本实用新型专利技术公开了一种全自动次氯酸钠反洗装置，包括：内部为中空空间经隔板密封间隔出药剂制配区和反洗液储存区两个独立空间的设备主体；药剂制配区和反洗液储存区之间经管道和药剂储存电磁阀可控连通，管道和药剂储存电磁阀位于药剂制配区底部；所述反洗液储存区两侧中部分别连通安装有药液回流口、出药口，出药口连接安装有反洗循环泵。回流的反洗液多次进入电解槽与水垢进行循环接触反应完全除去水垢，解决了现有技术反洗液反应后不能回流进行二次反应的问题，避免了需要制作更多的反洗液来与水垢多次接触完全反应而增加了使用成本的情况发生。成本的情况发生。成本的情况发生。
【技术实现步骤摘要】
一种全自动次氯酸钠反洗装置
[0001]本技术涉及一种全自动次氯酸钠反洗装置，属于污水处理设备
技术介绍
[0002]在电解槽电解制作次氯酸钠构成污水絮凝剂时，电解槽内部易附结上水中钙镁离子形成的水垢需要反洗液进行去除，而采用人工配药制成的反洗液浓度难以掌控，并且由于反洗液多呈酸性，具有一定腐蚀性，会对人体造成部分伤害。因此，需要机械设备替代人工来制作反洗液并通向电解槽中。
[0003]如中国专利公开号为CN112546952A的一种污水处理用反洗加药装置，公开采用的
技术实现思路
为：药物制造装置本体的下部固定连接有下部支撑杆，下部支撑杆下部的中部固定连接有电机，电机的上部安装有搅拌杆，药物制造装置本体下部一侧固定连接有处料管，处料管的下部固定连接有液体出料口；虽然，搅拌杆对药物制造装置本体内的药物和水体进行搅拌混合制成反洗液后通过液体出料口排到电解槽内对水垢进行反洗，但是，反洗液与水垢需要多次接触才能完全反应，存在反洗液反应后不能回流进行二次反应的问题，导致需要制作更多的反洗液来与水垢多次接触完全反应，增加了使用成本。
技术实现思路
[0004]为解决上述技术问题，本技术提供了一种全自动次氯酸钠反洗装置。
[0005]本技术通过以下技术方案得以实现。
[0006]本技术提供的一种全自动次氯酸钠反洗装置，包括：
[0007]内部为中空空间经隔板密封间隔出药剂制配区和反洗液储存区两个独立空间的设备主体；
[0008]药剂制配区和反洗液储存区之间经管道和药剂储存电磁阀可控连通，管道和药剂储存电磁阀位于药剂制配区底部；
[0009]所述反洗液储存区两侧中部分别连通安装有药液回流口、出药口，出药口连接安装有反洗循环泵。
[0010]所述反洗液储存区内有反洗液储存区液位计。
[0011]所述反洗液储存区侧边连通设有检修孔。
[0012]所述反洗液储存区侧边连通设有排污电动阀。
[0013]所述药剂制配区顶部安装有减速搅拌机，减速搅拌机旋转输出端安装有搅拌杆及搅拌叶片。
[0014]所述药剂制配区连通有药剂制配电磁阀，药剂制配区顶部设有反洗药剂投加口。
[0015]所述药剂制配电磁阀进口连通有水洗电磁阀一端，水洗电磁阀另一端管道连通在出药口上；所述药剂制配电磁阀前端安装有进水压力传感器。
[0016]所述药剂制配区内设有药剂制配区高液位计、药剂制配区低液位计。
[0017]所述设备主体底部安装有支撑脚；所述出药口出口上安装有防止液体回流的单向
阀；所述反洗液储存区内部为上大下小的倾斜锥形容器体空间，倾斜度在45
°
～75
°
之间。
[0018]本技术的有益效果在于：在反洗液储存区内的反洗液经反洗循环泵从出药口进入电解槽，而后反洗液从电解槽出口排入药液回流口回流至反洗液储存区中，回流的反洗液所带的渣物质在内部倾斜锥形的反洗液储存区底部沉淀，沉淀后的反洗液再经反洗循环泵和出药口再次进入电解槽与水垢进行循环接触反应，直至完全除去水垢，回流的反洗液多次进入电解槽与水垢进行循环接触反应完全除去水垢，解决了现有技术反洗液反应后不能回流进行二次反应的问题，避免了需要制作更多的反洗液来与水垢多次接触完全反应而增加了使用成本的情况发生。
附图说明
[0019]图1是本技术的结构示意图；
[0020]图中：1
‑
设备主体；2
‑
支撑脚；3
‑
出药剂制配区；4
‑
反洗液储存区；5
‑
减速搅拌机；7
‑
反洗药剂投加口；8
‑
药剂制配区高液位计；9
‑ꢀ
药剂制配区低液位计；10
‑
反洗液储存区液位计；11
‑
药剂制配电磁阀； 12
‑
药剂储存电磁阀；13
‑
水洗电磁阀；14
‑
排污电动阀；15
‑
检修孔； 16
‑
药液回流口；17
‑
出药口。
具体实施方式
[0021]下面进一步描述本技术的技术方案，但要求保护的范围并不局限于所述。
[0022]如图1所示。
[0023]本申请的一种全自动次氯酸钠反洗装置，包括：
