本申请公开了一种陶瓷喷釉装置，包括壳体、旋转装置、喷釉设备、烘干装置和清洗装置，所述旋转装置、喷釉设备、烘干装置和清洗装置均设在所述壳体的内部，所述旋转装置与所述壳体连接，所述喷釉设备与所述旋转装置连接，所述喷釉设备与所述壳体连接，所述烘干装置与所述壳体连接，所述清洗装置与所述壳体连接，所述喷釉设备用于给瓷器涂釉，所述旋转装置用于放置瓷器和旋转瓷器，使得瓷器能够均匀着釉，所述清洗装置用于清洗所述陶瓷喷釉装置内部喷溅的釉质。本申请公开的装置，设有旋转装置，在进行喷釉操作时，旋转装置带动瓷器旋转，使得瓷器着釉均匀，提高成色品质；烘干装置对涂釉后的瓷器直接进行烘干，提高工作效率。提高工作效率。提高工作效率。
【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷喷釉装置
[0001]本专利技术属于陶瓷领域，尤其涉及一种陶瓷喷釉装置。
技术介绍
[0002]目前市场存在很多喷釉不均的陶瓷，成色低劣；且在制作工艺上，喷釉后，需另行晾晒，效率较低。
技术实现思路
[0003]为解决现有技术中存在上述的不足之处，本申请公开一种陶瓷喷釉装置，其特征在于，包括壳体、旋转装置、喷釉设备、烘干装置和清洗装置，所述旋转装置、喷釉设备、烘干装置和清洗装置均设在所述壳体的内部，所述旋转装置与所述壳体连接，所述喷釉设备与所述旋转装置连接，所述喷釉设备与所述壳体连接，所述烘干装置与所述壳体连接，所述清洗装置与所述壳体连接，所述喷釉设备用于给瓷器涂釉，所述旋转装置用于放置瓷器和旋转瓷器，使得瓷器能够均匀着釉，所述清洗装置用于清洗所述陶瓷喷釉装置内部喷溅的釉质。
[0004]其中，所述壳体包括控制器、控制组件、遮盖件、输送口和连接线，所述控制器设在所述壳体的外部，所述控制组件设在所述壳体的内部，所述控制器与所述控制组件电连接，所述控制组件与所述连接线电连接，所述连接线设在所述壳体的外部，所述输送口设在所述壳体的侧壁，所述遮盖件设在所述壳体，所述遮盖件与所述输送口同侧，所述遮盖件与所述输送口配合设置，所述控制组件用于控制所述陶瓷喷釉装置，所述控制器用于控制所述控制组件，所述控制器包括喷釉控制器、烘干控制器和清洗控制器，所述喷釉控制器用于控制所述喷釉设备的开启和关闭，所述烘干控制器用于控制所述烘干装置的开启和关闭，所述清洗控制器用于控制所述清洗装置的开启和关闭，所述连接线用于连接外部供电设备，所述输送口用于输送瓷器，所述遮盖件用于遮盖所述输送口。
[0005]其中，所述旋转装置包括旋转杆、旋转底座、旋转撑台和旋转设备，所述旋转杆与所述旋转设备连接，所述旋转杆与所述壳体连接，所述旋转底座与所述旋转杆连接，所述旋转撑台与所述旋转底座连接，所述旋转设备设在所述旋转杆，所述旋转底座设有孔洞，所述旋转底座用于放置瓷器，所述旋转底座与所述瓷器底部的接触面接触，所述旋转设备设在所述旋转杆内部，所述旋转设备与所述控制组件电连接，所述旋转装置用于旋转瓷器，使得瓷器表面均匀涂釉，所述旋转设备用于旋转所述旋转杆。
[0006]其中，所述旋转撑台设有感应设备和调整设备，所述感应设备设在所述旋转撑台，所述调整设备设在所述旋转撑台，所述感应设备用于感应瓷器底部的接触面，所述调整设备用于控制所述旋转撑台和所述旋转底座，使得所述旋转撑台贴合瓷器底部的接触面，所述旋转底座设有固定件，所述固定件用于固定所述喷釉设备，所述旋转装置与所述喷釉设备电连接。
[0007]其中，所述喷釉设备包括喷釉组件、储釉仓和输釉管，所述喷釉组件包括第一喷釉
