有机电致发光显示装置及其制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供这样一种有机电致发光显示装置及其制造方法，是在支持基板上设置有下部电极、有机发光介质和对置电极的有机电致发光显示装置及其制造方法，其中，使有机发光介质的含水率在０．０５重量％以下，由此，不仅是在室温下、而且在高温环境下经过长时间，都可以防止由于非发光区域或非发光部位的产生所引起的发光面积的缩小。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种有机电致发光显示装置(以下有时仅称为有机EL显示装置。)及其制造方法。
技术介绍
过去，在有机EL元件、或者将该有机EL元件与荧光介质等组合起来形成的有机EL显示装置中，为了排除大气中的水分所造成的影响、抑制发光区域中存在的非发光区域或非发光部位(有时称为黑斑)的发生，研究了各种密封手段和防潮手段。例如，特开平9-148066号公报中公开了一种利用密封手段分别封入有机EL元件和干燥剂的有机EL显示装置，特开平7-14675号公报中公开了一种为了防潮而在上部电极上设置一层由氧化锗(GeO)等无机化合物构成的保护膜的有机EL元件。但是，随着清晰度的提高，这些有机EL显示装置和有机EL元件就会出现这样一种问题如附图说明图15所示，在象素的周围产生宽度或直径达数10μm左右的非发光区域或非发光部位，因此造成发光区域缩小，发光亮度降低。另外，特开平11-40358号公报和特开平11-54270号公报中公开的采用喷墨法成膜的有机发光介质以及特开平11-87054号公报中公开的采用胶束电解方式成膜的有机发光介质，与采用真空淀积法成膜的有机发光介质相比，非发光区域或非发光部位的发生频率显著提高，即使采用过去的密封手段和防潮手段，也难以有效地抑制非发光区域或非发光部位的发生。因此，本专利技术的专利技术者们研究了过去的问题，结果发现，如图16和图17所概略示出的那样，与从外部侵入的水分相比，有机EL显示装置上设置的平坦化层和层间绝缘膜中所含有的水分迁移到有机发光介质或上部电极中，使它们发生氧化劣化，从而造成更加不良的影响。因此，本专利技术者们提出一种通过改良这种问题而使耐久性更加优良的有机EL显示装置。例如，特开平11-26156号公报中提出了一种使荧光介质和下部电极之间设置的平坦化层中的含水率在1.0重量％以下的有机EL显示装置，另外，特开平11-54285号公报中提出了一种使一部分层间绝缘膜中含有吸水剂、从而把含水率降低到0.1重量％以下的有机EL显示装置。但是，按照特开平11-26156号公报和特开平11-54285号公报中所公开的有机EL显示装置，虽然在室温状态下保管时能够在某种程度上抑制非发光区域或非发光部位的发生，但在例如80℃的高温环境下保管时，难以充分抑制非发光区域或非发光部位的发生和发光面的劣化，并且难以在长时间内保持高的发光亮度。因此，当本专利技术的专利技术者们进一步深入研究这种问题时发现，在有机EL显示装置装配后，有机发光介质等的含水率与非发光区域或非发光部位的发生或发光面的劣化之间存在着一定的临界关系，通过使该含水率为一定范围以下的值，就可以大幅度地抑制象素周围的非发光区域或非发光部位的发生。即，本专利技术的目的是提供一种耐热性优良、可在长时间内保持高发光亮度的有机EL显示装置以及高效率地获得这种有机EL显示装置的制造方法。其中所说的有机EL显示装置即使在象素的清晰度更高(例如象素大小在100μm×300μm见方以下)、将有机发光介质温法成膜(例如采用涂布方式)、或者在高温环境下长时间保管(例如80℃下保管2周以上)，都能够防止由于非发光区域或非发光部位的产生所造成的发光面积的缩小。专利技术的公开本专利技术提供这样一种有机EL显示装置，它是在支持基板上含有下部电极、有机发光介质和对置电极的有机EL显示装置，其中，使有机发光介质的含水率在0.05重量％以下，由此可以解决上述的问题。即，通过象这样构成有机EL显示装置，可以防止由有机发光介质中的水分引起的对置电极的氧化劣化，室温下自不必说，即使在高温环境下经过长时间，也可以抑制由于非发光区域或非发光部位的产生所造成的发光面积的缩小。