氧化炉层高精度测量方法技术

本发明专利技术提供一种氧化炉层高精度测量方法，该氧化炉层高精度测量方法包括如下步骤：S1、将激光水平仪的水平激光线发射至任意一个测量层的一条基准线上、或者氧化炉顶面或氧化炉底面位置，调整所述氧化炉，使所述水平激光线与该位置处于同一水平面上；S2、利用卷尺以所述水平激光线为水平基准线，测量若干个所述测量层的层高；S3、测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。激光水平仪不受本身设置位置的平整度影响，仅需调整即可发出水平激光线，根据激光水平仪的水平激光线调整氧化炉，能快速调整氧化炉至所需要的位置，利用卷尺以水平激光线为水平基准线，快速且准确定位了测量起点，提高了测量精度和测量效率。效率。效率。

【技术实现步骤摘要】
氧化炉层高精度测量方法


[0001]本专利技术涉及氧化炉测量领域，尤其是一种氧化炉层高精度测量方法。

技术介绍

[0002]氧化炉分为工艺腔和加热腔，在生产过程中对氧化炉层高精度要求极高，层高精度会关系到氧化炉能否与其他设备进行精确对接。但是，氧化炉整体结构为极薄的铝合金板制造，焊接变形大，使用传统的卷尺直接测量氧化炉层高精度，测量误差大、效率低。

