【技术实现步骤摘要】
抛光盘的中心抛光区域结构
[0001]本技术涉及一种抛光盘，具体的说是抛光盘的中心抛光区域结构。
技术介绍
[0002]被抛光工件在下旋转，抛光盘在上旋转，两者进行抛光运动。由于工件尺寸非常大，造成了抛光盘直径越来越大。在这种情况下，抛光液如何进入抛光盘中心抛光区域成为难题。中心抛光区域没有抛光液，造成局部干磨，会造成划痕、温度过高材料形变等等负面问题，直接影响抛光质量。
[0003]目前市面上的浸没式抛光存在局限，当抛光盘直径增大的一定尺寸，抛光盘与元件之间会形成类真空的现象，导致抛光液无法进入抛光盘中心抛光区域。
技术实现思路
[0004]本技术旨在克服现有技术的缺陷，提供一种抛光盘的中心抛光区域结构，解决了大直径抛光盘中心抛光区域加液问题。
[0005]为了解决上述技术问题，本技术是这样实现的：
[0006]一种抛光盘的中心抛光区域结构，包括抛光盘基体，其特征在于：所述抛光盘基体的上部安装一个引流盘，该引流盘上开有若干引流孔，所述抛光盘基体的底部设有抛光膜；所述抛光盘基体和引流盘均采用大理石制成。
[0007]本技术的有益效果是：通过在抛光盘上安装引流盘，将抛光液通过引流盘导入抛光盘中，不受抛光盘直径增大范围的限制，提高抛光效果，本申请结构简单，方便使用。
附图说明
[0008]下面结合附图和实施方式对本技术作进一步的详细说明：
[0009]图1为本申请结构示意图。
[0010]图2为本申请上表面示意图。
[0011]图3为...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种抛光盘的中心抛光区域结构，包括抛光盘基体，其特征在于：所述抛光盘基体的上部安装一个引流盘，该引流...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈健，
申请(专利权)人：上海中晶企业发展有限公司，
类型：新型
国别省市：
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