针头用清洗模块及移液点样工作站制造技术

本申请提供了一种针头用清洗模块及移液点样工作站。清洗模块包括清洗区，清洗区包括：清洗槽，清洗槽的底部设置有用于排出液体的排出口；清洗柱，清洗柱设置在清洗槽中，清洗柱中设置有一个或多个清洗孔，清洗孔中能够竖直向上地喷出清洗液，且清洗液的喷出高度大于清洗柱的最高点，清洗柱的顶面包括倾斜程度不同的两个面，倾斜程度不同的两个面之间为转折部，转折部穿过清洗孔的圆心。移液点样工作站包括上述清洗模块以及液滴模块，液滴模块能够吸取及喷出液体，液滴模块包括针头，在针头移动到清洗孔而被清洗时，针头位于清洗柱的最高点的上方。上方。上方。

【技术实现步骤摘要】
针头用清洗模块及移液点样工作站


[0001]本申请涉及一种针头用清洗模块及移液点样工作站。

技术介绍

[0002]在例如基因芯片点样设备中，在添加样本或试剂时，通常会采用移液针进行采样、移液、点样。在点样结束后，为避免污染，通常会对移液针进行清洗，清洗过后再进行新一轮的采样、移液、点样步骤。
[0003]对于皮、纳升级别的点样设备来说，其针头在每次点样后都需要清洗。在例如CN217017686U公开的清洗设备中，针头需要插入设备内部的特定位置再进行清洗。对于对位的精度要求较高，且花费时间较长，不够方便。对于一些腐蚀性、易扩散的液体样本，插入清洗装置内部意味着这些样本要与清洗装置内部接触，为了避免交叉污染以及提高清洗设备的使用寿命，应尽量避免这种情况发生。

