本发明专利技术提供了一种能够快速且准确地测量喷墨头的多个喷嘴中的弯月面位置的弯月面测量方法。所述弯月面测量方法包括：提供能够通过多个喷嘴来喷出墨的头单元；使膜与所述多个喷嘴密接，使得残留在所述多个喷嘴内的墨沾到所述膜上，从而在所述膜上形成检测图案；以及基于所述检测图案，测量残留在所述多个喷嘴内的墨的弯月面。的墨的弯月面。的墨的弯月面。
【技术实现步骤摘要】
弯月面测量装置及方法、基板处理装置
[0001]本专利技术涉及一种弯月面测量装置及方法、基板处理装置。
技术介绍
[0002]为了制造LCD面板、PDP面板、LED面板等显示装置，在基板上执行印刷工艺(例如，RGB构图(RGB Patterning))。通过喷墨印刷方式，可以将墨喷到基板上。墨喷出的喷射特性由喷墨头的喷嘴的压力分布和墨的物理特性决定。尤其是，喷墨头的喷嘴中弯月面(meniscus)的位置是决定喷射特性的关键因素之一。
技术实现思路
[0003]专利技术要解决的课题
[0004]本专利技术要解决的课题是提供能够快速且准确地测量喷墨头的多个喷嘴中的弯月面位置的弯月面测量方法。
[0005]本专利技术要解决的另一课题是提供能够快速且准确地测量喷墨头的多个喷嘴中的弯月面位置的弯月面测量装置。
[0006]本专利技术要解决的又一课题是提供基板处理装置，该基板处理装置用于通过使用所述弯月板测量方法测量的弯月面来调节从多个喷嘴喷出墨的电压。
[0007]本专利技术的课题不限于以上所提及的课题，本领域技术人员可以通过下面的描述清楚地理解其他未提及的课题。
[0008]课题的解决手段
[0009]用于达成上述课题的本专利技术的弯月板测量方法的一个方面(aspect)包括：提供能够通过多个喷嘴来喷出墨的头单元；使膜与所述多个喷嘴密接，使得残留在所述多个喷嘴内的墨沾到所述膜上，从而在所述膜形成检测图案；以及基于所述检测图案，测量残留在所述多个喷嘴内的墨的弯月面。
[0010]用于达成上述另一课题的本专利技术的弯月板测量装置的一个方面可以包括：基座构件；压力传感器，设置在所述基座构件上；以及膜，设置在所述压力传感器上，所述膜与头单元的多个喷嘴密接，使得残留在所述多个喷嘴内的墨沾到所述膜上，从而在所述膜上形成检测图案。
[0011]用于达成上述又一课题的本专利技术的基板处理装置的一个方面可以包括：头单元，能够通过多个喷嘴来喷出墨；测量单元，包括用于测量残留在所述多个喷嘴内的墨的弯月面的膜；以及控制模块，控制所述头单元或测量单元来使所述膜与所述多个喷嘴密接，使得残留在所述多个喷嘴内的墨沾到所述膜上，从而在所述膜上形成检测图案，并基于所述检测图案，计算残留在所述多个喷嘴内的墨的弯月面。
[0012]其他实施例的具体事项包含在详细说明及附图中。
附图说明
[0013]图1是用于说明根据本专利技术的一实施例的基板处理装置的概念图。
[0014]图2是将图1中区域A的放大后的图。
[0015]图3是用于说明根据本专利技术的一实施例的弯月面测量方法的流程图。
[0016]图4是用于说明形成在膜上的检测图案的图。
[0017]图5是用于说明图3中步骤S30的图。
[0018]图6是用于说明根据本专利技术的一实施例的基板处理装置的动作的概念图。
[0019]图7是用于说明根据本专利技术的另一实施例的弯月面测量方法的流程图。
[0020]图8是用于说明根据本专利技术的另一实施例的另一基板处理装置的图。
[0021]图9是用于说明调试方式的图。
[0022]图10是用于说明根据本专利技术的又一实施例的基板处理装置的图。
[0023]图11是用于说明根据本专利技术的又一实施例的基板处理装置的概念图。
具体实施方式
[0024]以下，将参考附图详细说明本专利技术的优选实施例。通过参考附图以及后面详细说明的实施例，本专利技术的优点和特征以及实现它们的方法将会变得很清楚。然而，本专利技术不限于以下公开的实施例，能够实现为彼此不同的各种方式，提供本实施例仅仅是为了完整地公开本专利技术，并向本专利技术所属领域的普通技术人员完整地告知专利技术的范畴，本专利技术仅由权利要求的范畴来定义。在整个说明书中，相同的附图标记指代相同的构成要素。
[0025]作为空间上相对性术语的“下面(below)”、“下方(beneath)”、“下部(lower)”、“上面(above)”、“上部(upper)”等可以用于更容易地记载如图所示的一个元件或构成要素与其他元件或构成要素之间的相关关系。空间上相对性术语应理解为除了图中所示的方向以外还包括使用时或操作时元件的彼此不同的方向的术语。例如，在将图中所示的元件翻转的情况下，被描述为另一个元件的“下面(below)”或“下方(beneath)”的元件可以被放置在另一个元件的“上面(above)”。因此，示例性术语“下方”可以包括下方和上方中的全部。元件还可以沿着其他方向配向，由此可以根据配向方向来解释空间上相对性术语。
[0026]应当理解，尽管术语第一、第二等在本文中用于描述各种元件、构成要素和/或部分，但是这些元件、构成要素和/或部分当然不受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、构成要素或部分与另一元件、构成要素或部分区分开。因此，理所当然的是，下面所提及的第一元件、第一构成要素或第一部分在本专利技术的技术思想内还可以是第二元件、第二构成要素或第二部分。