枪和第二喷釉枪，所述第一喷釉枪设有多个，所述喷釉组件的第二端设有防护罩，所述防护罩面向瓷器方向呈开口状，所述防护罩用于减少釉质的飞溅，所述喷釉组件与所述储釉仓通过所述输釉管连接，所述储釉仓设在所述壳体，所述喷釉组件的第一端设有第一螺纹，所述输釉管的第三端设有第二螺纹，所述第一螺纹适配于所述第二螺纹，所述喷釉组件的第一端与所述输釉管的第三端连接，所述壳体的内壁设有多个所述第一喷釉枪，所述第一喷釉枪用于给瓷器的第一外表面和第二外表面涂釉，所述第二喷釉枪与所述固定件连接，所述喷釉组件用于给瓷器喷釉，所述第二喷釉枪用于给瓷器底面涂釉，所述第二喷釉枪的枪头包括旋转枪头，所述旋转枪头使得瓷器底面均匀涂釉，所述喷釉设备与所述控制组件电连接。
[0008]其中，所述陶瓷喷釉装置还包括缓冲装置，所述缓冲装置还包括第一伸缩杆、第一控制模块和弹力垫，所述第一伸缩杆与所述旋转杆连接，所述弹力垫与所述第一伸缩杆连接，所述第一控制模块设在所述第一伸缩杆，所述第一控制模块与所述喷釉设备电连接，所述弹力垫的位置包括弹力位置和收回位置，弹力垫在所述第一伸缩杆的带动下在所述弹力位置和收回位置之间切换，所述弹力位置在所述旋转撑台上方，所述收回位置的高度低于所述旋转底座的高度，所述第一控制模块用于控制所述第一伸缩杆，所述弹力垫在弹力位置承接瓷器，当所述旋转撑台适配于瓷器底部的接触面时，所述弹力垫回落至所述收回位置。
[0009]其中，所述烘干装置包括温度控制模块和扇风设备，所述扇风设备设有多个，所述温度控制模块设在所述扇风设备上，所述温度控制模块与所述控制组件电连接，所述扇风设备与所述壳体的内壁连接，所述烘干装置用于烘干喷釉后的瓷器。
[0010]其中，所述陶瓷喷釉装置还包括转送装置，所述转送装置包括第二伸缩杆、第二控制模块和抓手，所述第二伸缩杆与所述旋转杆连接，所述抓手与所述第二伸缩杆连接，所述第二控制模块设在所述第二伸缩杆，所述第二控制模块与所述喷釉设备电连接，所述第二控制模块用于控制所述第二伸缩杆，所述转送装置用于通过所述输送口拾取未着釉的瓷器和转送烘干后的瓷器。
[0011]其中，所述清洗装置包括清洗设备和废水回收仓，所述清洗设备与所述废水回收仓连接，所述清洗设备设在所述壳体的内壁，所述废水回收仓设在所述壳体的外部，所述清洗设备用于清洗所述壳体内部、旋转装置、喷釉设备、缓冲装置、转送装置和烘干装置上沾染的釉质，所述废水回收仓用于收容清洗产生的废物。
[0012]其中，所述清洗装置还包括保护件，所述保护件与所述清洗设备连接，在不使用所述清洗设备时，所述保护件覆盖在所述清洗设备上，用于防止釉喷溅到所述清洗设备上，在使用所述清洗设备时，所述保护件自动打开。
[0013]本申请公开的装置，设有旋转装置，在进行喷釉操作时，旋转装置带动瓷器旋转，使得瓷器着釉均匀，提高成色品质；烘干装置对涂釉后的瓷器直接进行烘干，提高工作效率。
[0014]附图说明：
[0015]为了更清楚地说明本申请实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0016]图1是本申请装有缓冲装置和转送装置的旋转装置垂直方向的剖面示意图。
[0017]图2是本申请喷釉组件正视图方向的示意图。
[0018]图3是本申请输釉管的立体示意图。
具体实施方式
[0019]如图1
‑
3所示，本申请公开一种陶瓷喷釉装置，其特征在于，包括壳体、旋转装置2、喷釉设备3、烘干装置和清洗装置，所述旋转装置2、喷釉设备3、烘干装置和清洗装置均设在所述壳体的内部，所述旋转装置2与所述壳体连接，所述喷釉设备3与所述旋转装置2连接，所述喷釉设备3与所述壳体连接，所述烘干装置与所述壳体连接，所述清洗装置与所述壳体连接，所述喷釉设备3用于给瓷器涂釉，所述旋转装置2用于放置瓷器和旋转瓷器，使得瓷器能够均匀着釉，所述清洗装置用于清洗所述陶瓷喷釉装置内部喷溅的釉质。
