有机发光二极管面板的制作方法技术

本发明专利技术针对有机发光二极管面板的制作方法中的阴罩（ｓｈａｄｏｗ　ｍａｓｋ）清洁问题，在制作方法中插入等离子体干式清洁步骤。由于等离子体本身就具有清洁的功能，所以提出分别于蒸镀前和个别颜色的有机膜蒸镀后，利用等离子体对阴罩进行等离子体清洁。其优点是可在短时间内完成阴罩的清洁，确保制作过程可靠度及产品优良率。以等离子体现场清洗阴罩不但可以大幅降低微颗粒的吸附现象，以及其所造成的重复缺陷，并可以降低暗点发生的机率，同时也可以减少阴罩的孔洞被阻塞的现象。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)面板的制作方法，尤指一种有机发光二极管面板制作过程中的阴罩清洗步骤，其可以改善现有方法所产生的微颗粒吸附问题，以及避免面板的重复性缺陷，从而提高OLED产品的优良率。
技术介绍
自从研究发现施加电压在共轭性高分子(conjugated polymer)可使高分子材料发光以来，有机发光二极管的显示技术发展非常快速。对于有机发光二极管而言，在全彩元件的制作上，仍是利用所谓的阴罩(shadow mask)的步进式(side by side)移位分别在基底上蒸镀上红、蓝、绿三原色，来形成全彩的元件。图1及图2分别显示现有主动面板及被动面板以阴罩进行红、蓝、绿三原色像素蒸镀的剖面示意图，其中图1同时显示了以阴罩的步进方式进行红、蓝、绿三原色蒸镀在主动面板表面上。如图1及图2所示，通过热蒸镀，有机电发光材料经由阴罩上的开孔101镀于基底10的透明电极(一般为ITO电极)121表面上。一般而言，阴罩上的开孔101尺寸约为100至200微米左右。阴罩通常在进行数批产品的蒸镀后抽出换新，或者离线进行湿式清洗，十分不便(此举亦降低生产效率)。此外，如图3所示，现有OLED面板的制造方法会产生微颗粒吸附在阴罩上，微颗粒并可能造成阴罩的阻塞。若是微颗粒粘附在阴罩上，在移位时即会产生重复性缺陷(如圆圈处所示)。如图4所示，此重复性缺陷在OLED两电极之间变成一导通路径，造成电性短路现象，进而造成元件坏死或是不亮。若阴罩阻塞，则会产生有机膜蒸镀不均的情况。由上可知，现有OLED面板制作技术显然仍有实际实施上的缺陷，而犹待进一步的改善。鉴于此，申请人乃根据上述缺点及依据多年从事制造该类产品的相关经验，悉心观察且研究，提出了改良的本专利技术，其可降低生产成本，增加生产效率以及优良率。
技术实现思路
本专利技术所要完成的任务在于提供一种，可避免现有制作方法所带来的微颗粒吸附及重复性缺陷等缺点。一种，包括有提供一透明基底，该基底上具有一透明电极层；透过一阴罩上的开孔以步进方式热蒸镀一第一有机电发光材料膜于该透明电极层上的第一位置；利用一等离子体清洗该阴罩；以及透过该经等离子体清洗过的阴罩上的开孔以步进方式热蒸镀一第二有机电发光材料膜于该透明电极层上的第二位置。为达上述目的，本专利技术针对中的阴罩的清洁问题，在制作工艺中插入等离子体干式清洁步骤。鉴于等离子体本身就具有清洁的功能，所以提出分别于蒸镀前和个别颜色的有机膜蒸镀后，利用等离子体对阴罩进行等离子体清洁。其优点是可在短时间内完成阴罩的清洁，确保制作过程可靠度及产品优良率。以等离子体现场清洗阴罩不但可以大幅降低微颗粒的吸附现象，以及其所造成的重复缺陷，并可以降低暗点发生的机率，同时也可以降低阴罩的孔洞被阻塞的现象。为了使本领域的技术人员能更进一步了解本专利技术的特征及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图。然而所附图式仅供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图说明图1为现有方法中以阴罩的步进方式进行红、蓝、绿三原色蒸镀的示意图。图2显示现有被动面板以阴罩进行红、蓝、绿三原色像素蒸镀的剖面示意图。图3为现有OLED面板的制造方法产生微颗粒吸附在阴罩上的示意图。图4为现有重复性缺陷在OLED两电极之间变成一导通路径的示意图。图5为本专利技术图。