印刷物制造技术

提供一种印刷物，其使用了易粘接性聚酯薄膜，所述易粘接性聚酯薄膜的透明性高且具有抗粘连性，对各种墨组合物具有良好的密合性，特别是在低辐射剂量加工时或者高速印刷时对于UV固化型墨的密合性良好。一种具有特定的特性的印刷物，其是在于聚酯薄膜基材的至少一个面具有涂布层的易粘接性聚酯薄膜的前述涂布层上层叠选自UV固化型墨、溶剂型墨、氧化聚合型墨、热转印墨带、LBP调色剂中的至少1层的墨层而成的，前述涂布层是含有具有聚碳酸酯结构的聚氨酯树脂、交联剂和聚酯树脂的组合物固化而成的。成的。成的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】印刷物


[0001]本专利技术涉及与各种墨层的密合性优异的印刷物。更详细而言，涉及具有最适于紫外线(UV)固化型墨、溶剂型墨、氧化聚合型墨、热转印墨带、LBP调色剂等的所有种类的墨层的易粘接性的涂布层的印刷物。

技术介绍

[0002]双轴拉伸聚酯薄膜由于其机械强度、耐热性、耐化学药品性、尺寸稳定性、与价格的平衡性而被广泛用于各种产业资材用途、民用用途等。尤其在对透明薄膜实施印刷的各种商业印刷用途、装饰板、包装罐、标签等方面是不可或缺的存在。然而，通常聚酯薄膜与印刷墨的粘接性差，因此通常设置使用了具有易粘接性的树脂的锚固涂布层。其中针对以聚酯为主的相对极性高的薄膜，提出了使用水溶性或者水分散性的聚酯系树脂、丙烯酸系树脂的方案(例如参照专利文献1、专利文献2、专利文献3和专利文献4)。然而，上述聚酯系树脂存在薄膜卷状态下的抗粘连性容易变差、而且上述丙烯酸系树脂对于基础薄膜和印刷墨的粘接性容易变差的缺点。因此为了进行它们的改善，还提出了将上述聚酯系树脂与上述丙烯酸系树脂混合使用(例如参照专利文献5)，但难以说缺点的改善是充分的。进而，还提出了使用以接枝改性为中心的各种改性聚酯的方案。另外，公开了：将含不饱和键的化合物接枝化于能进行水溶化或者水分散的含亲水基团的聚酯树脂中而得到的树脂适合作为聚酯薄膜的锚涂剂(例如参照专利文献6、专利文献7和专利文献8)。然而，在粘接性、耐水性方面性能尚不充分。进而，虽然公开了聚酯的接枝改性树脂(例如参照专利文献9和专利文献10)，但由于缺乏聚集力，因此脱落、划伤等方面存留有问题。
[0003]这些问题在印刷用途中与导致划痕划伤的产生、涂膜/润滑剂颗粒的脱落、墨的转印不良/剥离的致命性缺陷相关。尤其在单片胶版印刷用途中，由于给纸/输送时受到强烈摩擦、因使用UV固化型墨而要求高易粘接性等而是不可或缺的特性。
[0004]近些年，在印刷行业，出于提高生产率的目的而推进了印刷的高速化。在使用了UV固化型墨的印刷的高速化中，从墨涂布到UV照射所需的上述时间、UV累积光量减少。即，墨与聚酯薄膜及与涂布层的相互作用变弱。因此，对涂布层要求与UV固化型墨的更高的密合性。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开昭54
‑
43017号公报
[0008]专利文献2：日本特公昭49
‑
10243号公报
[0009]专利文献3：日本特开昭52
‑
19786号公报
[0010]专利文献4：日本特开昭52
‑
19787号公报
[0011]专利文献5：日本特开昭58
‑
124651号公报
[0012]专利文献6：日本特开平2
‑
3307号公报
[0013]专利文献7：日本特开平2
‑
171243号公报
[0014]专利文献8：日本特开平2
‑
310048号公报
[0015]专利文献9：日本特开平3
‑
273015号公报
[0016]专利文献10：日本特开平3
‑
67626号公报

