奈米结构光载体制造技术

本发明专利技术是一种奈米结构光载体，包含奈米级微结构表面及接触面，经喷涂处理或刷涂处理或旋涂处理或浸泡处理或沉积处理或成长处理或蚀刻处理而形成于基板，且具光穿透性或反射性而为具有特定奈米结构厚度的薄片状或薄膜状或薄而不连续的岛状。尤其，奈米级微结构表面包含多个奈米级凸块或奈米级凹洞或为凸块及凹洞的组合，用奈米级微结构表面进行多次光行为大幅加强光的奈米反应，奈米及结构可以为奈米级凸块或奈米级凹洞或其组合，光行为可以为反射或透射或共振或光触媒或为多个行为组合，进而达到具杀灭细菌或病毒及分解杂质的特点。进而达到具杀灭细菌或病毒及分解杂质的特点。进而达到具杀灭细菌或病毒及分解杂质的特点。

【技术实现步骤摘要】
奈米结构光载体


[0001]本专利技术有关于一种奈米结构光载体，尤其是利用奈米级微结构表面的奈米级凸块或奈米级凹洞或为其组合，进行光行为与物质交互作用，若光行为反射或透射或共振或光触媒或为多个行为组合时，奈米微结构造成多次光行为增强奈米反应，大幅加强奈米微结构如奈米级凸块或奈米级凹洞内的光线强度，以及相邻二奈米级凸块之间、相邻二奈米级凹洞之间、相邻两奈米级凸块及凹洞之间的光线强度，进而达到具有杀灭细菌或病毒及分解杂质的特点。

技术介绍

[0002]近年来，随着经济的长足进步及发展，人们对于生活质量的提升也益加关注，尤其是照明效能、环境空气、节能减碳等方面。
[0003]在照明方面，以发光二极管(LED)最为普遍，但是传统发光二极管(LED)的灯具只能达到18
‑
20W的功耗，总输出光量也只有1600
‑
1800流明，尤其是耐电压范围为AC85
‑
240而已。
[0004]另外，一般常会使用紫外光(UV)灯以抑制细菌或杀灭细菌，不过传统UV灯所产生所的紫外光对人体有害，且照射范围小，所以应用上很受限。
[0005]对于能持续产生负离子的负离子清净机所能涵盖的有效范围也是相当小，还必须定时清洗而耗费人力，且很容易产生有害的臭氧，而减少PM2.5的速度也相当缓慢。
[0006]因此，很需要一种创新的奈米结构光载体，利用奈米级微结构表面的奈米级凸块及奈米级凹洞进行多次光行为或反射或共振的奈米反应而大幅加强奈米级凸块及奈米级凹洞内的光线强度以及相邻二奈米级凸块之间、相邻二奈米级凹洞之间的光线强度，进而达到具有杀灭细菌或病毒及分解杂质的特点，藉以解决上述现有技术的所有问题。

