衬底处理设备制造技术

一种能够解决在高温处理期间由于热变形或真空力引起的室部分的未对准问题的衬底处理设备，包括：第一板；第一板上的第二板；位置控制单元，其配置为改变第二板相对于第一板的相对位置；以及支撑单元，其配置为在支撑第二板的同时允许第二板移动。板的同时允许第二板移动。板的同时允许第二板移动。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理设备


[0001]一个或多个实施例涉及衬底安装单元及包括其的衬底处理设备，更具体地，涉及用于防止由于高温下室的下垂或变形而导致的处理均匀性恶化的衬底安装单元，以及包括其的衬底处理设备。

技术介绍

[0002]一种用于处理半导体或显示器衬底的衬底处理设备，比如化学气相沉积(CVD)反应器或原子层沉积(ALD)反应器，包括气体供应单元、衬底支撑单元、排气单元和其他辅助部件。为了保持平稳的衬底处理和稳定的处理结果，部件需要被正确地放置在反应器内的指定位置。然而，在高温过程中，由于热膨胀或施加到反应器或构成反应器的部件的真空力，部件可能从反应器内的指定位置错位或可能彼此不对准。在这种情况下，稳定的衬底处理很困难。
[0003]例如，包括气体供应单元的反应器盖的热变形可能导致气体供应单元和相对布置的衬底支撑单元之间的距离变得与位置不一致，从而降低沉积在衬底上的薄膜的均匀性。此外，由于高温下的热变形以及衬底支撑单元和围绕衬底支撑单元的反应器部件之间的对称中心不匹配，反应空间内的排气流变得不均匀。
[0004]此外，与进行衬底处理设备的初始安装和维护的环境(即室温和大气压)相反，在执行衬底处理的高温和真空条件的情况下，由于施加到衬底处理设备的热变形或真空力，会发生衬底支撑单元的未对准。因此，存在的问题是，相对于反应器中的部件，失去了布置的对称性。

