本发明专利技术公开了隐足建盏的制备工艺及其制备的隐足建盏，制备工艺包括以下步骤：(1)制备坯体和釉浆，其中，所述坯体底足为双底足，包括间隔设置的外底足和内底足，所述内底足高度小于所述外底足，所述内底足悬空设置；(2)施釉：所述内底足不施釉，坯体其它位置均施釉；(3)将施釉晾干后的坯体放入窑炉内进行焙烧，所述内底足放置于支垫上，所述支垫宽度小于所述外底足，所述外底足悬空放置。本发明专利技术烧制得到的隐足建盏的外底足具有釉层，光滑细腻，放置于茶桌上不会摩擦损坏茶桌。同时在烧制过程中，不会产生流釉粘窑的缺陷，成品率提高。成品率提高。成品率提高。
【技术实现步骤摘要】
隐足建盏的制备工艺及其制备的隐足建盏
[0001]本专利技术涉及瓷器
，具体地说是涉及建盏的制备工艺。
技术介绍
[0002]建盏的外形一般以沿口宽敞、底部微小、形状如漏斗为特征。底部以浅圈来承载器身，名为“圈足”或“底足”。
[0003]建盏在烧制过程中，为了防止釉层流到盏器底部出现粘窑的情况，在建盏外壁往往施半釉，即坯体外底部(圈足及圈足往上一部分)不施釉，以免在高温烧制过程中釉水过厚向下流淌，导致粘窑成为废盏。
[0004]因而建盏外底部无釉层，质地较粗，在茶桌上使用时，易使茶桌产生摩擦痕迹，对茶桌表面造成损坏。
[0005]因此，本领域需要开发一种底部细腻、对茶桌不会造成损坏的建盏。
技术实现思路
[0006]本专利技术的目的在于提供隐足建盏的制备工艺，该隐足建盏底部细腻、对茶桌不会造成损坏。
[0007]为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0008]隐足建盏的制备工艺，包括以下步骤：
[0009](1)制备坯体和釉浆，其中，
[0010]所述坯体底足为双底足，包括间隔设置的外底足和内底足，所述内底足高度小于所述外底足，所述内底足悬空设置；
[0011](2)施釉：所述内底足不施釉，坯体其它位置均施釉；
[0012](3)将施釉晾干后的坯体放入窑炉内进行焙烧，所述内底足放置于支垫上，所述支垫宽度小于所述外底足，所述外底足悬空放置。
[0013]进一步地，所述施釉为：将内底足底面上蜡，然后整个坯体放入釉浆中浸泡上釉，再取出晾干。
[0014]进一步地，所述浸泡时间为2
‑
5s。
[0015]进一步地，所述釉浆通过以下方法制备：称取150重量份的釉石、98
‑
102重量份的钾长石、48
‑
51重量份的石灰石、19
‑
21重量份的滑石、43
‑
45重量份的红土及365
‑
375重量份的水，加入球磨机中研磨，过100
‑
110目筛，得到釉浆。
[0016]进一步地，所述坯体通过以下方法制备：将2
‑
2.5重量份的红土、7
‑
9重量份的高岭土混合得到坯土，将坯土粉碎、淘洗，过80
‑
90目筛，压滤、炼泥、陈腐，得到坯泥；将所述坯泥拉坯成型、修坯、素烧、冷却，得到坯体。
[0017]进一步地，所述红土和高岭土取自福建省南平市建阳区水吉镇，所述釉石取自福建省南平市建阳区南林村。
[0018]一种隐足建盏，所述的隐足建盏通过以上所述的工艺制备获得。
[0019]采用上述技术方案后，本专利技术具有如下优点：
[0020]本专利技术烧制得到的隐足建盏，坯体底足为双底足，包括外底足和内底足，所述内底足高度小于所述外底足，所述内底足悬空设置。内底足不施釉，其它位置施釉。如此，建盏外底足具有釉层，光滑细腻，放置于茶桌上不会摩擦损坏茶桌。同时在烧制过程中，不会产生流釉粘窑的缺陷，成品率提高。
附图说明
[0021]图1为本专利技术制得的建盏的示例图；
[0022]图2为图1的剖视图；
[0023]图3为本专利技术实施例1制得的建盏的照片示例图。
[0024]附图符号说明：
[0025]内底足1、外底足2。
具体实施方式
[0026]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0027]在本专利技术中，若非特指，所有的份、百分比均为重量单位，所有的设备和原料等均可从市场购得或是本行业常用的。下述实施例中的方法，如无特别说明，均为本领域的常规方法。
[0028]实施例1
[0029]隐足建盏的制备工艺，包括以下步骤：
[0030](1)制备坯体和釉浆，其中，
[0031]所述坯体通过以下方法制备：将2.3重量份的红土、8重量份的高岭土混合得到坯土，将坯土粉碎、淘洗，过80目筛，压滤、炼泥、陈腐，得到坯泥；将所述坯泥拉坯成型、修坯、素烧、冷却，得到坯体。
[0032]参看图1和图2，所述坯体底足为双底足，包括间隔设置的外底足2和内底足1，内底足1高度小于外底足2，内底足1悬空设置；
[0033]本实施例中，外底足2和内底足1均为环形底足，其它实施方式中外底足2和内底足1可为其它形状。
[0034]所述釉浆通过以下方法制备：称取150重量份的釉石、100重量份的钾长石、50重量份的石灰石、20重量份的滑石、45重量份的红土及370重量份的水，加入球磨机中研磨，过110目筛，得到釉浆。
[0035]所述红土和高岭土取自福建省南平市建阳区水吉镇，所述釉石取自福建省南平市建阳区南林村。
[0036](2)施釉：内底足1不施釉，坯体其它位置均施釉，具体为：将内底足1底面上蜡，然后整个坯体放入釉浆中浸泡2
‑
3s，再取出晾干。
[0037](3)将施釉晾干后的坯体放入窑炉内进行焙烧，内底足1放置于支垫上，所述支垫宽度小于外底足2，外底足2悬空放置。
[0038]本专利技术烧制得到的隐足建盏，坯体底足为双底足，包括外底足2和内底足1，内底足1高度小于外底足2，内底足1悬空设置。内底足1不施釉，其它位置施釉。如此，建盏外底足2具有釉层(参看图3)，光滑细腻，放置于茶桌上不会摩擦损坏茶桌。同时在烧制过程中，不会产生流釉粘窑的缺陷，成品率提高。
[0039]以上，仅为本专利技术较佳的具体实施方式，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。因此，本专利技术的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.隐足建盏的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：(1)制备坯体和釉浆，其中，所述坯体底足为双底足，包括间隔设置的外底足和内底足，所述内底足高度小于所述外底足，所述内底足悬空设置；(2)施釉：所述内底足不施釉，坯体其它位置均施釉；(3)将施釉晾干后的坯体放入窑炉内进行焙烧，所述内底足放置于支垫上，所述支垫宽度小于所述外底足，所述外底足悬空放置。2.如权利要求1所述的隐足建盏的制备工艺，其特征在于：所述施釉为：将内底足底面上蜡，然后整个坯体放入釉浆中浸泡上釉，再取出晾干。3.如权利要求2所述的隐足建盏的制备工艺，其特征在于：所述浸泡时间为2
‑
5s。4.如权利要求1所述的隐足建盏的制备工艺，其特征在于：所述釉浆通过以下方法制备：称取150重量份的釉石、98
‑
102重量份的钾长石、48
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51重量份的石灰石、19
‑
【专利技术属性】
技术研发人员：陈志斌，
申请(专利权)人：陈志斌，
类型：发明
国别省市：
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