一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法，所述量子点扩散板为单层结构，其包含量子点复合材料、空白母粒、扩散剂和添加剂；所述制备方法包括：一、配制量子点溶液；二、配制包覆量子点所需的前驱体溶液；三、将空白母粒、扩散剂以及添加剂从第一进料口加入挤出成型机，将量子点溶液和包覆量子点所需的前驱体溶液从第二进料口注入挤出成型机内与空白母粒、扩散剂以及添加剂混合均匀后，挤出成型得到高稳定的量子点扩散板。本发明专利技术通过利用空白母粒中含有的水分参与包覆量子点所需前驱体溶液的反应，在挤出成型机中形成量子点复合材料对量子点进行保护；另一方面，通过减少量子点在高温环境中的时间，提高量子点的稳定性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法


[0001]本专利技术涉及光电显示
，特别涉及一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法。
技术背景
[0002]光扩散板作为背光模组中重要组成部分，其主要功能是使入射光充分散射，实现更柔和、均匀的出光效果。随着显示和照明技术的不断发展，优异的光扩散板不仅要满足光分散度高、柔和、色温均匀等要求，在以LED为光源的基础上如何减少蓝光危害、提高透过光色域和实现更加吻合自然光等指标也日益凸显。因此，量子点扩散板技术应运而生，利用具有特殊构造的半导体量子点，将原本蓝色的LED背光源转换为更纯正的三原色复合白光，以提高LCD屏幕的色域范围。
[0003]在现有专利（申请号：201710378860.2）中公开了一种量子点扩散板制成工艺及一种扩散板，其将量子点与甲基丙烯酸甲酯用溶剂混合形成QD
‑
MMA溶液，然后将其进行干燥、预聚合、注模、烘烤、再制备水氧阻隔膜，其整个工艺过程复杂且难以实现量产。而且其还需要昂贵的隔水隔氧膜，这无形中增加了制造成本。
[0004]在现有专利（申请号：202010198836.2）中公开了一种量子点发光功能板及其制备方法，其先分别制备合成量子点的阴阳离子前驱体，然后将阳离子前驱体与扩散剂、塑胶粒子和添加剂混合在一起，最后再与阴离子前驱体混合并挤出成型形成量子点扩散板。该方法难以去除量子点合成过程中多余的杂质，难以控制量子点的生长结构，并且生长的量子点直接镶嵌在扩散板基材中，在没有外面保护层的作用下，量子点容易被空气中渗透的水氧侵蚀掉，从而影响量子点的稳定性。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是提供一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法，该方法可以解决量子点在扩散板中的稳定性问题，并且制备过程简单，不需要昂贵的隔水隔氧膜，不会引入多余的杂质。
[0006]为实现上述目的，本专利技术采取如下技术方案：一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法，所述量子点扩散板为单层结构，按重量份数计：其包含空白母粒100份、量子点复合材料0.025
‑
0.15份、扩散剂0.01
‑
0.05份和添加剂0.01
‑
0.05份；所述制备方法包括：（1）配制量子点溶液；（2）配制包覆量子点所需的前驱体溶液；（3）将空白母粒、扩散剂以及添加剂从第一进料口固体进料口加入挤出成型机，将所配制的量子点溶液和包覆量子点所需的前驱体溶液从第二进料口液体进料口注入挤出成型机内与空白母粒、扩散剂以及添加剂混合均匀后，包覆量子点所需的前驱体溶液接触量子点并在空白母粒中含有的水分的作用下进行水解缩合反应生成包覆层，然后通过挤出机挤出成型形成所述高稳定的量子点扩散板。
[0007]进一步地，所述量子点溶液中的量子点为IIB族
‑
VIA族的化合物、IIIA族
‑
VA族化
合物中的一种或多种组成的具有核壳结构、合金化的量子点；所述量子点溶液中的溶剂为高沸点溶剂如酯类溶剂、脂肪烃溶剂、芳香烃溶剂中的一种或几种；所述量子点溶液还可以是钙钛矿量子点前驱体溶液。
[0008]进一步地，所述包覆量子点所需的前驱体溶液包含正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、双
‑
[3
‑
(三乙氧基硅)
‑
丙基]‑
四硫化物、双
‑
[3
‑
(三乙氧基硅)
‑
丙基]‑
二硫化物、3
‑
巯丙基(二甲氧基)甲硅烷、3
‑
巯丙基三甲氧基硅烷、3
‑
巯丙基三乙氧基硅烷、γ
‑
氨丙基三乙氧基硅烷、N
‑
β
‑
(氨乙基)
‑
γ
‑
氨丙基三甲氧基硅烷异丙醇钛、钛酸四乙酯、异丙醇铝等中的一种或几种，还包括反应所需的催化剂如四甲基氢氧化铵、丙烯酸二甲氨基乙酯、氢氧化铵中的一种或几种。
