一种高纯度制造技术

本发明专利技术属于真空精密制造技术领域，公开了一种高纯度

【技术实现步骤摘要】
一种高纯度
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Rb金属回收再利用装置及方法


[0001]本专利技术属于真空精密制造
，特别涉及一种高纯度
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Rb金属回收再利用的制造装置及方法。

技术介绍

[0002]87
Rb原子外层电子的超精细跃迁频率是核磁共振陀螺、原子钟的基本工作原理，
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Rb原子被应用于制备核磁共振陀螺、原子钟的核心部件——原子气室。
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Rb是一种活泼的碱金属同位素，极易氧化，遇水反应剧烈，因此需要在超高真空的玻璃安缻中密封储存。我国铷矿产储备丰富但深加工程度低，高纯度
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Rb 严重依赖进口。目前国内传统原子气室制备工艺较为粗放，生产过程中产生
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Rb浪费巨大，导致原子气室制备的投入产出比极大，不利于开展大规模组分优化和深度开发。
[0003]本专利技术的目的：克服现有技术的不足，提供一种高纯度
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Rb金属回收再利用的制造装置和方法，从而大幅降低原子气室制造成本。
[0004]本专利技术的技术方案：
[0005]技术方案一：
[0006]一种高纯度
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Rb金属回收再利用装置，所述装置一端与气室制备管路6连接，用于回收气室制备管路中的高纯度
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Rb金属，所述装置另一端与再利用管路8连接，用于再利用气室制备管路中的高纯度
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Rb金属，所述装置包括回收管路1、密封件、密封件打开装置；
[0007]密封件设置于回收管路1内部，回收管路1两端与大气相通；密封件为玻璃尖嘴2，密封件打开装置包括控制磁铁4和撞击磁铁3；控制磁铁4和撞击磁铁3吸附于回收管路1的侧壁上，控制磁铁4位于回收管路1的外壁，撞击磁铁3位于回收管路1的内壁。
[0008]本专利技术技术方案一的特点和进一步的改进为：
[0009](1)玻璃尖嘴2位于回收管路1内部，将回收管路1分隔为凹陷侧和突出侧，凹陷侧作为所述装置一端，突出侧作为所述装置的另一端。
[0010](2)所述回收管路1和玻璃尖嘴2采用高硼硅玻璃材料制成。
[0011]技术方案二：
[0012]一种高纯度
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Rb金属回收再利用方法，所述方法基于技术方案一所述的装置实现，所述方法为：
[0013]S1，在回收管路1与气室制备管路6连接的凹陷侧回收高纯度
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Rb金属；
[0014]S2，在回收管路1与再利用管路8连接的突出侧再利用高纯度
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Rb金属。
[0015]本专利技术技术方案二的特点和进一步的改进为：
[0016](1)在S1之前，所述方法还包括：
[0017]回收高纯度
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Rb金属时，通过玻璃熔接技术连接回收管路1的凹陷侧和气室制备管路6，气室制备管路6接入外接真空泵进行抽空，使相通的回收管路1 和气室制备管路6同时达到真空状态；
[0018]将
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Rb原子蒸发源7接入外接电流进行加热蒸散，
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Rb原子扩散进入玻璃尖嘴2凹
陷侧，沉积形成固态
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Rb金属5。
[0019](2)在S2之前，所述方法还包括：
[0020]再次利用已回收的高纯度
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Rb金属时，通过玻璃熔接技术连接回收管路1 的突出侧和再利用管路8，再利用管路8接入外接真空泵进行抽空，使相通的回收管路1和再利用管路8同时达到真空状态。
[0021](3)S2具体为：移动控制磁铁4促使撞击磁铁3撞击破坏玻璃尖嘴2，
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Rb 原子被释放进入再利用管路8。
[0022](4)S1还包括：
[0023]在保证玻璃尖嘴2凹陷侧不暴露大气的前提下分离回收管路1和气室制备管路6，取下本装置。
[0024]本专利技术的优点：
[0025](1)本专利技术采用“分装回收+再次利用”思路，将
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Rb原子从蒸发源分装回收，化整为零，减小了原子气室制备管路造成的浪费，降低因不可控风险导致的损失，降低原子气室制造成本；
[0026](2)采用本专利技术的
