一种光催化氧化法降解印染废水的装置制造方法及图纸

技术编号:36659363 阅读:21 留言:0更新日期:2023-02-18 13:30
本实用新型专利技术涉及废水处理技术领域,公开一种光催化氧化法降解印染废水的装置,包括:反应组件,反应组件包括反应箱、存储箱、紫外发光元件以及雾化器,反应箱内部用于容纳印染废水,存储箱和紫外发光元件均设置于反应箱内部,且紫外发光元件位于印染废水的液面上方,存储箱位于紫外发光元件上方,存储箱内部用于容纳液态光催化剂,雾化器设置于存储箱内部,雾化器用于将液态光催化剂雾化成光催化剂雾滴,存储箱内部与反应箱内部相连通,以使光催化剂雾滴能够进入反应箱内部。利用该光催化氧化法降解印染废水的装置处理印染废水,能够提高光催化处理印染废水的效率。高光催化处理印染废水的效率。高光催化处理印染废水的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种光催化氧化法降解印染废水的装置


[0001]本技术涉及废水处理
,特别是涉及一种光催化氧化法降解印染废水的装置。

技术介绍

[0002]印染废水的综合治理问题成为当今世界环境科学界亟需解决的一大难题。印染行业是我国工业废水排放大户,印染工业的发展令印染废水成为环境污染的一个严重诱因,据不完全统计,我国印染废水每天的排放量为3106

4106m3。据有关资料报道,每年大约有1.6亿m3的燃料废水排入各类水环境。印染废水含有大量的有机污染物和无机污染物,有效处理印染废水是环境保护的客观要求。
[0003]当前常规的印染废水处理方式主要为物化法(絮凝沉淀、吸附、离子交换、超滤、渗析等)和生化法(活性污泥法、生物膜法)两大类,但常规处理方式处理效率低,成本偏高,二次污染严重,且污染物去除率低。目前高级氧化技术在印染废水处理中的应用层出不穷,光催化氧化法、臭氧氧化法、电化学法、湿式氧化法等在印染废水的深度处理中颇具前景。其中,光催化氧化法的原理是基于光催化剂在紫外线照射下具有的氧化还原能力而净化污染物,同其它常规水处理方式相比,光催化氧化技术设备构造更简单,操作更便捷,反应条件更宽泛,适用范围更大,能耗更低,氧化性能更强,且更为环保等优点。但目前采用光催化氧化技术处理有机废水时,光催化剂置于废水中,紫外光源位于废水液面上方,由于印染废水往往是高色度、高浓度的水体,透光性能差,导致紫外光难以照射到光催化剂上,进而导致废水处理效率低。
[0004]因此,如何提高光催化氧化处理废水的效率,成为本领域技术人员目前所亟待解决的问题。

