一种上蜡机的滴蜡装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及技术领域，公开了一种上蜡机的滴蜡装置包括晶片吸附机构及滴蜡机构；所述晶片吸附机构包括第一基盘及可旋转真空吸盘组件；所述滴蜡机构包括第二基盘、储蜡液瓶、滴蜡管及挡板；所述第二基盘的下表面具有多个滴蜡区，所述滴蜡区与所述可旋转真空吸盘组件一一对应，一个所述滴蜡区具有一滴蜡孔，相邻两个所述滴蜡区之间具有所述挡板；多个所述滴蜡管的上端均与所述储蜡液瓶相连通，多个所述滴蜡管的下端与多个所述滴蜡孔一一连通；本实用新型专利技术能够同时对多个晶片进行上蜡操作，并能够挡住从高速转动的晶片甩出的多余蜡，并避免多余蜡溅射至其他正在上蜡的晶片的表面上，有利于提高晶片上蜡时的表面均匀性。利于提高晶片上蜡时的表面均匀性。利于提高晶片上蜡时的表面均匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种上蜡机的滴蜡装置


[0001]本技术涉及磷化铟衬底材料制造
，特别是一种上蜡机的滴蜡装置。

技术介绍

[0002]在100GHz以上的带宽水平，使用磷化铟基射频器件在回程网络和点对点通信网络的无线传输方面具有明显优势，未来在6G通信甚至7G通信无线传输网络中，磷化铟衬底将有望成为射频器件的主流衬底材料。
[0003]目前磷化铟衬底晶片上蜡工序，大多都是通过真空吸盘固定晶片并带动晶片进行转动，再把蜡液滴落至晶片的表面上，利用离心力的作用使蜡液均匀铺满晶片表面；而在同时对多个晶片进行上蜡时，高速转动的晶片会把多余的蜡甩飞至其它正在上蜡的晶片的表面上，不利于晶片上蜡时的表面均匀性。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是：提供一种上蜡机的滴蜡装置，其能够同时对多个晶片进行上蜡操作，并能够挡住从高速转动的晶片甩出的多余蜡，并避免多余蜡溅射至其他正在上蜡的晶片的表面上，有利于提高晶片上蜡时的表面均匀性。
[0005]为了实现上述目的，本技术一种上蜡机的滴蜡装置，包括晶片吸附机构、及位于所述晶片吸附机构的上方的滴蜡机构；所述第一基盘用于安装至上晶片机械手上，所述晶片吸附机构包括第一基盘及可旋转真空吸盘组件，所述第一基盘的上表面安装有多个所述可旋转真空吸盘组件，所述可旋转真空吸盘组件用于吸附晶片，每个所述可旋转真空吸盘组件均可绕自身中心轴进行转动；
[0006]所述滴蜡机构包括第二基盘、储蜡液瓶、滴蜡管及挡板；所述第二基盘用于安装至上蜡机械手上，所述第二基盘的下表面具有多个滴蜡区，多个所述滴蜡区与多个所述可旋转真空吸盘组件一一对应，一个所述滴蜡区具有一个滴蜡孔，相邻两个所述滴蜡区之间具有所述挡板；所述储蜡液瓶设于所述第二基盘的上方，所述储蜡液瓶具有储存腔；所述滴蜡管的数量为多个，多个所述滴蜡管的上端均与所述储存腔的下部相连通，多个所述滴蜡管的下端与多个所述滴蜡孔一一连通。通过所述挡板可以在所述可旋转真空吸盘组件带动晶片进行高速转动时，挡住从所述晶片表面甩出的多余蜡，避免溅射到其他的在上蜡的所述晶片的表面上。
[0007]优选地，所述可旋转真空吸盘组件包括驱动电机、转轴、真空吸盘、旋转接头、及真空发生器；所述驱动电机的输出轴安装有第一传动件；所述转轴设于所述真空吸盘的底部中心处，所述转轴安装有与所述第一传动件对应配合的第二传动件；所述真空吸盘具有吸附孔，所述吸附孔由上至下依次贯穿所述真空吸盘及所述转轴；所述旋转接头与所述转轴连接并与所述吸附孔连通；所述真空发生器通过连接管与所述旋转接头连接并连通。
[0008]优选地，所述第一传动件与所述第二传动件的对应配合为齿轮传动或皮带轮传动或蜗轮蜗杆传动。
[0009]更优地，多个所述真空吸盘绕所述第一基盘的中心呈环形阵列分布，多个所述滴蜡孔绕所述第二基盘的中心呈环形阵列分布；当所述第二基盘位于所述第一基盘的正上方时，多个所述滴蜡孔的位置与多个所述真空吸盘的吸附孔的位置一一对应。
[0010]优选地，所述滴蜡区为V形滴蜡区；多个所述挡板呈轮毂状固定在所述第二基盘的下表面，相邻两个所述挡板把所述滴蜡区围成v形。
[0011]优选地，所述滴蜡管为硬管，所述储蜡液瓶通过所述滴蜡管固定于所述第二基盘的上方。
[0012]优选地，所述滴蜡管可以为铝合金管、不锈钢管、硬质PVC管中的一种。
[0013]优选地，所述滴蜡机构还包括顶盖，所述顶盖可拆卸安装于所述储蜡液瓶的上端。
