半导体元器件双料3D5S检测光学模组制造技术

技术编号:36951206 阅读:11 留言:0更新日期:2023-03-22 19:11
本实用新型专利技术公开了半导体元器件双料3D5S检测光学模组,涉及半导体器件视觉检测领域,针对目前半导体行业每只相机每次只检测一颗料,检测速度慢,且速度慢的设备存在着视觉软件检测完毕后处于等待状态的现象,且现有的相机检测时只能看一面的问题,现提出如下方案,其包括检测组件,所述检测组件的一侧设置有相机,所述检测组件的内部包括45度镜片,且所述45度镜片的顶部对称设置有棱镜,所述相机与45度镜片的中部持平。该半导体元器件双料3D5S检测光学模组内部设置45度反光镜片配合光学棱镜便于全方位对半导体进行测量与检测,同时还可同时对两组半导体进行检测,大大增加半导体的检测效率。的检测效率。的检测效率。

【技术实现步骤摘要】
半导体元器件双料3D5S检测光学模组


[0001]本技术涉及半导体器件视觉检测领域,尤其涉及半导体元器件双料3D5S检测光学模组。

技术介绍

[0002]半导体器件是导电性介于良导电体与绝缘体之间,利用半导体材料特殊电特性来完成特定功能的电子器件,现有的半导体器件在生产过程中通常需要对其进行光学检测,然而现有的光学检测装置在使用时,每次仅可对一颗料进行检测,因此在使用时存在一定的弊端。
[0003]针对目前半导体行业每只相机每次只检测一颗料,检测速度慢,且速度慢的设备存在着视觉软件检测完毕后处于等待状态的现象,且现有的相机检测时只能看一面的问题,我们提出半导体元器件双料3D5S检测光学模组。

技术实现思路

[0004]本技术提出的半导体元器件双料3D5S检测光学模组,解决了目前半导体行业每只相机每次只检测一颗料,检测速度慢,且速度慢的设备存在着视觉软件检测完毕后处于等待状态的现象,且现有的相机检测时只能看一面的问题。
[0005]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:
[0006]半导体元器件双料3D5S检测光学模组,包括检测组件,所述检测组件的一侧设置有相机,所述检测组件的内部包括45度镜片,且所述45度镜片的顶部对称设置有棱镜,所述相机与45度镜片的中部持平。
[0007]优选的,所述45度镜片的外侧设置有镜面箱,所述45度镜片呈45度倾斜状位于镜面箱的内部,所述镜面箱的顶部与靠近相机的一侧均开设有凹槽。
[0008]优选的,所述镜面箱的顶部设置有支撑座,且所述支撑座呈回字状,所述支撑座的顶部设置有固定座,且所述固定座的内部贯穿设置有凹槽。所述固定座与支撑座相匹配。
[0009]优选的,所述固定座的顶部设置有盖板,且所述盖板的内部对称开设有凹槽,所述棱镜的顶部与盖板相连接,且所述棱镜与凹槽相匹配。
[0010]优选的,所述镜面箱的底部设置有安装座,且所述安装座呈n字状,所述安装座的顶部设置有散光板,且所述散光板与45度镜片相匹配。
[0011]优选的,所述安装座的底部设置有垫板,且所述垫板的内部开设有凹槽,所述凹槽与安装座相匹配。
[0012]本技术的有益效果为:
[0013]1、该装置利用光学镜片折射原理,将产品的五个面全部反射在上、下、左、右的棱镜上面,实现全方位的检测。
[0014]2、该装置内部采用两种不同的光学镜片,一种为45度反光镜,另一种为光学棱镜,两种镜片的结合巧妙的实现了多方位全检测的模式。
[0015]3、该装置可实现一个相机在同一副图片中检测两个产品的方式,并且是在半导体中最复杂的3D5S工位,同时该装置利用光学反射的原理将原先,视觉平面看不到的区域反射在棱镜面,实现软件的精准测量和缺陷检测。
[0016]综上所述,该装置内部设置45度反光镜片配合光学棱镜便于全方位对半导体进行测量与检测,同时还可同时对两组半导体进行检测,大大增加半导体的检测效率。
附图说明
[0017]图1为本技术的结构爆炸图。
[0018]图2为本技术的结构示意图。
[0019]图3为本技术的结构演示图。
[0020]图中标号:1、盖板;2、棱镜;3、固定座;4、支撑座;5、镜面箱;6、45度镜片;7、安装座;8、散光板;9、垫板;10、检测组件;11、相机。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0022]参照图1

