一种具有抗屏蔽功能的镭射膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种具有抗屏蔽功能的镭射膜。所述镭射膜包括—

【技术实现步骤摘要】
一种具有抗屏蔽功能的镭射膜


[0001]本技术涉及镭射膜
，特别涉及一种具有抗屏蔽功能的镭射膜。

技术介绍

[0002]随着社会的发展，生活中对卡的需求量越来越大。镭射膜被称为世界印刷制卡行业中最前沿的技术产品，近年来取得了快速的发展，应用领域非常广泛。镭射膜的制作工艺比较复杂，生产过程包括激光防伪制版、压膜、涂布、转移等多个技术环节，产品附加值高。其镀铝层丰满平滑，铝层附着力好，对油墨吸附力强，适用于各种印刷的特点。镭射膜用于RFID读取信号并获取相关数据时受镀铝层厚度影响较大，易受其他因素干扰而出现衰减，无法兼顾外观色泽与读写效果。因此，如何使得镭射膜抗屏蔽是现阶段我们亟待解决的问题。

技术实现思路

[0003]为了解决现有技术中存在的问题，本技术提出一种具有抗屏蔽功能的镭射膜，解决现有技术中镭射膜用于RFID读写时信号衰减的问题。
[0004]本技术的技术方案是，一种具有抗屏蔽功能的镭射膜，所述镭射膜由下至上依次包括：
[0005](1)镭射膜基膜；
[0006](2)镭射膜模压层；
[0007](3)镭射膜镀铝层；
[0008](4)镭射膜腐蚀层。所述镭射膜腐蚀层呈线型或网格状分布于镭射膜镀铝层上。
[0009]所述镭射膜基膜材质为聚氯乙烯(PVC)或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。
[0010]所述镭射膜基膜厚度为10μm～50μm。
[0011]所述镭射膜模压层厚度为0.1μm～1μm。
[0012]所述镭射膜镀铝层厚度为
[0013]所述镭射膜腐蚀层种类为酸性缓冲液、碱性缓冲液、阳离子乳液。
[0014]所述镭射膜腐蚀层线宽度为0.01μm～2μm。
[0015]通过上述技术方案，本技术可实现以下有益效果：在镭射膜镀铝层上添加腐蚀层，采取化学腐蚀方式对铝层进行处理，树脂会与铝层反应，将铝层腐蚀掉，减小铝层的屏蔽,也可采用物理方法激光切割铝层，均可达到减小铝层屏蔽，由外观又不影响镀铝膜的效果。从而明显提高镭射膜对信号的读写距离，达到抗屏蔽作用。
附图说明
[0016]图1为本技术一种具有抗屏蔽功能的镭射膜结构示意图；
[0017]图2线型腐蚀层；
[0018]图3网格状腐蚀层；
[0019]其中各图标为：
①
镭射膜基膜、
②
镭射膜模压层、
③
镭射膜镀铝层、
④
镭射膜腐蚀层。
具体实施方式
[0020]下面结合具体图示进一步描述本技术提供的实施例。
[0021]本技术的一种具有抗屏蔽功能的镭射膜，如附图1所示，由下至上依次为：
①
镭射膜基膜、
②
镭射膜模压层、
③
镭射膜镀铝层、
④
镭射膜腐蚀层。
[0022]本技术的制备步骤如下：
[0023]镭射膜基膜表面模压镀铝，模压层厚度为0.1μm～1μm，镀铝层厚度为腐蚀层采用喷涂或辊涂工艺实现，如图2和图3所示，腐蚀层呈线型或网格状，网格线宽度为0.01μm～2μm。
[0024]以上所述仅为本技术的较优实施方式，本技术的保护范围并不受上述实施方式的限制，凡本领域技术人员根据本
技术实现思路
所作的其他任何未脱离本技术精神实质前提下的等效修饰、变化或改进，均包含在本技术的保护范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有抗屏蔽功能的镭射膜，其特征在于，所述镭射膜由下至上依次包括：(1)镭射膜基膜；(2)镭射膜模压层；(3)镭射膜镀铝层；(4)镭射膜腐蚀层；所述镭射膜腐蚀层呈线型或网格状分布于镭射膜镀铝层上。2.根据权利要求1所述一种具有抗屏蔽功能的镭射膜，其特征在于，所述镭射膜基膜材质为聚氯乙烯或聚对苯二甲酸乙二醇酯。3.根据权利要求1所述一种具有抗屏蔽功能的镭射膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：李春刚，鹿秀山，滕飞，王毅，张平东，
申请(专利权)人：天津博苑高新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：