技术实现思路

[0005]一个或多个实施例包括在高温和/或真空环境下保持气体供应单元和与其相对布置的衬底安装单元(即反应空间)之间的恒定间隙。r/>[0006]一个或多个实施例包括在高温和/或真空环境下保持衬底安装单元和围绕衬底安装单元的气流控制单元之间的恒定间隙。
[0007]一个或多个实施例包括在衬底处理温度下调节和校正衬底安装单元的位置，而不降低衬底处理设备的温度。
[0008]附加方面将部分地在下面的描述中阐述，并且部分地将从描述中变得显而易见，或者可以通过实践本公开的所呈现的实施例来了解。
[0009]根据一个或多个实施例，一种衬底处理设备包括：第一板；第一板上的第二板；位置控制单元，其配置为改变第二板相对于第一板的相对位置；以及支撑单元，其配置为在支撑第二板的同时允许第二板移动。
[0010]根据衬底处理设备的示例，支撑单元可以配置为通过位置控制单元防止第二板的过约束状态。
[0011]根据衬底处理设备的另一示例，支撑单元可以包括弹性构件，其配置成产生根据
第二板的移动而变化的弹性力。
[0012]根据衬底处理设备的另一示例，衬底处理设备可以包括连接到第二板的衬底安装单元；以及连接到第一板的驱动单元，其中由驱动单元移动的衬底安装单元的第一移动范围可以大于由位置控制单元移动的衬底安装单元的第二移动范围。
[0013]根据衬底处理设备的另一示例，位置控制单元可以包括配置为相对于第一板竖直移动第二板的竖直位置控制单元。
[0014]根据衬底处理设备的另一示例，衬底处理设备还可以包括连接到第一板的支架，其中竖直位置控制单元可以固定到支架并配置为向第二板的上表面施加力。
[0015]根据衬底处理设备的另一示例，支撑单元可以在竖直位置控制单元下方。
[0016]根据衬底处理设备的另一示例，衬底处理设备还可以包括连接到第一板的下盖，其中支撑单元可以通过第一板的通孔从下盖向第二板延伸，并且支撑单元的侧表面可以与通孔的侧表面分开。
[0017]根据衬底处理设备的另一示例，支撑单元可以延伸穿过第二板的至少一部分，并且支撑单元的侧表面可以与第二板的侧表面分开。
[0018]根据衬底处理设备的另一示例，衬底处理设备还可以包括连接到第二板的衬底安装单元，并且位置控制单元还可以包括配置为相对于第一板水平移动第二板的水平位置控制单元，其中水平位置控制单元可以配置为对由竖直位置控制单元的移动引起的第二板的倾斜导致的衬底安装单元的水平移动执行补偿操作。
[0019]根据衬底处理设备的另一示例，从第二板的中心到第二板和竖直位置控制单元之间的接触点的长度可以是第一长度，从第二板到衬底安装单元的长度可以是第二长度，并且竖直位置控制单元可以在接触点处移动第三长度，其中水平位置控制单元可以配置为将第二板移动通过将第二长度乘以第三长度并除以第一长度获得的值。
[0020]根据衬底处理设备的另一示例，位置控制单元可以包括水平位置控制单元，其配置为相对于第一板水平移动第二板。
[0021]根据衬底处理设备的另一示例，支撑单元可以布置在第二板的侧表面上。
[0022]根据衬底处理设备的另一示例，衬底处理设备还可以包括连接到第一板的第一支架，其中竖直位置控制单元可以固定到第一支架并配置为向第二板的侧表面施加力。
[0023]根据衬底处理设备的另一示例，支撑单元可以包括弹性构件和连接到弹性构件的弹性力传输单元，其中弹性力传输单元可以配置为将由弹性构件产生的弹性力施加到第二板的侧表面。
[0024]根据衬底处理设备的另一示例，衬底处理设备还可以包括连接到第一板的第二支架，其中弹性构件和弹性力传输单元可以插入到第二支架的容纳部分中，弹性力传输单元可以通过第二支架的容纳部分从第二支架的侧表面突出并接触第二板的侧表面。
[0025]根据衬底处理设备的另一示例，弹性力传输单元可以具有圆形端部，并且弹性力传输单元的该端部和水平位置控制单元的端部可以配置为在相同水平处接触第二板的侧表面。
[0026]根据衬底处理设备的另一示例，弹性力传输单元可以包括：插入弹性构件中的主体部分；连接到主体部分的圆形部分；以及从主体部分突出的延伸部，其中延伸部可以与弹性构件接触。
[0027]根据衬底处理设备的另一示例，水平位置控制单元可以包括布置在第二板的侧表面上的两个位置控制单元，其中两个位置控制单元和支撑单元可以相对于第二板的中心对称地布置，并且当两个位置控制单元朝向第一板的中心移动第一距离时，第二板可以朝向支撑单元移动第二距离，其中第二距离可以是第一距离的两倍。
[0028]根据衬底处理设备的另一示例，第二板可以包括第一突起、第二突起和第三突起，位置控制单元可以包括第一突起上的第一位置控制单元、第二突起上的第二位置控制单元、第三突起上的第三位置控制单元、与第一突起相邻的第四位置控制单元和与第二突起相邻的第五位置控制单元，并且支撑单元可以包括与第三突起相邻的第一支撑单元、位于第一位置控制单元下方的第二支撑单元、位于第二位置控制单元下方的第三支撑单元以及位于第三位置控制单元下方的第四支撑单元。
[0029]根据一个或多个实施例，一种衬底处理设备包括：包括第一支架、第二支架和第三支架的第一板；第二板，其布置在第一板上，并包括第一突起、第二突起和第三突起；布置在第一支架和第一突起的上表面之间的第一位置控制单元；布置在第二支架和第二突起的上表面之间的第二位置控制单元；布置在第三支架和第三突起的上表面之间的第三位置控制单元；布置在第一支架和第一突起的侧表面之间的第四位本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底处理设备，包括：第一板；第一板上的第二板；位置控制单元，其配置为改变第二板相对于第一板的相对位置；以及支撑单元，其配置为在支撑第二板的同时允许第二板移动。2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述支撑单元配置为通过所述位置控制单元防止所述第二板的过约束状态。3.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述支撑单元包括弹性构件，其配置为产生根据所述第二板的移动而变化的弹性力。4.根据权利要求1所述的衬底处理设备，还包括：连接到所述第二板的衬底安装单元；以及连接到所述第一板的驱动单元，其中，由驱动单元移动的衬底安装单元的第一移动范围大于由所述位置控制单元移动的衬底安装单元的第二移动范围。5.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述位置控制单元包括竖直位置控制单元，其配置为相对于所述第一板竖直移动所述第二板。6.根据权利要求5所述的衬底处理设备，还包括：连接到所述第一板的支架，其中，所述竖直位置控制单元被固定到所述支架，并且配置为向所述第二板的上表面施加力。7.根据权利要求5所述的衬底处理设备，其中，所述支撑单元位于所述竖直位置控制单元下方。8.根据权利要求7所述的衬底处理设备，还包括：连接到所述第一板的下盖，其中，所述支撑单元通过第一板的通孔从所述下盖朝向所述第二板延伸，并且支撑单元的侧表面与通孔的侧表面分开。9.根据权利要求8所述的衬底处理设备，其中，所述支撑单元延伸穿过所述第二板的至少一部分，并且支撑单元的侧表面与第二板的侧表面分开。10.根据权利要求5所述的衬底处理设备，还包括：连接到所述第二板的衬底安装单元，并且所述位置控制单元还包括水平位置控制单元，其配置为相对于所述第一板水平移动第二板，其中，所述水平位置控制单元配置为对由所述竖直位置控制单元的移动引起的第二板的倾斜导致的所述衬底安装单元的水平移动执行补偿操作。11.根据权利要求10所述的衬底处理设备，其中，从所述第二板的中心到第二板和所述竖直位置控制单元之间的接触点的长度是第一长度，从第二板到所述衬底安装单元的长度是第二长度，并且
竖直位置控制单元在接触点移动第三长度，其中，所述水平位置控制单元配置为将第二板移动通过将第二长度乘以第三长度并除以第一长度获得的值。12.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述位置控制单元包括水平位置控制单元，其配置为相对于所述第一板水平移动所述第二板。13.根据权利要求12所述的衬底处理设备，其中，所述支撑单元布置在所述第二板的侧表面上。14.根据权利要求13所述的衬底处理设备，还包括：连接到所述第一板的第一支架，其中，所述水平位置控制单元被固定到所述第一支架，并且配置为向所述第二板的侧表面施加力。15.根据权利要求14所述的衬底处理设...

【专利技术属性】
技术研发人员：Y郑，李主日，金大渊，HB蔡，
申请(专利权)人：ASMIP私人控股有限公司，
类型：发明
国别省市：