本实用新型专利技术公开一种制备球面分析晶体的装置，包括依序设置的黄铜底座、圆形电极、凸球面硼硅玻璃、铝盖；所述黄铜底座用于放置凹球面硼硅玻璃；所述铝盖用于固定所述凸球面硼硅玻璃；所述圆形电极为层叠的聚酰亚胺层和铜层。本实用新型专利技术装置设置到导向孔和导向杆使得操作更便捷，易于晶圆对准。同时，电极为聚酰亚胺层和铜层层叠结构，可以较为方便的实现一面导电一面绝缘的物理需求。导电一面绝缘的物理需求。导电一面绝缘的物理需求。
【技术实现步骤摘要】
制备球面分析晶体的装置
[0001]本技术涉及分析仪器领域，具体涉及一种制备球面分析晶体的装置。
技术介绍
[0002]非弹性X射线散射(IXS)是研究凝聚态基本问题的技术。例如无序中的高频集体动力学系统、单晶中的声子和电子激发。当今大多数IXS光谱仪都基于罗兰圆几何，它需要同时将X射线的聚焦和能量分析。最常见的实现方式是约翰近似，其中分析仪晶体表面呈球形或圆柱形弯曲，弯曲半径等于罗兰圆直径。这种分析器晶体是IXS的一个非常关键的光学元件。近年来，随着第三代同步辐射光源的发展，越来越多的基于罗兰圆构型的大型谱仪正在出现。
[0003]现有技术方案如图1所示，由铝块1
′
、Pyrex凸面硼硅玻璃2
′
、Pyrex凹面硼硅玻璃7
′
、硅片8
′
、电极3
′
、黄铜底座4
′
及加热板9
′
组成。现有方案在组装、对中、及电极材料上使用较为不便。
[0004]发展一种简易制作高面型精度球面分析晶体的实验装置是非常有必要的。
技术实现思路
[0005]为解决上述问题，本技术提供一种制备球面分析晶体的装置。
[0006]本实用型的制备球面分析晶体的装置，包括依序设置的黄铜底座、圆形电极、凸球面硼硅玻璃、铝盖；所述黄铜底座用于放置凹球面硼硅玻璃；所述铝盖用于固定所述凸球面硼硅玻璃；所述圆形电极为层叠的聚酰亚胺层和铜层。
[0007]根据本技术一实施方式，所述聚酰亚胺层的厚度为50
‑
100μm，所述铜层的厚度为10
‑
50μm。
[0008]根据本技术另一实施方式，所述装置还包括导向杆，所述黄铜底座和所述铝盖上设置有导向孔。
[0009]根据本技术另一实施方式，所述铝盖通过四个紧固顶丝固定所述凸球面硼硅玻璃。
[0010]根据本技术另一实施方式，所述铝盖和所述凸球面硼硅玻璃之间还设置有橡胶圈。
[0011]根据本技术另一实施方式，所述装置还包括加热器，所述黄铜底座设置于所述加热器上。
[0012]本技术装置设置到导向孔和导向杆使得操作更便捷，易于晶圆对准。同时，电极为聚酰亚胺层和铜层层叠结构，可以较为方便的实现一面导电一面绝缘的物理需求。
附图说明
[0013]图1是现有技术的装置的示意图。
[0014]图2是本技术的装置的示意图。
[0015]其中，附图标记说明如下：
[0016]1‑
铝盖；2
‑
凸球面硼硅玻璃；3
‑
圆形电极；31
‑
聚酰亚胺层；32
‑
铜层；4
‑
黄铜底座；5
‑
导向杆；6
‑
橡胶圈；7
‑
凹球面硼硅玻璃
具体实施方式
[0017]现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本技术将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中，为了清晰，夸大了区域和层的厚度。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。
[0018]所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本技术的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本技术的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、材料等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本技术的各方面。
[0019]如图2所示，本技术专利的装置，包括依序设置的黄铜底座4、圆形电极3、凸球面硼硅玻璃2、铝盖1。黄铜底座4用于放置凹球面硼硅玻璃7。铝盖1用于固定凸球面硼硅玻璃2。圆形电极3为层叠的聚酰亚胺层31和铜层32。凸球面硼硅玻璃2用于将单晶片材压弯贴附于凹球面硼硅玻璃7上制成球面分析晶体。
[0020]装置中的圆形电极3为聚酰亚胺层31和铜层32层叠结构，可以较为方便的实现一面导电一面绝缘的物理需求。聚酰亚胺层31的厚度为50
‑
100μm，铜层32的厚度为10
‑
50μm。
[0021]凸球面硼硅玻璃2的直径与凹球面硼硅玻璃7的直径小约2％，可以实现将单晶片材贴附到凹球面硼硅玻璃表面7。
[0022]铝盖1通过四个紧固顶丝固定凸球面硼硅玻璃2。装置还包括导向杆5，黄铜底座4和铝盖1上设置有导向孔。导向杆5穿过黄铜底座4和铝盖1上导向孔，可以实现晶圆对准，使得整个装置操作更便捷。
[0023]铝盖1和凸球面硼硅玻璃2之间还可以设置有橡胶圈6。
[0024]装置还包括加热器，黄铜底座4设置于加热器上。
[0025]实施例1
[0026]如图2所示，装置的底部是一个黄铜底座用于放置凹球面硼硅玻璃，材料型号为Pyrex7740，厚度12毫米，面型精度为十分之一波长，曲率半径为1米。黄铜底座上有螺纹孔和通孔，用于放置三个不锈钢导向杆和螺丝紧固。硼硅玻璃上放置清洗过的单晶硅片。单晶硅片上放置制作好的圆形电极，该电极材料一面为75μm厚的聚酰亚胺，一面为25μm厚的铜材料。铝盖上通过四个紧固顶丝固定凸球面硼硅玻璃，曲率半径为0.98米，硼硅玻璃和铝盖间放置橡胶圈用于缓冲。
[0027]阳极键合：加热温度为330度，电压为1800V，键合时间约3
‑
6小时。
[0028]胶粘键合：将双组分光学胶，型号为EPO
‑
TEK353ND，胶粘前，将双组份胶水混合，并排除大气泡。之后均匀涂敷到单晶硅片上。然后将单晶硅片粘接在下面的凹面硼硅玻璃衬底上，之后组装整个装置，并放置于加热板上。加热75度固化24小时后，获得球面分析晶体。
[0029]通过上述阳极键合和胶粘键合加工出的分析晶体曲率半径均接近于预期值，曲率半径误差小于1％，面型精度PV值约2μm,RMS值约200nm，能量分辨ΔE～1.0eV。
[0030]以上公开的本技术优选实施例只是用于帮助阐述本技术。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该技术仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本技术的原理和实际应用，从而使所属
技术人员能很好地理解和利用本技术。本技术仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制备球面分析晶体的装置，其特征在于，包括依序设置的黄铜底座、圆形电极、凸球面硼硅玻璃、铝盖；所述黄铜底座用于放置凹球面硼硅玻璃；所述铝盖用于固定所述凸球面硼硅玻璃；所述圆形电极为层叠的聚酰亚胺层和铜层。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述聚酰亚胺层的厚度为50
‑
100μm，所述铜层的厚度为10
‑
50μm。3.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭志英，刁千顺，张玉骏，李明，徐伟，陈栋梁，
申请(专利权)人：中国科学院高能物理研究所，
类型：新型
国别省市：
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