本发明专利技术涉及一种液态源供应装置、方法及半导体工艺系统，包括储液单元、缓冲单元、气体供应单元、气液分离单元、排气单元、吹扫单元、管路单元和压力监测单元。其优点在于，利用储液单元和缓冲单元进行双重备份，在储液单元的液态源不足的情况下，可以仅关闭储液单元，缓冲单元继续向工艺腔室供应液态源，避免出现停机在启动的情况，大大提高生产效率，提高生产良率，减少无谓的损失；利用排气单元和吹扫单元的双重作用，可以在更换储液单元时，对于储液单元连通的管路单元进行排气和吹扫，保证管路单元洁净无杂质，避免污染更换后的储液单元；利用气液分离单元对液态源进行气液分离，避免携带微量气体的液态源进入工艺腔室，保证生产稳定性。稳定性。稳定性。
【技术实现步骤摘要】
一种液态源供应装置、方法及半导体工艺系统
[0001]本专利技术涉及半导体生产
，尤其涉及一种液态源供应装置、方法及半导体工艺系统。
技术介绍
[0002]在半导体生产过程中，稳定的液态源供应能够保障生产效率、生产良率。然而，由于液态源供应设备(如气瓶)等容积有限，导致在液态源的重量低于安全阈值时，需要将整个半导体生产线停机，以更换液态源供应设备。
[0003]在停机过程中，由于更换气瓶会导致管路中存在杂质，导致更换后需要对管路进行清洁。进而导致整个停机维护时间延长，从而导致生产损失。
[0004]此外，在液态源供应过程中，由于是通过气压方式驱动液态源流动，因此液态源中会溶解一定的气体，如果不对溶解于液态源中的气体进行去除，会导致半导体生产良率低，造成损失。
[0005]液态源正常供应和更换气瓶时无法对管路压力进行确定，若存在压力变化会导致半导体生产受到影响。
[0006]另外，在工艺流程中，由于管路密封性原因以及部分设备出现损坏，导致会出现漏液情况，进而无法保障安全。
[0007]目前针对相关技术中存在的需要停机更换气瓶、无法在生产过程中对管路进行清洁、无法去除液态源中的气体、无法侦测管路压力变化、无法检测漏液情况等问题，尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
[0008]本专利技术的目的是针对现有技术中的不足，提供一种液态源供应装置、方法及半导体工艺系统，以解决相关技术中存在的需要停机更换气瓶、无法在生产过程中对管路进行清洁、无法去除液态源中的气体、无法侦测管路压力变化、无法检测漏液情况等问题。
[0009]为实现上述目的，本专利技术采取的技术方案是：
[0010]第一方面，本专利技术提供一种液态源供应装置，包括：
[0011]储液单元，用于储存液态源；
[0012]缓冲单元，所述缓冲单元设置于所述储液单元的下游，并与所述储液单元连通，用于缓冲液态源；
[0013]气体供应单元，所述气体供应单元设置于所述储液单元、所述缓冲单元的上游，并分别与所述储液单元、所述缓冲单元连通，用于分别向所述储液单元、所述缓冲单元供应气体，以使所述储液单元的液态源向所述缓冲单元流动、所述缓冲单元的液态源向下游流动；
[0014]气液分离单元，所述气液分离单元设置于所述缓冲单元的下游，并与所述缓冲单元连通，用于对所述缓冲单元向下游流动的液态源进行气液分离以除去液态源中的气体，并将进行气液分离的液态源向工艺腔室流动；
[0015]排气单元，所述排气单元与所述储液单元连通，用于向所述储液单元提供真空负压；
[0016]吹扫单元，所述吹扫单元与所述储液单元连通，用于向所述储液单元供应气体，在所述储液单元的更换前后，对所述储液单元进行吹扫。
[0017]在其中的一些实施例中，所述缓冲单元还分别与所述排气单元、所述吹扫单元连通。
[0018]在其中的一些实施例中，所述储液单元包括：
[0019]储液元件，所述储液元件分别与所述缓冲单元、所述气体供应单元、所述排气单元、所述吹扫单元连通，用于储存液态源；
[0020]第一阀元件，所述第一阀元件设置于与所述储液元件连通的管路，并位于所述储液元件的上游、所述气体供应单元的下游、所述排气单元的下游、所述吹扫单元的下游；
[0021]第二阀元件，所述第二阀元件设置于与所述储液元件连通的管路，并位于所述储液元件的下游、所述缓冲单元的上游、所述排气单元的下游、所述吹扫单元的下游；
[0022]第一重量监测元件，所述第一重量监测元件设置于所述储液元件的下方，用于监测所述储液元件的重量信息；
[0023]第一压力监测元件，所述第一压力监测元件设置于与所述储液元件连通的管路，并位于所述储液元件的上游，用于监测所述储液元件的进口位置的压力信息；
[0024]第二压力监测元件，所述第二压力监测元件设置于与所述储液元件连通的管路，并位于所述储液元件的下游，用于监测所述储液元件的出口位置的压力信息。
[0025]在其中的一些实施例中，所述缓冲单元包括：
[0026]缓冲元件，所述缓冲元件分别与所述储液单元、所述气体供应单元、所述气液分离单元连通，用于缓冲液态源；
[0027]第三阀元件，所述第三阀元件设置于与所述缓冲元件连通的管路，并位于所述储液单元与所述缓冲元件之间；
[0028]第二重量监测元件，所述第二重量监测元件设置于所述缓冲元件的下方，用于监测所述缓冲元件的重量信息。
[0029]在其中的一些实施例中，所述缓冲单元还包括：