附图标记说明10阴罩12基底101开孔121透明电极具体实施方式如前所述，现有OLED面板的制造方法会产生微颗粒吸附在阴罩上，微颗粒并可能造成阴罩的阻塞。若是微颗粒粘附在阴罩上，在移位时即会产生重复性缺陷。此重复性缺陷在OLED两电极之间变成一导通路径，造成电性短路现象，进而造成元件坏死或是不亮。该阴罩通常在进行数批产品的蒸镀后抽出换新，或者需离线进行湿式清洗，此举十分不便，亦降低生产效率。为解决现有问题，本专利技术提供一种改良的，可避免上述现有制作方法所带来的微颗粒吸附及重复性缺陷等缺点。请参阅图5，图5为本专利技术图。如图5所示，本专利技术一开始进行有机膜蒸镀之前，阴罩即以等离子体，例如氧气等离子体或氮气等离子体等(但不限于此)，进行阴罩(一般为不锈钢等金属材质构成)的表面清洗。等离子体清洗可以现场或离线方式进行，为求维持高生产效率，等离子体的功率以及等离子体温度可以调整至相对较高，以提升清洗效率。接着，进行有机膜的蒸镀。本实施例中先进行红色(G)膜的蒸镀，仅为例示，并不限于此顺序。随后，同样再进行阴罩表面清洗。同样地，等离子体清洗可以现场或离线方式进行，为求维持高生产效率，等离子体的功率以及等离子体温度可以调整至相对较高，以提升清洗效率。随后，进行有机膜R的蒸镀，并接以等离子体重复清洗。最后，进行有机膜B的蒸镀，并同样接以等离子体重复清洗。与现有技术相比，本专利技术通过等离子体清洗中的阴罩，达到提升生产效率与优良率的目的，可解决现有制作方法所产生的微颗粒吸附、重复性缺陷以及电性短路等缺点，足见其显然的进步。以上所述仅为本专利技术的优选实施例，凡依本专利技术权利要求书所做的等同改动和改进，皆应属本专利技术专利的涵盖范围。权利要求1.一种，包括有提供一透明基底，该基底上具有一透明电极层；透过一阴罩上的开孔以步进方式热蒸镀一第一有机电发光材料膜于该透明电极层上的第一位置；以及利用一等离子体清洗该阴罩；及透过该经等离子体清洗过的阴罩上的开孔以步进方式热蒸镀一第二有机电发光材料膜于该透明电极层上的第二位置。2.如权利要求1所述的制作方法，其中该透明基底为一玻璃基底。3.权利要求1所述的制作方法，其中该等离子体为氧气等离子体或氮气等离子体。4.如权利要求1所述的制作方法，其中该透明电极层为一ITO导电玻璃电极层。5.如权利要求1所述的制作方法，其中该第一及第二有机电发光材料膜分别为R/G/B三原色中的一者。6.如权利要求1所述的制作方法，其中该基底可为主动式阵列基底或被动式阵列基底者。7.如权利要求1所述的制作方法，其中热蒸镀该第二有机电发光材料膜于该透明电极层上的第二位置之后，该方法还包括有重复利用等离子体清洗该阴罩。全文摘要本专利技术针对中的阴罩(shadow mask)清洁问题，在制作方法中插入等离子体干式清洁步骤。由于等离子体本身就具有清洁的功能，所以提出分别于蒸镀前和个别颜色的有机膜蒸镀后，利用等离子体对阴罩进行等离子体清洁。其优点是可在短时间内完成阴罩的清洁，确保制作过程可靠度及产品优良率。以等离子体现场清洗阴罩不但可以大幅降低微颗粒的吸附现象，以及其所造成的重复缺陷，并可以降低暗点发生的机率，同时也可以减少阴罩的孔洞被阻塞的现象。文档编号G09F9/30GK1534806SQ03121600公开日2004年10月6日 申请日期2003年4月1日 优先权日2003年4月1日专利技术者萧调宏 申请人:友达光电股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机发光二极管面板的制作方法，包括有：　　　　提供一透明基底，该基底上具有一透明电极层；　　　　透过一阴罩上的开孔以步进方式热蒸镀一第一有机电发光材料膜于该透明电极层上的第一位置；以及　　　　利用一等离子体清洗该阴罩；及　　　　透过该经等离子体清洗过的阴罩上的开孔以步进方式热蒸镀一第二有机电发光材料膜于该透明电极层上的第二位置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：萧调宏，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]