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Rb金属回收分装方法，在反应、污染之前回收分装，保证了
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Rb金属纯度，从源头上提升原子气室性能的稳定性，此外还可根据需求调整分装单位剂量，增强后续制备工序的灵活性；
[0027](3)采用本专利技术的
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Rb金属再次利用方法，可根据分装单位剂量调整每批次原子气室产量，降低原子气室制备的投入产出比，有利于开展大规模组分优化和深度开发。
附图说明
[0028]图1为用于高纯度
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Rb金属回收再利用装置使用前的组成示意图；
[0029]图2为高纯度
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Rb金属回收完成状态的装置细节图；
[0030]图3为利用装置回收高纯度
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Rb金属的组成示意图；
[0031]图4为将回收完成的高纯度
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Rb金属再次利用的装置组成示意图；
[0032]附图标记说明：1
‑
回收管路，2
‑
玻璃尖嘴，3
‑
撞击磁铁，4
‑
控制磁铁，5
‑
固态
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Rb金属，6
‑
气室制备管路，7
‑
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Rb金属蒸发源，8
‑
再利用管路。
具体实施方式
[0033]下面结合附图对本专利技术技术方案进行详细阐述。
[0034]本专利技术实施例提供一种高纯度
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Rb金属回收再利用装置，所述装置包括回收管路、密封件、密封件打开装置。
[0035]回收管路由高硼硅玻璃材料制成，两端与大气相通；密封件位于回收管路内部,为玻璃尖嘴，将回收管路分隔为凹陷侧和突出侧；控制磁铁和撞击磁铁吸附于回收管路的侧壁上，控制磁铁位于回收管路的外壁，移动控制磁铁可操纵撞击磁铁。
[0036]可选地，回收管路1由高硼硅玻璃材料制成；
[0037]可选地，玻璃尖嘴2由高硼硅玻璃材料制成。
[0038]本专利技术实施例还提供一种回收再利用
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Rb金属的方法，利用如上制造装置，所述方法包括以下步骤：
[0039]回收高纯度
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Rb金属时，连接回收管路1的凹陷侧和气室制备管路6，气室制备管路6接入外接真空泵进行抽空，使相通的回收管路1和气室制备管路 6同时达到真空状态。
[0040]可选地，气室制备管路6由高硼硅玻璃材料制成；
[0041]可选地，通过玻璃熔接技术连接回收管路1的凹陷侧和气室制备管路6；
[0042]将
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Rb原子蒸发源7加热蒸散，
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高纯度
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Rb金属回收再利用装置，其特征在于，所述装置一端与气室制备管路(6)连接，用于回收气室制备管路中的高纯度
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Rb金属，所述装置另一端与再利用管路(8)连接，用于再利用气室制备管路中的高纯度
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Rb金属，所述装置包括回收管路(1)、密封件、密封件打开装置；密封件设置于回收管路(1)内部，回收管路(1)两端与大气相通；密封件为玻璃尖嘴(2)，密封件打开装置包括控制磁铁(4)和撞击磁铁(3)；控制磁铁(4)和撞击磁铁(3)吸附于回收管路(1)的侧壁上，控制磁铁(4)位于回收管路(1)的外壁，撞击磁铁(3)位于回收管路(1)的内壁。2.根据权利要求1所述的高纯度
87
Rb金属回收再利用装置，其特征在于，玻璃尖嘴(2)位于回收管路(1)内部,将回收管路(1)分隔为凹陷侧和突出侧，凹陷侧作为所述装置一端，突出侧作为所述装置的另一端。3.根据权利要求1所述的高纯度
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Rb金属回收再利用装置，其特征在于，所述回收管路(1)和玻璃尖嘴(2)采用高硼硅玻璃材料制成。4.一种高纯度
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Rb金属回收再利用方法，其特征在于，所述方法基于权利要求1
‑
3中任一项所述的装置实现，其特征在于，所述方法为：S1，在回收管路(1)与气室制备管路(6)连接的凹陷侧回收高纯度
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Rb金属；S2，在回收管路(1)与再利用管路(8)连接的突出侧再利用高纯度
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【专利技术属性】
技术研发人员：窦子媛，陈泽学，刘元正，明泽额尔顿，
申请(专利权)人：中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所，
类型：发明
国别省市：