[0009]进一步地，所述空白母粒可以是聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯、乙烯和丁烯的共聚物、乙烯和醋酸乙烯的共聚物、甲基丙烯酸甲酯
‑
苯乙烯共聚物、丙烯腈
‑
丁二烯
‑
苯乙烯共聚物中的一种或多种。
[0010]进一步地，所述扩散剂为无机扩散剂或有机扩散剂，其中无机扩散剂包括硫酸钡、碳酸钙、二氧化硅、二氧化钛中的一种或多种，有机扩散剂包括亚克力型、苯乙烯型、丙烯酸树脂型中的一种或多种。
[0011]进一步地，所述添加剂包括抗氧剂、阻抑剂、抗静电剂、增韧剂中的一种或几种。
[0012]进一步地，所述抗氧剂可以是芳香胺类抗氧剂如二苯胺、对苯二胺和二轻喹啉等化合物及其衍生物，或者是受阻酚类抗氧剂如2，6
‑
三级丁基
‑4‑
甲基苯酚、双（3，5
‑
三级丁基
‑4‑
羟基苯基）硫醚、四（β
‑
（3，5
‑
三级丁基
‑4‑
羟基苯基）丙酸）季戊四醇酯等，也可以是辅助抗氧剂如硫代二丙酸双酯、双十二碳醇酯、双十四碳醇酯和双十八碳醇酯等中的一种或几种。
[0013]进一步地，所述抗静电剂可以是阳离子抗静电剂如长链的烷基季铵、磷或鏻盐，也可以是阴离子抗静电剂如烷基磺酸、磷酸或二硫代氨基甲酸的碱金属盐，还可以是非离子型抗静电剂如乙氧基化脂肪族烷基胺、乙氧基化烷基酸胺等。
[0014]进一步地，所述增韧剂可以是苯乙烯
‑
丁二烯热塑性弹性体、甲基丙烯酸甲酯
‑
丁二烯
‑
苯乙烯三元共聚物、丙烯腈
‑
丁二烯
‑
苯乙烯共聚物、氯化聚乙烯、乙烯
‑
醋酸乙烯酯共聚物、乙烯
‑
丁烯共聚物、乙烯
‑
辛烯共聚物中的一种或多种。
[0015]进一步地，所述步骤（3）中挤出成型的条件为：惰性环境、成型温度为180~260℃、挤出机螺杆转速为120~200rpm/min、喂料机转速为5~12rpm/min，所述量子点扩散板的厚度为0.5~2mm。
[0016]本专利技术的有益效果是：本专利技术提供了一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法，与现有技术相比，其具有的突出实质性特点是，本专利技术的量子点扩散板在制备过程中将包覆量子点所需的前驱体溶液与量子点溶液、空白母粒、扩散剂和添加剂分别从不同的进料口加入挤出成型机中，利用空白母粒中的水分对包覆量子点的前驱体溶液进行水解缩合反应，在量子点表面形成包覆层，从而提高量子点的稳定性。
附图说明
[0017]下面结合附图和具体实施方式对本专利技术进一步详细的说明：
图1是本专利技术的一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法流程图；图2是本专利技术的一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法所用的挤出成型机的结构示意图，图中1是第一进料口本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法，其特征在于：所述量子点扩散板为单层结构，其原料包含量子点复合材料、空白母粒、扩散剂和添加剂；所述制备方法包括以下步骤：（1）配制量子点溶液；（2）配制包覆量子点所需的前驱体溶液；（3）将空白母粒、扩散剂以及添加剂从第一进料口固体进料口加入挤出成型机，将所配制的量子点溶液和包覆量子点所需的前驱体溶液分别从第二进料口液体进料口注入挤出成型机内与空白母粒、扩散剂以及添加剂混合均匀后，包覆量子点所需的前驱体溶液接触量子点并在空白母粒中含有的水分的作用下进行水解缩合反应生成包覆层，然后通过挤出成型机挤出成型，得到高稳定的量子点扩散板。2.根据权利要求1所述的一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法，其特征在于：所述量子点溶液中的量子点为IIB族
‑
VIA族的化合物、IIIA族
‑
VA族化合物中的一种或多种组成的具有核壳结构、合金化的量子点；所述量子点溶液中的溶剂为高沸点溶剂如酯类溶剂、脂肪烃溶剂、芳香烃溶剂中的一种或几种；所述量子点溶液还可以是钙钛矿量子点前驱体溶液。3.根据权利要求1所述的一种高稳定的量子点扩散板及其制备方法，其特征在于：所述包覆量子点所需的前驱体溶液包含正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、双
‑
[3
‑
(三乙氧基硅)
‑
丙基]
‑
四硫化物、双
‑
[3
‑
(三乙氧基硅)
‑
丙基]
‑
二硫化物、3
‑
巯丙基(二甲氧基)甲硅烷、3
‑
巯丙基三甲氧基硅烷、3
‑
巯丙基三乙氧基硅烷、γ
‑
氨丙基三乙氧基硅烷、N
‑
β
‑
(氨乙基)
‑
γ
‑
氨丙基三甲氧基硅烷异丙醇钛、钛酸四乙酯、异丙醇铝中的一种或几种，还包括反应所...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢洪兴，叶芸，郑雅倩，郭太良，李阳，曾振宇，
申请(专利权)人：闽都创新实验室，
类型：发明
国别省市：