[0020]其中，所述壳体包括控制器、控制组件、遮盖件、输送口和连接线，所述控制器设在所述壳体的外部，所述控制组件设在所述壳体的内部，所述控制器与所述控制组件电连接，所述控制组件与所述连接线电连接，所述连接线设在所述壳体的外部，所述输送口设在所述壳体的侧壁，所述遮盖件设在所述壳体本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种陶瓷喷釉装置，其特征在于，包括壳体、旋转装置、喷釉设备、烘干装置和清洗装置，所述旋转装置、喷釉设备、烘干装置和清洗装置均设在所述壳体的内部，所述旋转装置与所述壳体连接，所述喷釉设备与所述旋转装置连接，所述喷釉设备与所述壳体连接，所述烘干装置与所述壳体连接，所述清洗装置与所述壳体连接，所述喷釉设备用于给瓷器涂釉，所述旋转装置用于放置瓷器和旋转瓷器，使得瓷器能够均匀着釉，所述清洗装置用于清洗所述陶瓷喷釉装置内部喷溅的釉质。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷喷釉装置，其特征在于，所述壳体包括控制器、控制组件、遮盖件、输送口和连接线，所述控制器设在所述壳体的外部，所述控制组件设在所述壳体的内部，所述控制器与所述控制组件电连接，所述控制组件与所述连接线电连接，所述连接线设在所述壳体的外部，所述输送口设在所述壳体的侧壁，所述遮盖件设在所述壳体，所述遮盖件与所述输送口同侧，所述遮盖件与所述输送口配合设置，所述控制组件用于控制所述陶瓷喷釉装置，所述控制器用于控制所述控制组件，所述控制器包括喷釉控制器、烘干控制器和清洗控制器，所述喷釉控制器用于控制所述喷釉设备的开启和关闭，所述烘干控制器用于控制所述烘干装置的开启和关闭，所述清洗控制器用于控制所述清洗装置的开启和关闭，所述连接线用于连接外部供电设备，所述输送口用于输送瓷器，所述遮盖件用于遮盖所述输送口。3.根据权利要求2所述的一种陶瓷喷釉装置，其特征在于，所述旋转装置包括旋转杆、旋转底座、旋转撑台和旋转设备，所述旋转杆与所述旋转设备连接，所述旋转杆与所述壳体连接，所述旋转底座与所述旋转杆连接，所述旋转撑台与所述旋转底座连接，所述旋转设备设在所述旋转杆，所述旋转底座设有孔洞，所述旋转底座用于放置瓷器，所述旋转底座与所述瓷器底部的接触面接触，所述旋转设备设在所述旋转杆内部，所述旋转设备与所述控制组件电连接，所述旋转装置用于旋转瓷器，使得瓷器表面均匀涂釉，所述旋转设备用于旋转所述旋转杆。4.根据权利要求3所述的一种陶瓷喷釉装置，其特征在于，所述旋转撑台设有感应设备和调整设备，所述感应设备设在所述旋转撑台，所述调整设备设在所述旋转撑台，所述感应设备用于感应瓷器底部的接触面，所述调整设备用于控制所述旋转撑台和所述旋转底座，使得所述旋转撑台贴合瓷器底部的接触面，所述旋转底座设有固定件，所述固定件用于固定所述喷釉设备，所述旋转装置与所述喷釉设备电连接。5.根据权利要求4所述的一种陶瓷喷釉装置，其特征在于，所述喷釉设备包括喷釉组件、储釉仓和输釉管，所述喷釉组件包括第一喷釉枪和第二喷釉枪，所述第一喷釉枪设有多个，所述喷釉组件的第二端设有防护罩，所述防护罩面向瓷器方向呈开口状，所述防护罩用于减少釉质的飞溅，所述喷釉组件与所述储釉仓通过所...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵国学，
申请(专利权)人：景德镇读月斋陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：
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