技术实现思路

[0005]为解决以上技术问题,本技术提供一种光催化氧化处理废水效率高的光催化氧化法降解印染废水的装置。
[0006]为实现上述目的,本技术提供了如下方案:
[0007]本技术提供一种一种光催化氧化法降解印染废水的装置,包括:反应组件,所述反应组件包括反应箱、存储箱、紫外发光元件以及雾化器,所述反应箱内部用于容纳印染废水,所述存储箱和所述紫外发光元件均设置于所述反应箱内部,且所述紫外发光元件位于所述印染废水的液面上方,所述存储箱位于所述紫外发光元件上方,所述存储箱内部用于容纳液态光催化剂,所述雾化器设置于所述存储箱内部,所述雾化器用于将所述液态光催化剂雾化成光催化剂雾滴,所述存储箱内部与所述反应箱内部相连通,以使所述光催化剂雾滴能够进入所述反应箱内部。
[0008]优选地,光催化氧化法降解印染废水的装置还包括液体驱动装置,所述反应组件的数量为多个,全部所述反应组件的反应箱依次串联连通,所述液体驱动装置用于驱动所
述印染废水依次流过各个所述反应箱。
[0009]优选地,光催化氧化法降解印染废水的装置还包括气体驱动装置和气体输送管,所述气体驱动装置与所述气体输送管的一端相连通,所述气体输送管的另一端置于所述印染废水的液面以下,所述气体驱动装置用于向所述气体输送管内输送气体。
[0010]优选地,所述紫外发光元件为低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、汞齐灯、卤素灯、氙灯、黑灯、真空紫外灯中的一种或者多种。
[0011]优选地,所述液态光催化剂为过氧化氢液体、过硫酸盐液体、次氯酸盐液体以及高锰酸钾液体中的任意一种。
[0012]优选地,所述雾化器为超声雾化器。
[0013]优选地,所述存储箱顶端敞口设置,以与所述反应箱内部相连通。
[0014]优选地,所述反应箱为不锈钢反应箱、混凝土反应箱或者聚氯乙烯反应箱,所述反应箱的形状为圆柱体形或者长方体形。
[0015]优选地,所述反应组件还包括第一支撑架和第二支撑架,所述第一支撑架和所述第二支撑架均设置于所述反应箱的内部,第一支撑架和第二支撑架均与所述反应箱的内壁固定连接,且所述第一支撑架与所述印染废水液面之间的距离小于所述第二支撑架与所述印染废水液面之间的距离,所述紫外发光元件支撑于所述第一支撑架上,所述存储箱支撑于所述第二支撑架上。
[0016]本技术相对于现有技术取得了以下技术效果:
[0017]本技术提供的光催化氧化法降解印染废水的装置,包括:反应组件,反应组件包括反应箱、存储箱、紫外发光元件以及雾化器,反应箱内部用于容纳印染废水,存储箱和紫外发光元件均设置于反应箱内部,且紫外发光元件位于印染废水的液面上方,存储箱位于紫外发光元件上方,存储箱内部用于容纳液态光催化剂,雾化器设置于存储箱内部,雾化器用于将液态光催化剂雾化成光催化剂雾滴,存储箱内部与反应箱内部相连通,以使光催化剂雾滴能够进入反应箱内部。
[0018]具体使用过程中,光催化剂雾滴经过紫外发光元件的辐照后,产生具有强氧化性的活性自由基,携带有强氧化性活性自由基的光催化剂雾滴在重力作用下自由沉降至反应箱中印染废水液面时,光催化剂液滴在印染废水液面发生降解反应,对印染废水中的污染物进行处理。
[0019]与光催化剂置于印染废水中利用设置于印染废水液面上方的紫外光源照射光催化剂来降解污染物相比,本技术提供的光催化氧化法降解印染废水的装置降解反应主要反生在印染废水的液面,印染废水的液面透光性好,如此,废水处理效率大大提高。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本技术实施例中提供的光催化氧化法降解印染废水的装置的结构示意图。
[0022]附图标记说明:100、光催化氧化法降解印染废水的装置;1、反应箱;2、存储箱;3、紫外发光元件;4、雾化器;5、印染废水;6、液态光催化剂;7、光催化剂雾滴;8、液体驱动装置;9、气体驱动装置;10、气体输送管。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0024]本技术的目的是提供一种光催化氧化处理废水效率高的光催化氧化法降解印染废水的装置。
[0025]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。
[0026]如图1所示,本实施例提供一种光催化氧化法降解印染废水的装置100,包括:反应组件,反应组件包括反应箱1、存储箱2、紫外发光元件3以及雾化器4,反应箱1内部用于容纳印染废水5,存储箱2和紫外发光元件3均设置于反应箱1内部,且紫外发光元件3位于印染废水5的液面上方,存储箱2 位于紫外发光元件3上方,存储箱2内部用于容纳液态光催化剂本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光催化氧化法降解印染废水的装置,其特征在于,包括:反应组件,所述反应组件包括反应箱、存储箱、紫外发光元件以及雾化器,所述反应箱内部用于容纳印染废水,所述存储箱和所述紫外发光元件均设置于所述反应箱内部,且所述紫外发光元件位于所述印染废水的液面上方,所述存储箱位于所述紫外发光元件上方,所述存储箱内部用于容纳液态光催化剂,所述雾化器设置于所述存储箱内部,所述雾化器用于将所述液态光催化剂雾化成光催化剂雾滴,所述存储箱内部与所述反应箱内部相连通,以使所述光催化剂雾滴能够进入所述反应箱内部。2.根据权利要求1所述的光催化氧化法降解印染废水的装置,其特征在于,还包括液体驱动装置,所述反应组件的数量为多个,全部所述反应组件的反应箱依次串联连通,所述液体驱动装置用于驱动所述印染废水依次流过各个所述反应箱。3.根据权利要求1所述的光催化氧化法降解印染废水的装置,其特征在于,还包括气体驱动装置和气体输送管,所述气体驱动装置与所述气体输送管的一端相连通,所述气体输送管的另一端置于所述印染废水的液面以下,所述气体驱动装置用于向所述气体输送管内输送气体。4.根据权利要求1所述的光催化氧化法降解印染废水的装置,其特征在于,所述紫外...

【专利技术属性】
技术研发人员:张倓刘华英李英杰田森林
申请(专利权)人:昆明理工大学
类型:新型
国别省市:

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