技术实现思路

[0007]本专利技术的主要目的在于提供一种奈米结构光载体，包含奈米级微结构表面以及接触面，其中奈米级微结构表面的奈米结构厚度约为10至10000奈米之间，且包含一至多个奈米级凸块，或者也可再包含一至多个奈米级凹洞，而接触面用以设置成接触至基板的承载表面。
[0008]以包含奈米级凸块的奈米级微结构表面为例，每个奈米级凸块的奈米级高度为1至1000奈米之间，并小于奈米结构厚度，而每个奈米级凸块的奈米级宽度为1至1000奈米之间，且相邻二奈米级凸块之间的间距为1至100000奈米之间。
[0009]具体而言，本专利技术的奈米结构光载体是经由喷涂处理或刷涂处理或旋涂处理或浸泡处理或沉积处理或成长处理或蚀刻处理而形成基板，并且具光反射性或穿透性而为具奈米结构厚度的薄片状或薄膜状或薄而不连续的岛状，尤其是由铝、铜、镍、铁、锌、银、金、锡、钴以及钛的至少其中一所构成，亦即本质上为金属膜或合金膜或金属化合物膜。
[0010]上述的奈米级凸块可包含矩形断面凸或凹点、三角锥体状凸或凹点、圆柱状凸或
凹点、圆弧状凸或凹点的其中之一。
[0011]就光路径而言，以奈米级凸块为例，奈米级凸块的第一侧面接收外部入射光而产生外部反射光以及内部透射光，内部透射光投射至奈米级凸块的第二侧面而产生内部反射光以及外部透射光，第二侧面是相对面于第一侧面，内部透射光以及内部反射光在奈米级凸块的第一侧面以及的第二侧面之间形成共振作用而加强第一侧面以及第二侧面之间的光线强度。另外，外部透射光投射至相邻的奈米级凸块的第一侧面而产生另一外部反射光以及另一内部透射光，另一内部透射光投射至相邻的奈米级凸块的第二侧面，其中外部透射光以及另一外部反射光在相邻的奈米级凸块的第一侧面以及第二侧面之间形成共振作用，进而加强相邻的奈米级凸块的第一侧面以及第二侧面之间的光线强度。
[0012]对于奈米级凹洞，相对应的光路径也同样于上述奈米级凸块的光学特征，因而不再赘述。
[0013]因此，本专利技术奈米结构光载体中奈米级凸块及奈米级凹洞内的光线强度以及相邻二奈米级凸块、相邻二奈米级凹洞之间的光线强度会大幅加强，相当于加强光奈米反应具有蓄积能量的功能，或于适当条件下释放光能量，并具有杀灭细菌或病毒及分解杂质的特点。
附图说明
[0014]图1显示依据本专利技术实施例奈米结构光载体的示意图。
[0015]图2显示依据本专利技术实施例奈米结构光载体的光路径示意图。
[0016]图3显示依据本专利技术实施例奈米结构光载体的另一示意图。
[0017]附图标记说明
[0018]1奈米结构光载体
[0019]2基板
[0020]10奈米级微结构表面
[0021]11奈米级凸块
[0022]12奈米级凹洞
[0023]20接触面
[0024]A局部放大区
[0025]B局部放大区
[0026]D间距
[0027]H奈米级高度
[0028]L1外部入射光
[0029]L2外部反射光
[0030]L3内部透射光
[0031]L4内部反射光
[0032]L5外部透射光
[0033]L6另一外部反射光
[0034]L7另一内部透射光
[0035]L8另一内部反射光
[0036]L9另一外部透射光
[0037]S1第一侧面
[0038]S11第一侧面
[0039]S2第二侧面
[0040]S22第二侧面
[0041]T奈米结构厚度
[0042]W奈米级宽度
具体实施方式
[0043]以下配合图标及组件符号对本专利技术的实施方式做更详细的说明，使熟悉本领域的技术人员在研读本说明书后能据以实施。
[0044]请参考图1，本专利技术实施例奈米结构光载体的示意图。如图1所示，本专利技术实施例的奈米结构光载体1包含奈米级微结构表面10以及接触面20，其中奈米级微结构表面10的奈米结构厚度T为10至10000奈米之间，且包含一至多个奈米级凸块11，而且每个所述奈米级凸块11之间是相互间隔开，此外，奈米级微结构表面10也可再包含一至多个奈米级凹洞12，不过在此是以奈米级凸块11为例而方便说明，所以图中主要是显示奈米级凸块11的所有几何特征，而仅简单显示奈米微级凹洞12的局部外观而已。换言之，奈米级凸块11的技术特征也适用于奈米微级凹洞12，只不过在垂直方向上的几何特征是互为相反，亦即，奈米级凸块11的凸出区域是以奈米级凹洞12的凹陷区域取代。再者，每个所述奈米级凹洞12之间是相互间隔开，而且每个所述奈米级凹洞12以及每个所述奈米级凸块11之间也同样是相互间隔开。
[0045]再者，接触面20用以设置成接触至基板2的承载表面。尤其，图中的局部放大区A显示奈米级凸块11的奈米级高度H以及奈米级宽度W，而每个奈米级凸块11的奈米级高度H为1至1000奈米之间并小于奈米结构厚度T，每个奈米级凸块11的奈米级宽度W为1至1000奈米之间，且相邻的二奈米级凸块11之间的间距D为1至100000奈米之间。
[0046]整体而言，奈米结构光载体1是经由喷涂处理或浸泡处理或沉积处理或蚀刻处理或蚀刻处理而形本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种奈米结构光载体，其特征在于，经一喷涂处理或一刷涂处理或一旋涂处理或一浸泡处理或或一成长处理或一沉积处理或一蚀刻处理而形成于一基板，且具光特性或光触媒或光穿透性或反射性而为具一奈米结构厚度的一薄片状或一薄膜状或一薄而不连续的岛状，并由铝、铜、镍、铁、锌、银、金、锡、钴以及钛的至少其中一所构成，包括：一奈米级微结构表面，包含多个奈米微级凸块，每个该奈米级凸块的一奈米级高度为1至1000奈米之间并小于该奈米结构厚度，每个奈米级凸块的一奈米级宽度为1至1000奈米之间，相邻该二奈米级凸块之间的一间距为1至100000奈米之间；以及一接触面，用以设置成接触至该基板的一承载表面，其中该奈米级凸块包含一矩形断面凸点、一三角锥体状凸点、一圆柱状凸点以及一圆弧面状凸点的其中之一，该奈米结构厚度为10至10000奈米之间，该奈米级凸块的一第一侧面接收一外部入射光而产生一外部反射光以及一内部透射光，该内部透射光投射至该奈米级凸块的一第二侧面而产生一内部反射光以及一外部透射光，该第二侧面是相对面于该第一侧面，该内部透射光以及该内部反射光在该奈米级凸块的第一侧面以及的第二侧面之间形成一反射或共振作用而加强该第一侧面以及该第二侧面之间的光线强度，该外部透射光投射至相邻的该奈米级凸块的一第一侧面而产生一另一外部反射光以及一另一内部透射光，该另一内部透射光投射至相邻的该奈米级凸块的一第二侧面，该外部透射光以及该另一外部反射光在相邻的该奈米级凸块的第一侧面以及第二侧面之间形成反射或共振作用而加强相邻的该奈米级凸块的第一侧面以及第二侧面之间的光线强度。2.如权利要求1所述的奈米结构光载体，其特征在于，该基板对光具光特性或光触媒或光穿透性或反射性。3.如权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张明正，李逸哲，
申请(专利权)人：张明正，
类型：发明
国别省市：