图3所示,半导体元器件双料3D5S检测光学模组,检测组件10的一侧设置有相机11,检测组件10的内部包括45度镜片6,且45度镜片6的顶部对称设置有棱镜2,相机11与45度镜片6的中部持平。
[0023]如图2、图3所示,45度镜片6的外侧设置有镜面箱5,45度镜片6呈45度倾斜状位于镜面箱5的内部,镜面箱5的顶部与靠近相机11的一侧均开设有凹槽,镜面箱5的顶部设置有支撑座4,且支撑座4呈回字状,支撑座4的顶部设置有固定座3,且固定座3的内部贯穿设置有凹槽,固定座3与支撑座4相匹配,固定座3的顶部设置有盖板1,且盖板1的内部对称开设有凹槽,棱镜2的顶部与盖板1相连接,且棱镜2与凹槽相匹配;
[0024]棱镜2便于对半导体的四个侧面以及地面进行反射,进而实现全面检测,同时配合45度镜片6便于同时对两组半导体进行检测。
[0025]如图2、图3所示,镜面箱5的底部设置有安装座7,且安装座7呈n字状,安装座7的顶部设置有散光板8,且散光板8与45度镜片6相匹配,安装座7的底部设置有垫板9,且垫板9的内部开设有凹槽,凹槽与安装座7相匹配;
[0026]散光板8配合45度镜片6便于增加45度镜片6的反光程度,进而更加便于进行检测。
[0027]本技术在使用时,首先将该装置取出,并将该装置放置在适当位置处,同时取出相机11,将相机11放置在检测组件10的一侧,并使得相机11与45度镜片6的中部齐平,此时取出两组半导体,并将其放置在盖板1顶部对称开设的凹槽处,进而使得半导体位于棱镜2的顶部;
[0028]此时通过相机11对半导体进行全方位照射,相机11射出的光线在45度镜片6的作用下进行反光,进而将光线反射至固定座3中部设置的两组棱镜2处,进而通过两组棱镜2分别对其顶部放置的半导体的四组侧面以及地面进行照射,进而呈现在同一平面,实现3D五面效果,从而更加便于对半导体进行检测;
[0029]与此同时,该装置内部设置的散光板8便于增加45度镜片6的反光效果。
[0030]以上所述,仅为本技术较佳的具体实施方式,但本技术的保护范围并不局限于此,任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内,根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.半导体元器件双料3D5S检测光学模组,包括检测组件(10),其特征在于,所述检测组件(10)的一侧设置有相机(11),所述检测组件(10)的内部包括45度镜片(6),且所述45度镜片(6)的顶部对称设置有棱镜(2),所述相机(11)与45度镜片(6)的中部持平。2.根据权利要求1所述的半导体元器件双料3D5S检测光学模组,其特征在于,所述45度镜片(6)的外侧设置有镜面箱(5),所述45度镜片(6)呈45度倾斜状位于镜面箱(5)的内部,所述镜面箱(5)的顶部与靠近相机(11)的一侧均开设有凹槽。3.根据权利要求2所述的半导体元器件双料3D5S检测光学模组,其特征在于,所述镜面箱(5)的顶部设置有支撑座(4),且所述支撑座(4)呈回字状,所述支撑座(4)的顶部设置有固定座(3),且所述固定座(3...

【专利技术属性】
技术研发人员:鄢祥
申请(专利权)人:深圳市赛影科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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