[0027]图1是用于说明根据本专利技术的一实施例的基板处理装置的概念图。图2是将图1中区域A的放大后的图。
[0028]首先，参考图1，根据本专利技术实施例的基板处理装置包括弯月面测量单元110、头单元120、控制模块150、图像生成单元160等。
[0029]弯月面测量单元110包括基座构件112和膜114。基座构件112作为用于固定膜114的构件，可以整体上具有平坦的形状。
[0030]膜114可以是能够吸收残留在多个喷嘴内的墨的吸水材质。或者，膜114也可以是被进行了疏水涂敷以使得不吸收残留在多个喷嘴内的墨的材质。不过，可以用在残留于多
个喷嘴内的墨沾到膜114上的情况下沾到的墨不容易扩散到周围的物质来对膜114进行涂敷。在膜114是吸水材质的情况下，难以被多次使用，但在对膜114进行疏水涂敷的情况下，能够在清洗表面后再次使用。
[0031]图像生成模块160用于拍摄沾到膜114上的墨(即，检测图案)。图像生成模块160可以包括相机，但不限定于此。
[0032]可以是，头单元120包括至少一个组(pack)，每个组包括多个头，每个头包括多个喷嘴。
[0033]这里参考图2，头单元120包括多个喷嘴N1～Nn(n为自然数)。在各个喷嘴N1～Nn内可能有墨残留。残留在各个喷嘴N1～Nn的墨的弯月面(M1～Mn)的高度可以不固定。例如，可以是，第二喷嘴N2的弯月面M2、第五喷嘴(N5)的弯月面(M5)相对较高，第三喷嘴N3的弯月面M3、第四喷嘴(N4)的弯月面(M4)相对较低。
[0034]图3是用于说明根据本专利技术的一实施例的弯月面测量方法的流程图。图4是用于说明形成在膜上的检测图案的图。图5是用于说明图3中步骤S30的图。
[0035]参考图1和图3，提供能够通过多个喷嘴来喷出墨的喷墨头(即，头单元120)(S10)。即，提供图1的基板处理装置。基板处理装置的弯月面测量单元110包括基座构件112和膜114。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种弯月面测量方法，包括：提供能够通过多个喷嘴来喷出墨的头单元；使膜与所述多个喷嘴密接，使得残留在所述多个喷嘴内的墨沾到所述膜上，从而在所述膜上形成检测图案；以及基于所述检测图案，测量残留在所述多个喷嘴内的墨的弯月面。2.根据权利要求1所述的弯月面测量方法，其中，所述检测图案包括彼此隔开的多个墨标记，所述多个墨标记对应于所述多个喷嘴，测量残留的所述墨的弯月面包括：测量所述墨标记的尺寸。3.根据权利要求2所述的弯月面测量方法，其中，所述墨标记的尺寸包括所述墨标记的面积、直径和半径中的至少一项。4.根据权利要求1所述的弯月面测量方法，其中，所述头单元包括所述多个喷嘴和与所述多个喷嘴各自对应的多个压电元件，所述弯月面测量方法还包括：根据测量的所述弯月面，调节提供给所述多个压电元件的电压。5.根据权利要求4所述的弯月面测量方法，其中，所述头单元包括第一喷嘴、第二喷嘴、对应于所述第一喷嘴的第一压电元件和对应于所述第二喷嘴的第二压电元件，残留在所述第一喷嘴的墨的弯月面位于高于残留在所述第二喷嘴的墨的弯月面的位置，提供给所述第一压电元件的第一电压大于提供给所述第二压电元件的第二电压。6.根据权利要求1所述的弯月面测量方法，其中，所述使膜与所述多个喷嘴密接包括：将设置有所述膜的基座构件与所述头单元接触，所述弯月面测量方法还包括：在使所述膜与所述多个喷嘴密接之前，进行调试以使得所述头单元的底面与所述基座构件的上表面平行。7.根据权利要求6所述的弯月面测量方法，其中，所述进行调试包括：在设置所述膜之前的所述基座构件上设置多个压力传感器；通过使设置在所述基座构件的所述多个压力传感器与所述头单元的底面密接，来测量所述多个压力传感器的感测值；以及基于测量的所述感测值进行调试，以使得所述头单元的底面与所述基座构件的上表面平行。8.根据权利要求6所述的弯月面测量方法，其中，所述进行调试包括：在所述基座构件上设置多个激光位移传感器；利用设置在所述基座构件的所述多个激光位移传感器，来测量所述多个激光位移传感器与所述头单元的底面之间的距离；以及基于测量的所述距离进行调试，以使得所述头单元的底面与所述基座构件的上表面平行。9.一种弯月面测量装置，包括：
基座构件；压力传感器，设置在所述基座构件上；以及膜，设置在所述压力传感器上，所述膜与头单元的多个喷嘴密接，使得残留在所述多个喷嘴内的墨沾到所述膜上，从而在所述膜上形成检测图案。10.根据权利要求9所述的弯月面测量装置，其中，所述膜具有能够吸收残留在所述多个喷嘴内的墨的吸水材质。11.一种基板处理装置，包括：头单元，能够通过多个喷嘴来喷...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜汉林，张硕元，李载德，陈元镛，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：
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