技术实现思路

[0004]本申请提供了针头用清洗模块及移液点样工作站。
[0005]该针头用清洗模块包括清洗区，所述清洗区包括：
[0006]清洗槽，所述清洗槽的底部设置有用于排出液体的排出口；
[0007]清洗柱，所述清洗柱设置在所述清洗槽中，所述清洗柱中设置有一个或多个清洗孔，所述清洗孔中能够竖直向上地喷出清洗液，且所述清洗液的喷出高度大于所述清洗柱的最高点，
[0008]所述清洗柱的顶面包括倾斜程度不同的两个面，所述倾斜程度不同的两个面之间为转折部，所述转折部穿过所述清洗孔的圆心。
[0009]在至少一个实施方式中，所述倾斜程度不同的两个面包括水平面和斜面。
[0010]在至少一个实施方式中，所述斜面的高度随着远离所述转折部而逐渐降低。
[0011]在至少一个实施方式中，在水平方向上，所述斜面比所述水平面更靠近所述排出口。
[0012]在至少一个实施方式中，所述清洗柱的远离所述排出口的一侧设置有弧形面。
[0013]在至少一个实施方式中，所述清洗槽的底部内面为倾斜的面，并且所述排出口位于所述清洗槽的底部内面的最低点。
[0014]在至少一个实施方式中，所述针头用清洗模块包括清洗液供应源，所述清洗液供应源连接于所述清洗孔，所述清洗液供应源与所述清洗孔之间设置有止回阀。
[0015]在至少一个实施方式中，所述针头用清洗模块还包括干燥区，所述干燥区包括干燥块、底座和导轨，
[0016]所述底座滑动安装于所述导轨，所述干燥块连接于所述底座，所述干燥块抵靠于所述清洗槽。
[0017]本申请提供的移液点样工作站包括如上所述的清洗模块；以及
[0018]液滴模块，所述液滴模块能够吸取及喷出液体，所述液滴模块包括针头，
[0019]在所述针头移动到所述清洗孔而被清洗时，所述针头位于所述清洗柱的最高点的上方。
[0020]在至少一个实施方式中，移液点样工作站包括如上所述的清洗模块；以及
[0021]点样工位模块，所述干燥区位于所述点样工位模块与所述清洗区之间。
[0022]本申请提供的清洗模块竖直地喷出清洗液，针头可以不必插入清洗模块的内部，效率较高，且尽可能避免了交叉污染的问题。
[0023]移液点样工作站因具有上述清洗模块而同样具有上述优点。
附图说明
[0024]图1示出了根据本申请实施方式的移液点样工作站的整体结构的示意图。
[0025]图2示出了根据本申请实施方式的移液点样工作站的部分结构的示意图。
[0026]图3示出了根据本申请实施方式的移液点样工作站的液滴模块的示意图。
[0027]图4示出了图3中的液滴模块的液滴模块主体的结构示意图。
[0028]图5示出了图4中的液滴模块主体的针头的结构示意图。
[0029]图6示出了根据本申请实施方式的移液点样工作站的点样工位模块和清洗模块的结构示意图。
[0030]图7示出了根据本申请实施方式的移液点样工作站的点样工位模块中的安装槽的俯视图。
[0031]图8示出了根据本申请实施方式的移液点样工作站的清洗模块的清洗区的轴测图。
[0032]图9示出了图8中的清洗区的俯视图。
[0033]图10示出了根据本申请实施方式的移液点样工作站的清洗模块的干燥区的导轨与底座的侧视图。
[0034]附图标记说明
[0035]1框架；11基板；
[0036]2运动模块；21第一滑块；22第二滑块；23第三滑块；
[0037]3液滴模块；31气源；32气源控制器；33液滴主体模块；331第一流道；332第二流道；333第三流道；3331第一端；3332第二端；3333端部开口；334针头；3341第一端；3342第二端；335壳体结构；336流道控制结构；3361密封塞；3362连接件；3363主体；3371第一挡板；3372第二挡板；
[0038]4检测模块；41检测相机；42补光设备；
[0039]5试剂模块；
[0040]6点样工位模块；61第一基座；611安装槽；612第一冗余空间；613第二冗余空间；614通孔；62基柱；63第二基座；
[0041]7清洗模块；71清洗区；711清洗槽；7111排出口；712清洗柱；7121清洗孔；7122转折部；7123水平面；7124斜面；7125弧形面；713连接块；72干燥区；721干燥块；722底座；723导轨；
[0042]L1腰线；L2轴线。
具体实施方式
[0043]下面参照附图描述本申请的示例性实施方式。应当理解，这些具体的说明仅用于
示教本领域技术人员如何实施本申请，而不用于穷举本申请的所有可行的方式，也不用于限制本申请的范围。
[0044]本申请实施方式提供了移液点样工作站。参见图1、图2，移液点样工作站可以包括框架1、运动模块2、液滴模块3(图中未示出)、检测模块4、试剂模块5、点样工位模块6、清洗模块7。
[0045]参见图1、图2，框架1可以包括基板11、壳体和电气柜。上述运动模块2、试剂模块5、点样工位模块6、清洗模块7可以安装于基板11。基板11的底部可以设置电气柜。壳体可以设置例如透明玻璃、塑料等材料，起到一定密封作用的同时，方便对移液、点样过程进行观察。
[0046]参见图2，其中，X、Y、Z三个方向互相垂直。运动模块2可以安装于基板11。运动模块2可以为三轴运动平台，使得安装于运动模块2上的例如液滴模块3(图中未示出)、检测模块4可以实现在X、Y、Z三个方向的运动。
[0047]示例性地，运动模块2可以通过滑块、导轨、电机等结构组成。例如Y方向并排设置两个导轨。当然，X方向、Z方向也可以并排设置两个导轨，增加稳定性。其中的滑块可以包括在Z向移动的第一滑块21、在X方向移动的第二滑块22和在Y向移动的第三滑块23。滑块上可以设置导轨而发挥导向作用，第二滑块22可以为或包括第一滑块21的导轨，第三滑块23可以为或包括第二滑块22的导轨。液滴模块3、检测模块4可以连接于第一滑块21，进而可以实现在X、Y、Z三个本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种针头用清洗模块，其特征在于，包括清洗区(71)，所述清洗区(71)包括：清洗槽(711)，所述清洗槽(711)的底部设置有用于排出液体的排出口(7111)；清洗柱(712)，所述清洗柱(712)设置在所述清洗槽(711)中，所述清洗柱(712)中设置有一个或多个清洗孔(7121)，所述清洗孔(7121)中能够竖直向上地喷出清洗液，且所述清洗液的喷出高度大于所述清洗柱(712)的最高点，所述清洗柱(712)的顶面包括倾斜程度不同的两个面，所述倾斜程度不同的两个面之间为转折部(7122)，所述转折部(7122)穿过所述清洗孔(7121)的圆心。2.根据权利要求1所述的针头用清洗模块，其特征在于，所述倾斜程度不同的两个面包括水平面(7123)和斜面(7124)。3.根据权利要求2所述的针头用清洗模块，其特征在于，所述斜面(7124)的高度随着远离所述转折部(7122)而逐渐降低。4.根据权利要求2所述的针头用清洗模块，其特征在于，在水平方向上，所述斜面(7124)比所述水平面(7123)更靠近所述排出口(7111)。5.根据权利要求1所述的针头用清洗模块，其特征在于，所述清洗柱(712)的远离所述排出口(7111)的一侧设置有弧形面(7125)。6.根据权利要求1所述的针头用清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：周夫之，王羿，何萍萍，陈浩，施德盛，叶明汉，
申请(专利权)人：上海睿度光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：