一种电子元器件生产加工用的清洗装置制造方法及图纸

技术编号:36819321 阅读:11 留言:0更新日期:2023-03-12 00:47
本实用新型专利技术公开了一种电子元器件生产加工用的清洗装置,涉及元器件清洗领域,包括超声波清洗机,所述超声波清洗机的一侧设置有用于对元器件进行二次清洗的清洗机构;所述清洗机构包括清洗槽,所述清洗槽设置在支撑台上,所述清洗槽内盛装有清洗液,所述清洗槽的侧板内连通有管道,所述清洗槽的侧壁设置有若干喷射口,若干所述喷射口与清洗槽的侧板内连通的管道连通,所述管道的进入端连接有增压泵机,所述增压泵机的输入端通过管道与清洗槽相连通;所述支撑台上还设置有用于将超声波清洗机清洗以后的元器件移动至清洗槽进行清洗的移动机构。动机构。动机构。

【技术实现步骤摘要】
一种电子元器件生产加工用的清洗装置


[0001]本技术涉及元器件清洗领域,具体为一种电子元器件生产加工用的清洗装置。

技术介绍

[0002]电子元器件是电子元件和小型的机器、仪器的组成部分,其本身常由若干零件构成,可以在同类产品中通用;常指电器、无线电、仪表等工业的某些零件,是电容、晶体管、游丝、发条等电子器件的总称,常见的有二极管等。由于社会发展的需要,电子设备变的越来越复杂,这就要求电子设备必须具有可靠性、速度快、消耗功率小以及质量轻、小型化、成本低等特点,所以现有的电子设备中各种元器件也越来越多,并且对元器件的的要求也越来越高。现有的许多设备都是有多个元器件组装而成的,所以需要对组装的元器件进行设计钻孔,从而使其各个元器件能够组装在设备的合适位置。在对一些组装元器件进行钻孔以后,组装元器件上会附着一些原料粉尘,为了保证元器件的质量,需要在组装在设备上之前将这些附着的原料粉尘清除掉,而现有的清除原料粉尘清的装置采用的超声波清洗机,由于只采用了单一的清除方式,则有些附着在元器件上的原料粉尘不能清除干净,进而影响这些元器件的质量。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种电子元器件生产加工用的清洗装置,该装置在现有的超声波清洗机之后多设置了一个清洗原料粉尘的装置,通过该装置能够双重对元器件上的原料粉尘进行清洗,进而将元器件上的原料粉尘清洗达到要求,从而提高了元器件的使用时间和质量。
[0004]本技术的目的是通过以下技术方案来实现的:
[0005]一种电子元器件生产加工用的清洗装置,包括超声波清洗机,所述超声波清洗机的一侧设置有用于对元器件进行二次清洗的清洗机构;
[0006]所述清洗机构包括清洗槽,所述清洗槽设置在支撑台上,所述清洗槽内盛装有清洗液,所述清洗槽的侧板内连通有管道,所述清洗槽的侧壁设置有若干喷射口,若干所述喷射口与清洗槽的侧板内连通的管道连通,所述管道的进入端连接有增压泵机,所述增压泵机的输入端通过管道与清洗槽相连通;
[0007]所述支撑台上还设置有用于将超声波清洗机清洗以后的元器件移动至清洗槽进行清洗的移动机构。
[0008]优选地,所述移动机构包括手指气缸,所述手指气缸的输出端连接有夹爪,所述夹爪上可拆卸连接有用于夹持限位元器件的夹持板,所述手指气缸转动的连接在第一旋转台上,所述第一旋转台转动的连接在活动臂的一端。
[0009]优选地,所述第一旋转台上连接有转轴,所述转轴与活动臂转动连接,所述转轴的一端连接有用于驱动转轴转动的伺服电机,所述伺服电机固定在活动臂上;
[0010]所述活动臂远离第一旋转台的一端连接有用于带动活动臂升降的升降机构。
[0011]优选地,所述升降机构包括液压杆,所述液压杆的一端与活动臂连接,所述液压杆的另一端连接有用于带动液压杆移动的活动机构。
[0012]优选地,所述活动机构包括第二旋转台,所述第二旋转台与所述液压杆转动连接,所述第二旋转台远离液压杆的一端连接有滑块,所述滑块滑动的设置在导梁上;
[0013]所述导梁水平的安装在支架上,所述支架固定在支撑台上。
[0014]优选地,所述超声波清洗机安装在第一输送机上,所述第一输送机用于将元器件从超声波清洗机的一侧输送至超声波清洗机内进行清洗,且清洗以后从超声波清洗机的另一侧输送出,便于移动机构夹持移动。
[0015]优选地,所述支撑台远离超声波清洗机的一端安装有用于输送在清洗机构二次清洗以后的元器件的第二输送机,所述第二输送机远离支撑台的一端连接有溜槽,所述溜槽的下方设置有用于盛装从溜槽滑落下落的元器件的盛装箱。
[0016]优选地,所述清洗槽的侧壁下端贯通设置有换洗通道管。
[0017]本技术的有益效果是:该装置主要是在现有的超声波清洗机清洗上安装设置了一个用于二次清洗的结构以及便于移动结构,通过这样设计该装置,不仅能够将元器件进行二次清洗,进而将附着在元器件上的原料粉尘清洗干净,同时通过该装置采用机械化,能够提高清洗的效率,节省时间。该装置在设计上包括了超声波清洗机,超声波清洗机的一侧设置有用于对元器件进行二次清洗的清洗机构,经过超声波清洗机第一清洗以后的元器件,通过设置的清洗机构进行二次清洗;而设置的清洗机构包括清洗槽,清洗槽设置在支撑台上,清洗槽内盛装有清洗液,清洗槽的侧板内连通有管道,清洗槽的侧壁设置有若干喷射口,若喷射口与清洗槽的侧板内连通的管道连通,管道的进入端连接有增压泵机,增压泵机的输入端通过管道与清洗槽相连通,并且在支撑台上还设置有用于将超声波清洗机清洗以后的元器件移动至清洗槽进行清洗的移动机构,在具体实施的时候,通过设置的移动机构将经过超声波清洗机第一清洗以后的元器件移动至清洗槽中,通过控制设置的增压泵机将清洗槽内专门放置的用于清洗元器件的清洗液从清洗槽的侧板内连通有管道连通的喷射口加压喷射出,对移动机构上夹持限位的元器件进行二次清洗,同时,还可以将移动机构上夹持限位的元器件置于在清洗槽内的清洗液中充分清洗,使其达到清洗的标准要求。从设计上来说,该装置在现有的超声波清洗机之后多设置了一个清洗原料粉尘的装置,通过该装置能够双重对元器件上的原料粉尘进行清洗,进而将元器件上的原料粉尘清洗达到要求,从而提高了元器件的使用时间和质量。
附图说明
[0018]图1为本技术一种电子元器件生产加工用的清洗装置的结构示意图;
[0019]图2为本技术一种电子元器件生产加工用的清洗装置的超声波清洗机安装结构示意图;
[0020]图3为本技术一种电子元器件生产加工用的清洗装置的清洗机构连接结构示意图;
[0021]图4为本技术一种电子元器件生产加工用的清洗装置的移动机构结构示意图;
[0022]图5为本技术一种电子元器件生产加工用的清洗装置的移动机构结构爆发爆炸示意图;
[0023]图6为本技术一种电子元器件生产加工用的清洗装置的第二输送机安装结构示意图;
[0024]图中,1