技术实现思路

[0017]专利技术要解决的问题
[0018]本专利技术是以上述现有技术的课题为背景而完成的。即，本专利技术的目的在于，提供一种印刷物，其使用了易粘接性聚酯薄膜，所述易粘接性聚酯薄膜的透明性高且具有抗粘连性，对各种墨组合物具有良好的密合性，特别是在低辐射剂量加工时或者高速印刷时对于以UV固化型墨为代表的各种墨组合物的密合性良好。
[0019]用于解决问题的方案
[0020]为了解决上述课题，本专利技术人在对上述问题的原因等进行了研究的过程中发现：在聚酯薄膜基材的至少一个面具有涂布层，所述涂布层包含交联剂、具有聚碳酸酯结构的聚氨酯树脂、和聚酯树脂，该涂布层内的氮原子比率和与聚酯薄膜基材相反侧的该涂布层表面的OCOO键的比率满足特定的条件时能够解决本专利技术的课题，以至完成了本专利技术。
[0021]前述的课题可以通过以下的解决手段实现。
[0022]1.一种印刷物，其是在于聚酯薄膜基材的至少一个面具有涂布层的易粘接性聚酯薄膜的所述涂布层上层叠选自UV固化型墨、溶剂型墨、氧化聚合型墨、热转印墨带、LBP调色剂中的至少1层的墨层而成的，
[0023]所述涂布层是使含有具有聚碳酸酯结构的聚氨酯树脂、交联剂和聚酯树脂的组合物固化而形成的，
[0024]在针对所述涂布层的、基于X射线光电子能谱法的深度方向的元素分布测定的氮元素的分布曲线中，将与聚酯薄膜基材相反侧的涂布层表面的氮原子比率设为A(at％)、氮原子比率的最大值设为B(at％)、氮原子比率显示最大值B(at％)的蚀刻时间设为b(秒)、在b(秒)以后氮原子比率变为1/2B(at％)时的蚀刻时间设为c(秒)时，满足下述式(i)～(iii)式，并且在利用X射线光电子能谱法测定的表面分析图谱中，将C1s图谱区域的源自各键种的峰面积总计设为100(％)、源自OCOO键的峰面积设为X(％)时，满足下述式(iv)，
[0025](i)0.5≤B
‑
A(at％)≤3.0
[0026](ii)30≤b(秒)≤180
[0027](iii)30≤c
‑
b(秒)≤300
[0028](iv)2.0≤X(％)≤10.0。
[0029]2.根据上述第1所述的印刷物，其易粘接性聚酯薄膜的雾度为1.5(％)以下。
[0030]专利技术的效果
[0031]根据本专利技术，可以得到基材与墨层的密合性良好的各种印刷物。尤其在低辐射剂量加工时或者高速印刷时与以UV固化型墨为代表的各种墨组合物的密合性良好。进而，本专利技术的易粘接性聚酯薄膜的透明性高、抗粘连性优异。
附图说明
[0032]图1是关于实施例2的易粘接性聚酯薄膜的基于利用X射线光电子能谱法的深度方
向的元素分布测定的氮元素的分布曲线。
[0033]图2是用于由基于利用X射线光电子能谱法的深度方向的元素分布测定的氮元素的分布曲线求出B
‑
A、b、和c
‑
b的说明图。
[0034]图3是关于实施例5的易粘接性聚酯薄膜的基于利用X射线光电子能谱法的深度方向的元素分布测定的氮元素的分布曲线。
[0035]图4是关于实验例6的易粘接性聚酯薄膜的基于利用X射线光电子能谱法的深度方向的元素分布测定的氮元素的分布曲线。
[0036]图5是示出实施例6的易粘接性聚酯薄膜的涂布层表面区域的C1s图谱的解析结果的图。
[0037]图6是示出实验例1的易粘接性聚酯薄膜的涂布层表面区域的C1s图谱的解析结果的图。
具体实施方式
[0038](聚酯薄膜基材)
[0039]本专利技术中，构成聚酯薄膜基材的聚酯树脂除了为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种印刷物，其是在于聚酯薄膜基材的至少一个面具有涂布层的易粘接性聚酯薄膜的所述涂布层上层叠选自UV固化型墨、溶剂型墨、氧化聚合型墨、热转印墨带、LBP调色剂中的至少1层的墨层而成的，所述涂布层是使含有具有聚碳酸酯结构的聚氨酯树脂、交联剂和聚酯树脂的组合物固化而形成的，在针对所述涂布层的、基于X射线光电子能谱法的深度方向的元素分布测定的氮元素的分布曲线中，将与聚酯薄膜基材相反侧的涂布层表面的氮原子比率设为A(at％)、氮原子比率的最大值设为B(at％)、氮原子比率显示最大值B(at％)的蚀刻时间设为b(秒)、在b(秒)以后氮原子...

【专利技术属性】
技术研发人员：高木纪志，多喜博，泷井功，
申请(专利权)人：东洋纺株式会社，
类型：发明
国别省市：