遗址区域内永久性基坑支护坑中坑结构制造技术

本实用新型专利技术属于遗址基坑防护领域，涉及一种遗址区域内永久性基坑支护坑中坑结构，其特征在于，包括设置在遗址区域内的基坑，所述基坑四周挖设阶梯状台阶，且每层台阶上等间距设置有若干桩柱，桩柱直径由上到下每层桩柱直径等量增加，桩柱通过连梁顶接在上层台阶的竖直面上。该基坑支护结构通过地下连续墙和内衬墙的结合来增强连续墙的稳定和抗渗性能，多道围檩、水平支撑以及支撑柱的设置，有利于增强基坑支护结构的支护强度、刚度，从而使得基坑支护结构可以长时间使用，而用作永久性的基坑支护，从而有效避免资源浪费和造成的环境污染。从而有效避免资源浪费和造成的环境污染。从而有效避免资源浪费和造成的环境污染。

【技术实现步骤摘要】
遗址区域内永久性基坑支护坑中坑结构


[0001]本技术涉及遗址基坑防护领域，尤其涉及一种遗址区域内永久性基坑支护坑中坑结构。

技术介绍

[0002]传统的基坑支护结构多为临时性结构形式，待地下室施工完毕即被废弃并永久置于地下，某些临时结构还须拆除，造成较大的资源浪费，存在施工风险大，施工周期长，环境污染等问题。
[0003]目前，遗址区域内基坑支护产生坍塌的多是由于深坑内四周支护设计不合理导致坍塌事故时有发生，为了解决此问题，特提出本技术方案。

技术实现思路

[0004]鉴于此，本技术的目的在于，提供一种遗址区域内永久性基坑支护坑中坑结构。
[0005]为了达到上述目的，进而采取的技术方案如下：
[0006]遗址区域内永久性基坑支护坑中坑结构，包括设置在遗址区域内的基坑，所述基坑四周挖设阶梯状台阶，且每层台阶上等间距设置有若干桩柱，桩柱直径由上到下每层桩柱直径等量增加，桩柱通过连梁顶接在上层台阶的竖直面上。
[0007]作为本技术进一步的改进，所述台阶高度为1
‑
1.5m，台阶的宽度由上到下从0.5m开始每层的宽度增加0.3m，同一层桩柱之间间隔小于0.5m，桩柱的直径从最上层的0.2m开始，向下每层桩柱直径增加0.01m。
[0008]作为本技术进一步的改进，每层的桩柱与上一层桩柱交错设置。
[0009]作为本技术进一步的改进，每层台阶的同一水平高度处设置有沉降观测点。
[0010]本技术的有益效果是：
[0011]该基坑支护结构通过地下连续墙和内衬墙的结合来增强连续墙的稳定和抗渗性能，多道围檩、水平支撑以及支撑柱的设置，有利于增强基坑支护结构的支护强度、刚度，从而使得基坑支护结构可以长时间使用，而用作永久性的基坑支护，从而有效避免资源浪费和造成的环境污染。
附图说明
[0012]构成本申请的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0013]图1为本技术结构示意图。
具体实施方式
[0014]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。
[0015]为了使本
的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
[0016]请参考图1，遗址区域内永久性基坑1支护坑中坑结构，包括设置在遗址区域内的基坑1，所述基坑1四周挖设阶梯状台阶2，且每层台阶2上等间距设置有若干桩柱3，桩柱3直径由上到下每层桩柱3直径等量增加，桩柱3通过连梁4顶接在上层台阶2的竖直面上。
[0017]所述台阶2高度为1
‑
1.5m，台阶2的宽度由上到下从0.5m开始每层的宽度增加0.3m，同一层桩柱3之间间隔小于0.5m，桩柱3的直径从最上层的0.2m开始，向下每层桩柱3直径增加0.01m，每层的桩柱3与上一层桩柱3交错设置，避免形成隐藏的裂缝，每层台阶2的同一水平高度处设置有沉降观测点31。该基坑1支护结构通过地下连续墙和内衬墙的结合来增强连续墙的稳定和抗渗性能，多道围檩、水平支撑以及支撑柱的设置，有利于增强基坑1支护结构的支护强度、刚度，从而使得基坑1支护结构可以长时间使用，而用作永久性的基坑1支护，从而有效避免资源浪费和造成的环境污染。
[0018]以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.遗址区域内永久性基坑支护坑中坑结构，其特征在于，包括设置在遗址区域内的基坑，所述基坑四周挖设阶梯状台阶，且每层台阶上等间距设置有若干桩柱，桩柱直径由上到下每层桩柱直径等量增加，桩柱通过连梁顶接在上层台阶的竖直面上。2.根据权利要求1所述的遗址区域内永久性基坑支护坑中坑结构，其特征在于，所述台阶高度为1
‑
1.5m，台阶的宽度由上到下从...

【专利技术属性】
技术研发人员：张浩，赵健，梁栋，贾耀峰，侯玉洁，王涛，徐达，侯世清，
申请(专利权)人：山西一建集团有限公司，
类型：新型
国别省市：