[0024]底部安装有支撑脚2进行支撑安装的设备主体1，设备主体1内部为中空空间经隔板密封间隔出药剂制配区3和反洗液储存区4两个独立空间，药剂制配区3用于药物和水进行混合制成反洗液，反洗液储存区4用于存储与电解槽内水垢反应后回流的反洗液；所述反洗液储存区4内部为上大下小的倾斜锥形容器体空间，倾斜度在45
°
～75
°
之间。
[0025]所述药剂制配区3和反洗液储存区4之间经管道和药剂储存电磁阀12可控连通，管道和药剂储存电磁阀12位于药剂制配区3底部，药剂制配区3内配置好的反洗液经药剂储存电磁阀12的控制流向反洗液储存区4内。
[0026]所述反洗液储存区4两侧中部分别连通安装有药液回流口16、出药口17，出药口17连接安装有反洗循环泵；在反洗液储存区4内的反洗液经反洗循环泵从出药口17进入电解槽，而后反洗液从电解槽出口排入药液回流口16回流至反洗液储存区4中，回流的反洗液所带的渣物质在内部倾斜锥形的反洗液储存区4底部沉淀，沉淀后的反洗液再经反洗循环泵和出药口17再次进入电解槽与水垢进行循环接触反应，直至完全除去水垢，回流的反洗液多次进入电解槽与水垢进行循环接触反应完全除去水垢，解决了现有技术反洗液反应后不能回流进行二次反应的问题，避免了需要制作更多的反洗液来与水垢多次接触完全反应而增加了使用成本的情况发生。
[0027]所述反洗液储存区4内有反洗液储存区液位计10，反洗液储存区液位计10检测反洗液储存区4的液位并发出信号，通过药剂储存电磁阀12控制反洗液从药剂制配区3补充至反洗液储存区4中。
[0028]所述反洗液储存区4侧边连通设有检修孔15，通过检修孔15便于进入反洗液储存
区4内部进行内部检修。
[0029]所述反洗液储存区4侧边连通设有排污电动阀14，通过排污电动阀14将回流反洗液中沉淀后的污物进行排出。
[0030]所述药剂制配区3顶部安装有减速搅拌机5，减速搅拌机5旋转输出端安装有搅拌杆及搅拌叶片，通过减速搅拌机5、搅拌杆及搅拌叶片对药剂制配区3内的反洗液配置进行自动搅拌混合制成。
[0031]所述药剂制配区3连通有药剂制配电磁阀11，药剂制配区3顶部设有反洗药剂投加口7，反洗药剂投加口7用于投加反洗药剂，药剂制配电磁阀11用于投加水体与反洗药剂进行混合。
[0032]所述药剂制配电磁阀11进口连通有水洗电磁阀13一端，水洗电磁阀13另一端管道连通在出药口17上，控制水洗电磁阀13对反洗液储存区4和本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种全自动次氯酸钠反洗装置，其特征在于，包括：内部为中空空间经隔板密封间隔出药剂制配区(3)和反洗液储存区(4)两个独立空间的设备主体(1)；药剂制配区(3)和反洗液储存区(4)之间经管道和药剂储存电磁阀(12)可控连通，管道和药剂储存电磁阀(12)位于药剂制配区(3)底部；所述反洗液储存区(4)两侧中部分别连通安装有药液回流口(16)、出药口(17)，出药口(17)连接安装有反洗循环泵。2.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置，其特征在于：所述反洗液储存区(4)内有反洗液储存区液位计(10)。3.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置，其特征在于：所述反洗液储存区(4)侧边连通设有检修孔(15)。4.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置，其特征在于：所述反洗液储存区(4)侧边连通设有排污电动阀(14)。5.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置，其特征在于：所述药剂制配区(3)顶部安装有减速搅拌机(5)，减速搅拌机(5)旋转输出端安装有搅拌杆及搅拌叶片。6.如权利要求1所述的全自动次氯酸钠反洗装置，其特征在于：所述药剂制配区(3)连通有药剂制配电磁阀(11...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵浩东，孙财远，陈豪，黄光伦，陶进秋，
申请(专利权)人：贵州楚天两江环境股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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