[0014]优选地，所述滴蜡机构还包括加热器，所述加热器设于所述储存腔，通过所述加热器可以加热所述储存腔内的蜡液，避免蜡液出现凝结。
[0015]优选地，所述滴蜡管中安装有电磁阀。
[0016]本技术提供的与现有技术相比，其有益效果在于：通过在所述第一基盘上安装多个所述可旋转真空吸盘组件，并在所述第二基盘设置与所述可旋转真空吸盘组件一一对应的滴蜡管、滴蜡孔及滴蜡区，能够同时对多个晶片进行上蜡操作，并通过在相邻两个所述滴蜡区设置挡板，还可以挡住从高速转动的晶片的表面甩飞出的多余蜡，并避免多余蜡溅射至其他正在上蜡的晶片的表面上，有利于提高晶片上蜡时的表面均匀性。
附图说明
[0017]图1是本技术实施例提供的一种上蜡机的滴蜡装置的结构图；
[0018]图2为本技术实施例提供的晶片吸附机构的俯视图；
[0019]图3为图2的A
‑
A剖视图；
[0020]图4为本技术实施例提供的滴蜡机构的结构图；
[0021]图5为图4的仰视图。
[0022]图中，1、晶片吸附机构；11、第一基盘；12、可旋转真空吸盘组件；121、驱动电机；122、转轴；123、真空吸盘；124、旋转接头；125、真空发生器；1211、第一传动件；1221、第二传动件；1231、吸附孔；1251、连接管；
[0023]2、滴蜡机构；21、第二基盘；22、储蜡液瓶；23、滴蜡管；24、挡板；211、滴蜡区；212、滴蜡孔。
具体实施方式
[0024]下面结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。
[0025]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“顶”、“底”“内”、“外”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0026]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者
隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0027]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0028]如图1所示，本技术实施例所提供的是一种上蜡机的滴蜡装置，包括晶片吸附机构1、及位于所述晶片吸附机构1的上方的滴蜡机构2。
[0029]参见图2和图3，本技术实施例所提供的所述晶片吸附机构1包括第一基盘11及可旋转真空吸盘组件12，所述第一基盘11用于安装至上晶片机械手上，所述第一基盘11的上表面安装有多个所述可旋转真空吸盘组件12，所述可旋转真空吸盘组件12用于吸附晶片，每个所述可旋转真空吸盘组件12均可绕自身中心轴进行转动。
[0030]所述可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种上蜡机的滴蜡装置，其特征在于，包括晶片吸附机构、及位于所述晶片吸附机构的上方的滴蜡机构；所述晶片吸附机构包括第一基盘及可旋转真空吸盘组件，所述第一基盘的上表面安装有多个所述可旋转真空吸盘组件，所述可旋转真空吸盘组件用于吸附晶片，每个所述可旋转真空吸盘组件均可绕自身中心轴进行转动；所述滴蜡机构包括第二基盘、储蜡液瓶、滴蜡管及挡板；所述第二基盘用于安装至上蜡机械手上，所述第二基盘的下表面具有多个滴蜡区，多个所述滴蜡区与多个所述可旋转真空吸盘组件一一对应，一个所述滴蜡区具有一个滴蜡孔，相邻两个所述滴蜡区之间具有所述挡板；所述储蜡液瓶设于所述第二基盘的上方，所述储蜡液瓶具有储存腔；所述滴蜡管的数量为多个，多个所述滴蜡管的上端均与所述储存腔的下部相连通，多个所述滴蜡管的下端与多个所述滴蜡孔一一连通。2.根据权利要求1所述的滴蜡装置，其特征在于，所述可旋转真空吸盘组件包括驱动电机、转轴、真空吸盘、旋转接头、及真空发生器；所述驱动电机的输出轴安装有第一传动件；所述转轴设于所述真空吸盘的底部中心处，所述转轴安装有与所述第一传动件...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑金龙，杨小丽，周铁军，马金峰，
申请(专利权)人：广东先导微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：