提高了吸附位置的准确率。
[0028]该装置的工作流程为:硅片上料料盒内放置了需要传输的硅片,硅片被顶升装置顶升至第一固定位置,第一位置传感器检测硅片位置,然后风刀的吹气方向竖直向下,且朝向限位料板的倒角端,给硅片除尘。硅片被顶升装置继续顶升至硅片上料料盒的出料口,第二位置传感器检测硅片被顶升至待吸附位置后,伯努利吸盘吸取硅片,且吸附几秒,同时负压传输皮带机吸附硅片,伯努利吸盘停止吸附后,负压传输皮带机开始传输硅片。
[0029]综上,本装置具有以下优点:1、通过负压硅片传输效率高,单小时产能高;2、独特的风刀布置,风刀吹风时,可将气流分流至下方,在吹硅片的时候不会产生扰流。
[0030]可以理解的是,以上关于本技术的具体描述,仅用于说明本技术而并非受限于本技术实施例所描述的技术方案。本领域的普通技术人员应当理解,仍然可以对本技术进行修改或等同替换,以达到相同的技术效果;只要满足使用需要,都在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅片负压传输装置,其特征在于,包括负压传输皮带机、硅片上料料盒、风刀、吸盘、第一位置传感器、第二位置传感器;所述硅片上料料盒设置于所述负压传输皮带机下方,所述风刀以及所述第一位置传感器设置于所述硅片上料料盒的第一固定位置处,所述硅片上料料盒内的硅片上料至所述第一固定位置,所述第一位置传感器检测所述硅片位置,所述风刀对所述硅片吹风;所述第二位置传感器以及所述吸盘架设于所述硅片上料料盒的出料口,所述第二位置传感器检测硅片位置后所述吸盘吸取硅片,同时所述负压传输皮带机吸附所述硅片,所述吸盘停止工作后,所述负压传输皮带机传输所述硅片。2.根据权利要求1所述一种硅片负压传输装置,其特征在于,所述负压传输皮带机包括电机、第一传输轴、连接有吸附机构的吸附箱、第二传输轴;所述第一传输轴和所述第二传输轴的两端分别连接有一个皮带轮,所述第一传输轴上连接有第一同步带轮,所述电机的驱动端连接有第二同步带轮,所述第一同步带轮和所述第二同步带轮通过同步带传动连接;所述吸附箱设置于所述第一传输轴与所述第二传输轴之间;所述第一传输轴的皮带轮、所述第二传输轴上的皮带轮之间通过传动连接,所述皮带贴合所...
【专利技术属性】
技术研发人员:董晓清,汤亚东,王献飞,周煜杰,陆文轩,王沿斌,
申请(专利权)人:无锡江松科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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