[0030]第十三阀元件，所述第十三阀元件设置于与所述缓冲元件连通的管路，并位于所述缓冲元件的上游、所述气体供应单元的下游、所述排气单元的下游、所述吹扫单元的下游；
[0031]第十四阀元件，所述第十四阀元件设置于与所述缓冲元件连通的管路，并位于所述缓冲元件的下游、所述气液分离单元的上游、所述排气单元的下游、所述吹扫单元的下游；
[0032]第七压力监测元件，所述第七压力监测元件设置于与所述缓冲元件连通的管路，并位于所述缓冲元件的上游，用于监测所述缓冲元件的进口位置的压力信息；
[0033]第八压力监测元件，所述第八压力监测元件设置于与所述缓冲元件连通的管路，并位于所述缓冲元件的下游，用于监测所述缓冲元件的出口位置的压力信息。
[0034]在其中的一些实施例中，所述气体供应单元包括：
[0035]第一气体供应元件，所述第一气体供应元件设置于所述储液单元的上游，并与所
述储液单元连通，用于向所述储液单元供应气体，以使所述储液单元的液态源向所述缓冲单元流动；
[0036]第二气体供应元件，所述第二气体供应元件设置于所述缓冲单元的上游，并与所述缓冲单元连通，用于向所述缓冲单元供应气体，以使所述缓冲单元的液态源向所述气液分离单元流动；
[0037]第四阀元件，所述第四阀元件设置于与所述第一气体供应元件连通的管路，并位于所述第一气体供应元件与所述储液单元之间；
[0038]第五阀元件，所述第五阀元件设置于与所述第二气体供应元件连通的管路，并位于所述第二气体供应元件与所述缓冲单元之间。
[0039]在其中的一些实施例中，所述气体供应单元还包括：
[0040]第五压力监测元件，所述第五压力监测元件设置于与所述第一气体供应元件连通的管路，并位于所述储液单元的上游，用于监测与所述第一气体供应元件连通的管路的压力信息；
[0041]第六压力监测元件，所述第六压力监测元件设置于与所述第二气体供应元件连通的管路，并位于所述缓冲单元的上游，用于监测与所述第二气体供应元件连通的管路的压力信息。
[0042]在其中的一些实施例中，所述气液分离单元包括：
[0043]气液分离元件，所述气液分离元件设置于所述缓冲单元的下游，并与所述缓冲单元连通，用于对所述缓冲单元向下游流动的液态源进行气液分离以除去液态源中的气体，并将进行气液分离的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种液态源供应装置，其特征在于，包括：储液单元，用于储存液态源；缓冲单元，所述缓冲单元设置于所述储液单元的下游，并与所述储液单元连通，用于缓冲液态源；气体供应单元，所述气体供应单元设置于所述储液单元、所述缓冲单元的上游，并分别与所述储液单元、所述缓冲单元连通，用于分别向所述储液单元、所述缓冲单元供应气体，以使所述储液单元的液态源向所述缓冲单元流动、所述缓冲单元的液态源向下游流动；气液分离单元，所述气液分离单元设置于所述缓冲单元的下游，并与所述缓冲单元连通，用于对所述缓冲单元向下游流动的液态源进行气液分离以除去液态源中的气体，并将进行气液分离的液态源向工艺腔室流动；排气单元，所述排气单元与所述储液单元连通，用于向所述储液单元提供真空负压；吹扫单元，所述吹扫单元与所述储液单元连通，用于向所述储液单元供应气体，在所述储液单元的更换前后，对所述储液单元进行吹扫。2.根据权利要求1所述的液态源供应装置，其特征在于，所述储液单元包括：储液元件，所述储液元件分别与所述缓冲单元、所述气体供应单元、所述排气单元、所述吹扫单元连通，用于储存液态源；第一阀元件，所述第一阀元件设置于与所述储液元件连通的管路，并位于所述储液元件的上游、所述气体供应单元的下游、所述排气单元的下游、所述吹扫单元的下游；第二阀元件，所述第二阀元件设置于与所述储液元件连通的管路，并位于所述储液元件的下游、所述缓冲单元的上游、所述排气单元的下游、所述吹扫单元的下游；第一重量监测元件，所述第一重量监测元件设置于所述储液元件的下方，用于监测所述储液元件的重量信息；第一压力监测元件，所述第一压力监测元件设置于与所述储液元件连通的管路，并位于所述储液元件的上游，用于监测所述储液元件的进口位置的压力信息；第二压力监测元件，所述第二压力监测元件设置于与所述储液元件连通的管路，并位于所述储液元件的下游，用于监测所述储液元件的出口位置的压力信息。3.根据权利要求1所述液态源供应装置，其特征在于，所述缓冲单元包括：缓冲元件，所述缓冲元件分别与所述储液单元、所述气体供应单元、所述气液分离单元连通，用于缓冲液态源；第三阀元件，所述第三阀元件设置于与所述缓冲元件连通的管路，并位于所述储液单元与所述缓冲元件之间；第二重量监测元件，所述第二重量监测元件设置于所述缓冲元件的下方，用于监测所述缓冲元件的重量信息。4.根据权利要求1所述的液态源供应装置，其特征在于，所述气体供应单元包括：第一气体供应元件，所述第一气体供应元件设置于所述储液单元的上游，并与所述储液单元连通，用于向所述储液单元供应气体，以使所述储液单元的液态源向所述缓冲单元流动；第二气体供应元件，所述第二气体供应元件设置于所述缓冲单元...
【专利技术属性】
技术研发人员：纪雪峰，陈亮，范威威，
申请(专利权)人：上海良薇机电工程有限公司，
类型：发明
国别省市：
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