一种真空物理沉积设备制造技术

本实用新型专利技术提供的一种真空物理沉积设备，包括真空腔室，以及设置在所述真空腔室内的、且在第一方向依次间隔设置的收放系统、金属源系统和转向系统，其中，收放系统和金属源系统竖直的设置在真空腔体的底部，转向系统设置在真空腔体壁上，收放系统、金属源系统和转向系统设置在同一水平面上。通过本实用新型专利技术实施例提供的设备，能够通过有限数量的辊子可同时处理多卷薄膜，不仅成本较低，同时还便于拆卸和运输。运输。运输。

【技术实现步骤摘要】
一种真空物理沉积设备


[0001]本技术涉及真空镀膜设备
，具体涉及一种真空物理沉积设备。

技术介绍

[0002]蒸镀是指将待蒸镀材料放置在坩埚等耐高温容器里，加热使其融化，从而使得待蒸镀材料气化，沉积在路过的薄膜上。
[0003]专利技术人在实现本专利技术的过程中发现，现有的真空物理沉积设备需要使用的辊子较多，不仅价格昂贵，而且也很难拆卸和运输。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术实施例的目的在于提供一种真空物理沉积设备，以解决现有技术中空间利用率低的技术问题。
[0005]为达上述目的，本技术实施例提供了一种真空物理沉积设备，所述真空物理沉积设备包括真空腔室，以及设置在所述真空腔室内的、且在第一方向依次间隔设置的收放系统、金属源系统和转向系统，其中，
[0006]所述收放系统和所述金属源系统竖直的设置在所述真空腔体的底部，所述转向系统设置在所述真空腔体壁上，所述收放系统、所述金属源系统和所述转向系统设置在同一水平面上。
[0007]在一些可能的实施例中，所述收放系统包括：竖直地设置于所述真空腔室内的第一柱体，以及从下至上依次设置在所述第一柱体第一放卷部和第一收卷部；
[0008]所述金属源系统包括：竖直地设置于所述真空腔室内的第二柱体，以及从下至上依次设置在所述第二柱体第一金属源和第二金属源；
[0009]所述转向系统包括：第一转向辊和第二转向辊，分别与所述真空腔室的侧壁转动连接，所述第一转向辊位于所述第一金属源和所述第二金属源之间，所述第二转向辊在竖直方向上的安装高度高于所述第二金属源转向辊，且所述金属源系统位于所述转向系统与所述收放系统之间。
[0010]在一些可能的实施例中，所述真空物理沉积设备还包括冷却机构，所述冷却机构包括：
[0011]第一冷却辊，设置于所述真空腔室内并位于所述收放系统和所述金属源系统之间，且与所述真空腔室的内壁转动连接，所述第一冷却辊在竖直方向上的安装高度低于所述第一转向辊；
[0012]所述第一冷却辊和所述第一转向辊在竖直方向上的安装高度均高于所述第一放卷部。
[0013]在一些可能的实施例中，所述真空物理沉积设备还包括挤压机构，所述挤压机构包括：
[0014]第一挤压辊，设置于所述真空腔室内并与所述真空腔室的内壁转动连接；所述第
一挤压辊的表面为柔软的材料，并与所述第一转向辊滚动接触。
[0015]在一些可能的实施例中，所述冷却机构还包括：
[0016]第二冷却辊，设置于所述真空腔室内并位于所述收放系统和所述金属源系统之间，且与所述真空腔室的内壁转动连接，所述第二冷却辊在竖直方向上的安装高度与所述第二转向辊相等；
[0017]所述第二冷却辊和所述第二转向辊在竖直方向上的安装高度均高于所述第一收卷部；所述第二冷却辊在竖直方向上的安装高度高于所述第二转向辊并低于所述第一收卷部且所述第二冷却辊的底部切面与所述第二转向辊的顶部切面在同一个水平面上。
[0018]在一些可能的实施例中，所述挤压机构还包括：
[0019]第二挤压辊，设置于所述真空腔室内并与所述真空腔室的内壁转动连接；所述第二挤压辊的表面为柔软的材料，并与所述第二转向辊滚动接触。
[0020]在一些可能的实施例中，所述收放系统还包括：第二放卷部和第二收卷部，位于所述第一收卷部的上方，且从下至上依次设置在所述第一柱体上；
[0021]所述金属源系统还包括：第三金属源和第四金属源，位于所述第二金属源的上方，且从下至上依次设置在所述第二柱体上；
[0022]所述转向系统还包括：第三转向辊和第四转向辊，分别与所述真空腔室的侧壁转动连接，所述第三转向辊位于所述第三金属源和所述第四金属源之间，所述第四转向辊在竖直方向上的安装高度高于所述第四金属源转向辊。
[0023]在一些可能的实施例中，所述第二放卷部的顶部切面与所述第三转向辊的底部切面在同一个水平面上，所述第二收卷部与所述第四转向辊在竖直方向上的安装高度相等。
[0024]上述技术方案的有益技术效果为：
[0025]本技术实施例提供的一种真空物理沉积设备，包括真空腔室，以及设置在真空腔室内的、且在第一方向依次间隔设置的收放系统、金属源系统和转向系统，其中，收放系统和金属源系统竖直的设置在真空腔体的底部，转向系统设置在真空腔体壁上，收放系统、金属源系统和转向系统设置在同一水平面上。通过本技术实施例提供的设备，能够通过有限数量的辊子可同时处理多卷薄膜，不仅成本较低，同时还便于拆卸和运输。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0027]图1是本技术实施例提供的一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备的主视图；