超声波清洗机,2

支撑台,4

第二输送机,5

盛装箱,11

第一输送机,21

清洗槽,22

增压泵机,23

支架,24

导梁,31

手指气缸,32

夹爪,33

夹持板,34

第一旋转台,35

活动臂,36

伺服电机,37

液压杆,38

第二旋转台,39

滑块,41

溜槽。
具体实施方式
[0025]为了使本技术的目的,技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电子元器件生产加工用的清洗装置,其特征在于,包括超声波清洗机(1),所述超声波清洗机(1)的一侧设置有用于对元器件进行二次清洗的清洗机构;所述清洗机构包括清洗槽(21),所述清洗槽(21)设置在支撑台(2)上,所述清洗槽(21)内盛装有清洗液,所述清洗槽(21)的侧板内连通有管道,所述清洗槽(21)的侧壁设置有若干喷射口,若干所述喷射口与清洗槽(21)的侧板内连通的管道连通,所述管道的进入端连接有增压泵机(22),所述增压泵机(22)的输入端通过管道与清洗槽(21)相连通;所述支撑台(2)上还设置有用于将超声波清洗机(1)清洗以后的元器件移动至清洗槽(21)进行清洗的移动机构。2.根据权利要求1所述的一种电子元器件生产加工用的清洗装置,其特征在于,所述移动机构包括手指气缸(31),所述手指气缸(31)的输出端连接有夹爪(32),所述夹爪(32)上可拆卸连接有用于夹持限位元器件的夹持板(33),所述手指气缸(31)转动的连接在第一旋转台(34)上,所述第一旋转台(34)转动的连接在活动臂(35)的一端。3.根据权利要求2所述的一种电子元器件生产加工用的清洗装置,其特征在于,所述第一旋转台(34)上连接有转轴,所述转轴与活动臂(35)转动连接,所述转轴的一端连接有用于驱动转轴转动的伺服电机(36),所述伺服电机(36)固定在活动臂(35)上;所述活动臂(35)远离第一旋转台(34)的一端连接有用于带动活动臂(35)升降的升降机构。4.根据权利要求3所述的一种电子...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈继红杜培波
申请(专利权)人:四川恒立泰科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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