技术实现思路

[0003]本专利技术要解决的技术问题是为了克服现有技术中使用传统的卷尺直接测量氧化炉层高精度产生的测量误差大、效率低的缺陷，提供一种氧化炉层高精度测量方法。
[0004]本专利技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题：
[0005]本专利技术提供一种氧化炉层高精度测量方法，该氧化炉层高精度测量方法包括如下步骤：
[0006]S1、将激光水平仪的水平激光线发射至任意一个测量层的一条基准线上、或者氧化炉顶面或氧化炉底面位置，调整所述氧化炉，使所述水平激光线与该位置处于同一水平面上；
[0007]S2、利用卷尺以所述水平激光线为水平基准线，测量若干个所述测量层的层高；
[0008]S3、测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。
[0009]在本方案中，使激光水平仪的水平激光线能够发射至任意的基准位置，便于根据实际需要调整氧化炉至所需位置，也便于对各个测量点进行测量。根据水平激光线调节氧化炉，使水平激光线与该基准位置处于同一水平面上，利用卷尺以该水平面上的水平激光线为水平基准线即测量起点，能够对测量层的层高及选定的基准位置到氧化炉顶面、底面的高度进行测量。激光水平仪不受本身设置位置的平整度影响，仅需调整即可发出水平激光线，根据激光水平仪的水平激光线调整氧化炉，能快速调整氧化炉至所需要的位置，利用卷尺以水平激光线为水平基准线，快速且准确定位了测量起点，提高了测量精度和测量效率。
[0010]优选地，所述步骤S1包括如下步骤：
[0011]S11、将所述激光水平仪安装在可调支撑架上，所述激光水平仪与所述测量层相对架设，将所述激光水平仪校准至规定范围内，使所述激光水平仪能够发出所述水平激光线；
[0012]S12、将所述可调支撑架固定在所述氧化炉中；
[0013]S13、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线能够调节至所述氧化炉的任意所述测量层的任意所述基准线高度及所述氧化炉顶面和所述氧化炉底面高度。
[0014]在本方案中，将激光水平仪安装在可调支撑架上，方便激光水平仪的位置调节，激光水平仪与测量层相对架设，将激光水平仪校准至规定范围内，使激光水平仪能够发出水平激光线，并可以水平激光线基准，调节氧化炉。
[0015]将所述可调支撑架固定在所述氧化炉中，防止测量过程中激光水平仪动摇导致激光线不水平，从而导致氧化炉的基准位置不能调节至水平位置，提高测量精度，也方便一个人进行测量，节省人力。
[0016]调节可调支撑架，使水平激光线能够调节至氧化炉的任意测量层的任意基准线高度及氧化炉顶面和氧化炉底面高度。通过可调支撑架调节激光水平仪的空间位置，可以满足激光水平仪的定向位置移动。
[0017]优选地，在所述步骤S3之后还包括如下步骤：
[0018]S4、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉顶面，若所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉顶面有平整度误差，且相对于所述水平基准线不平行；
[0019]和/或、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉底面，若所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉底面有平整度误差，且相对于所述水平基准线不平行。
[0020]在本方案中，由于水平激光线与基准位置在同一个水平面，当调节可调支撑架时，使所述水平激光线平行调整至氧化炉顶面，氧化炉顶面与水平激光线不完全在一个水平面上，说明氧化炉顶面平整度有误差，氧化炉顶面相对于基准位置不平行。
[0021]和/或，由于水平激光线与基准位置在同一个水平面，当调节可调支撑架时，使所述水平激光线平行调整至氧化炉底面，氧化炉底面与水平激光线不完全在一个水平面上，说明氧化炉底面平整度有误差，氧化炉底面相对于基准位置不平行。
[0022]优选地，所述步骤S2包括如下步骤：
[0023]S21、多次测量所述测量层的层高；
[0024]S22、取所述测量层的多个层高数据平均值作为实际层高。
[0025]在本方案中，对于测量层的层高，需多次测量，取平均值，使得取得的数值为一趋于中间且稳定的数值，能够提高最终数值的精确度。
[0026]优选地，所述步骤S21具体为：
[0027]水平移动所述激光水平仪，形成若干所述水平基准线，在若干所述水平基准线上各选取若干个基准点，利用所述卷尺以所述基准点为基准，测量若干所述水平基准线上方若干个所述测量层的若干个所述层高；
[0028]测量所述水平基准线下方若干个所述测量层的若干个所述层高。
[0029]在本方案中，在与基准位置的同一水平面中确定多条水平基准线，在多条水平基准线上选取多个基准点，从多个位置测量层高，可以更加客观全面地反应层高情况。
[0030]优选地，所述步骤S3包括如下步骤：
[0031]S31、多次测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。
[0032]在本方案中，多次测量水平基准线到氧化炉顶面及氧化炉底面的高度，能够更准确地反映基准位置到氧化炉底面和氧化炉顶面的高度。
[0033]优选地，所述步骤S31具体为：
[0034]水平移动所述激光水平仪，形成若干所述水平基准线，在若干所述水平基准线上各选取若干个基准点，利用所述卷尺以所述基准点为基准，测量若干所述水平基准线到所述氧化炉顶面的若干个所述高度；
[0035]测量若干所述水平基准线到所述氧化炉底面的若干个所述高度。
[0036]在本方案中，在与基准位置同一水平面中确定多条水平基准线，在多条水平基准线上选取多个基准点，是以同一水平面为基准，测量到氧化炉顶面、氧化炉底面的多个高度，可以更加客观全面地反应高度数据。
[0037]优选地，在所述步骤S1中，将所述激光水平仪调整至所述氧化炉的中心基准线的高度，使所述水平激光线发射到所述中心基准线上，调整所述氧化炉，使所述水平激光线与所述中心基准线处于同一平面上。
[0038]在本方案中，以氧化炉的中心基准线为基准确定水平基准线，方便同时对氧化炉的中心基准线上下层高、及到氧化炉顶面、氧化炉底面高度数据进行测量，能够通过中心基准线到氧化炉顶面、氧化炉底面高度数据，并以此高度数据判断氧化炉底面、顶面平整度。
[0039]优选地，在所述步骤S1中，将所述水平激光线发射至所述氧化炉底面上，使所述水平激光线贴合所述氧化炉底面，并保持所述水平激光线在该位置保持不动；
[0040]若所述氧化炉底面与所述水平激光线不完本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：包括如下步骤：S1、将激光水平仪的水平激光线发射至任意一个测量层的一条基准线上、或者氧化炉顶面或氧化炉底面位置，调整所述氧化炉，使所述水平激光线与该位置处于同一水平面上；S2、利用卷尺以所述水平激光线为水平基准线，测量若干个所述测量层的层高；S3、测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。2.如权利要求1所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S1包括如下步骤：S11、将所述激光水平仪安装在可调支撑架上，所述激光水平仪与所述测量层相对架设，将所述激光水平仪校准至规定范围内，使所述激光水平仪能够发出所述水平激光线；S12、将所述可调支撑架固定在所述氧化炉中；S13、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线能够调节至所述氧化炉的任意所述测量层的任意所述基准线高度及所述氧化炉顶面和所述氧化炉底面高度。3.如权利要求2所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：在所述步骤S3之后还包括如下步骤：S4、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉顶面，若所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉顶面有平整度误差，且相对于所述水平基准线不平行；和/或、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉底面，若所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉底面有平整度误差，且相对于所述水平基准线不平行。4.如权利要求1所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S2包括如下步骤：S21、多次测量所述测量层的层高；S22、取所述测量层的多个层高数据平均值作为实际层高。5.如权利要求4所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S21具体为：水平移动所述激光水平仪，形成若干所述水平基准线，在若干所述水平基准线上各选取若干个基准点，利用所述卷尺以所述基准点为基准，测量若干所述水平基准线上方若干个所述测量层的若干个所述层高；测量所述水平基准线下方若干个所述测量层的若干个所述层高。6.如权利要求1所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S3包括如下步骤：S31、多次测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。7.如权利要求6所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S31具体为：水平移动...

【专利技术属性】
技术研发人员：王洁，王镇浩，邹相辉，刘洋，
申请(专利权)人：上海外高桥造船有限公司，
类型：发明
国别省市：