【技术实现步骤摘要】
一种盘面测量工装
[0001]本技术涉及一种工装装置,更具体的说涉及一种盘面测量工装。
技术介绍
[0002]单晶硅片在研磨的过程中,会造成研磨盘的盘面局部凸凹不平的现象,而研磨盘盘面局部凸凹不平会导致单晶硅片在研磨过程中成品率下降或碎片等情况。但是,目前并没有用于检测盘面的测量工具;因此,亟需一种检测工具来衡量盘面的好坏,以便于及时的修整研磨盘的表面。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于针对现有技术中存在的上述问题,提供一种盘面测量工装。
[0004]为实现上述目的,本技术的技术解决方案是:一种盘面测量工装,包括测量架,所述的测量架包括背板和平板,所述的背板底部和平板一侧连接,所述的平板一端嵌有两颗可调解的螺钉、平板另一端嵌有一颗可调解的螺钉,且该三颗可调解的螺钉不在一条直线上,所述的平板上安装有百分表,所述百分表的测量杆穿过平板2。
[0005]所述的测量架由角铁制作而成,背板和平板的厚度均为12cm左右。
[0006]所述的百分表为五个,均匀的布置在平板上。
[0007]与现有技术相比较,本技术的有益效果是:
[0008]本技术实现了对研磨盘盘面的检测,以便于及时的修整研磨盘的表面,从而保证了单晶硅片在研磨过程中成品率保持在较高水平。
附图说明
[0009]图1是本技术结构示意图。
[0010]图中:背板1,平板2,螺钉3,百分表4。
具体实施方式
[0011]以下结合附图说明和具体实施方式对本技术作进一步的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种盘面测量工装,其特征在于:包括测量架,所述的测量架包括背板(1)和平板(2),所述的背板(1)底部和平板(2)一侧连接,所述的平板(2)一端嵌有两颗可调解的螺钉(3)、平板(2)另一端嵌有一颗可调解的螺钉(3),且该三颗可调解的螺钉(3)不在一条直线上,所述的平板(2)上安装有百分表(...
【专利技术属性】
技术研发人员:王海军,薛佳伟,薛佳勇,
申请(专利权)人:天津众晶半导体材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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