另外，本专利技术的另一个方案提供这样一种有机EL显示装置，它是在支持基板上含有下部电极、层间绝缘膜(有时称作电绝缘层)、有机发光介质和对置电极的有机EL显示装置，其中，使层间绝缘膜和有机发光介质的含水率在0.05重量％以下。采用这种构成，可在上下电极之问获得优良的电绝缘性，不但可以进行高清晰度的矩阵显示，而且，即使在80℃的高温环境下经过长时间，也可以抑制由于非发光区域或非发光部位的产生所造成的发光面积的缩小。应予说明，作为该有机EL显示装置的变形例，还优选在对置电极的有机发光介质的相反面上设置滤色片和荧光介质或者它们中的任一个部件、平坦化膜或密封用部件等。另外，本专利技术的另一个方案提供这样一种有机EL显示装置，它是在支持基板上含有滤色片和荧光介质或者它们中的任一个部件、下部电极、层间绝缘膜、有机发光介质和对置电极的有机EL显示装置，其中，使滤色片和荧光介质或者它们中的任一个部件、层间绝缘膜和有机发光介质的含水率在0.05重量％以下。采用这种构成，不但可以容易地进行彩色显示，而且即使在80℃的高温环境下经过长时间，也可以抑制由于非发光区域或非发光部位的产生所造成的发光面积的缩小。另外，本专利技术的另一个方案提供这样一种有机EL显示装置，它是在支持基板上含有滤色片和荧光介质或者它们中的任一个部件、平坦化层、下部电极、层间绝缘膜、有机发光介质和对置电极的有机EL显示装置，其中，使滤色片和荧光介质或者它们中的任一个部件、平坦化层、层间绝缘膜和有机发光介质的含水率在0.05重量％以下。采用这种构成，不但可以容易地进行彩色显示，而且可以有效地防止荧光介质等的表面凹凸所引起的短路的发生，进一步地，即使在80℃的高温环境下经过长时间，也可以抑制由于非发光区域或非发光部位的产生所造成的发光面积的缩小。另外，本专利技术的另一个方案是有机EL显示装置的制造方法，其特征在于，在支持基板上设置下部电极、有机发光介质和对置电极，同时，在有机发光介质的形成之前和形成之后或者二者中的任一个时间，设置脱水工序，进行脱水处理，由此将有机EL显示装置装配后的有机发光介质的含水率降低到0.05重量％以下。通过象这样实施，可以有效地提供一种即使在80℃的高温环境下经过长时间后也能够抑制非发光区域或非发光部位的产生的有机EL显示装置。另外，在实施本专利技术的有机EL显示装置的制造方法时，优选将脱水工序中的露点降低到-10℃以下。通过象这样实施，可以用简易的设备、在较短的时间内进行脱水处理。另外，在实施本专利技术的有机EL显示装置的制造方法时，优选将脱水工序中的真空度降低到13.3Pa(0.1 Torr)以下。通过象这样实施，可以用简易的设备、在较短的时间内进行脱水处理。另外，在实施本专利技术的有机EL显示装置的制造方法时，优选将脱水工序中的加热温度控制在60～300℃的范围内。通过象这样实施，可以用简易的设备、在较短的时间内进行脱水处理。另外，在实施本专利技术的有机EL显示装置的制造方法时，优选在脱水工序中导入惰性气体。通过象这样实施，可以在较短的时间内进行脱水处理，而不会使有机发光介质或电极氧化。另外，在实施本专利技术的有机EL显示装置的制造方法时，使用一种包含脱水单元、成膜单元以及将这些单元连接起来的传送单元在内的制造装置，其中，优选包含以下几个工序在脱水单元中，在有机发光介质形成之前和形成之后或者二者中的任一个时间，对支持基板进行脱水处理的脱水工序、利用传送单元中包含的传送装置，将该支持基板移送至上述成膜单元的传送工序、以及在该成膜单元中形成有机发光介质的有机发光介质形成工序。通过象这样实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机电致发光显示装置，它是在支持基板上含有下部电极、有机发光介质和对置电极的有机电致发光显示装置，其特征在于， 使上述有机发光介质的含水率在０．０５重量％以下。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：荣田畅，东海林弘，长崎义和，酒井俊男，
申请(专利权)人：出光兴产株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]