[0028]图2是本技术实施例提供的另一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备的主视图；
[0029]图3是本技术实施例提供的另一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备的主视图；
[0030]图4是本技术实施例提供的另一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备的主视图；
[0031]图5是本技术实施例提供的另一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备的主视图；
[0032]图6是本技术实施例提供的另一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备的主视图；
[0033]图7是本技术实施例提供的另一种高空间利用率的薄膜蒸镀设备的主视图；
[0034]图8是本技术实施例提供的一种物理沉积方法流程图。
[0035]图9是本技术实施例提供的另一种物理沉积方法流程图。
[0036]附图标号说明：
[0037]11、第一柱体；12、第一放卷部；13、第一收卷部；14、第二放卷部；15、第二收卷部；
[0038]21、第二柱体；22、第一金属源；23、第二金属源；24、第三金属源；25、第四金属源；
[0039]31、第一转向辊；32、第二转向辊；33、第三转向辊；34、第四转向辊；
[0040]41、第一冷却辊；42、第二冷却辊；
[0041]51、第一挤压辊；52、第二挤压辊。
具体实施方式
[0042]下面将详细描述本技术的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本技术的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本技术可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本技术的示例来提供对本技术的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少机构分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本技术造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了机构分结构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空物理沉积设备，其特征在于，所述真空物理沉积设备包括真空腔室，以及设置在所述真空腔室内的、且在第一方向依次间隔设置的收放系统、金属源系统和转向系统，其中，所述收放系统和所述金属源系统竖直的设置在所述真空腔室的底部，所述转向系统设置在所述真空腔室的侧壁上，所述收放系统、所述金属源系统和所述转向系统设置在同一水平面上；所述收放系统包括：竖直地设置于所述真空腔室内的第一柱体(11)，以及从下至上依次设置在所述第一柱体(11)第一放卷部(12)和第一收卷部(13)；所述金属源系统包括：竖直地设置于所述真空腔室内的第二柱体(21)，以及从下至上依次设置在所述第二柱体(21)第一金属源(22)和第二金属源(23)；所述转向系统包括：第一转向辊(31)和第二转向辊(32)，分别与所述真空腔室的侧壁转动连接，所述第一转向辊(31)位于所述第一金属源(22)和所述第二金属源(23)之间，所述第二转向辊(32)在竖直方向上的安装高度高于所述第二金属源(23)，且所述金属源系统位于所述转向系统与所述收放系统之间。2.根据权利要求1所述的一种真空物理沉积设备，其特征在于，所述真空物理沉积设备还包括冷却机构，所述冷却机构包括：第一冷却辊(41)，设置于所述真空腔室内并位于所述收放系统和所述金属源系统之间，且与所述真空腔室的内壁转动连接，所述第一冷却辊(41)在竖直方向上的安装高度低于所述第一转向辊(31)；所述第一冷却辊(41)和所述第一转向辊(31)在竖直方向上的安装高度均高于所述第一放卷部(12)。3.根据权利要求2所述的一种真空物理沉积设备，其特征在于，所述真空物理沉积设备还包括挤压机构，所述挤压机构包括：第一挤压辊(51)，设置于所述真空腔室内并与所述真空腔室的内壁转动连接；所述第一挤压辊(51)的表面为柔软的材料，并与所述第一转向辊(31)滚动接触。4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾孟，
申请(专利权)人：昆山鑫美源电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：