立方体绘制检测方法及装置、计算机设备和可读存储介质制造方法及图纸

本申请提供一种立方体绘制检测方法及装置、计算机设备和可读存储介质，涉及图形异常检测技术领域。本申请通过对待检测立方体绘制轨迹进行轨迹预处理，得到多条边绘制轨迹，而后对每条边绘制轨迹进行直线段拟合，接着将拟合出的边拟合线段的线段总数目与预设的有效立方体边绘制数目进行比对，以在两者并不相同的情况下提示待检测立方体绘制轨迹异常，或者在两者相同的情况下将拟合得到的多条边拟合线段与预设的有效立方体边分布特征进行特征匹配，并根据特征匹配结果提示待检测立方体绘制轨迹异常或正常，从而在提升立方体绘制检测精准度的同时，有效避免收集大量训练数据进行检测模型训练，降低立方体绘制检测成本。降低立方体绘制检测成本。降低立方体绘制检测成本。

【技术实现步骤摘要】
立方体绘制检测方法及装置、计算机设备和可读存储介质


[0001]本申请涉及图形异常检测
，具体而言，涉及一种立方体绘制检测方法及装置、计算机设备和可读存储介质。

技术介绍

[0002]随着科学技术的不断发展，图形异常检测技术的应用越发广泛，其中认知障碍评估测试的重要组成部分——立方体绘制评估测试便是当今图形异常检测技术的一种重要应用方向。在立方体绘制评估测试实现过程中，可利用图形异常检测技术检测书写者绘制出的对边是否相对平行、对边的相对长度是否保持一致、绘制边数目是否为12条或9条(少了三条透视边)，并在前者三项检测任务中至少一项任务检测结果为否时，判定对应书写者的立方体绘制图形存在异常，并认定该书写者认知存在障碍。
[0003]目前，现有立方体绘制检测方案是通过收集大量正常立方体绘制图像和大量异常立方体绘制图像进行分类器模型训练，以通过训练出的分类器模型来检测书写者绘制出的立方体图像是否存在异常。值得注意的是，这种立方体绘制检测方案存在训练数据收集难度大，且异常立方体绘制图像无法穷举，影响分类器模型的检测精准度的问题，往往在耗时耗力的同时无法达到期望的立方体绘制检测精准度。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请的目的在于提供一种立方体绘制检测方法及装置、计算机设备和可读存储介质，能够在有效避免收集大量训练数据进行检测模型训练，并降低立方体绘制检测成本的同时，提升立方体绘制检测精准度。
[0005]为了实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案如下：
[0006]第一方面，本申请提供一种立方体绘制检测方法，所述方法包括：
[0007]获取待检测立方体绘制轨迹，并对所述待检测立方体绘制轨迹进行轨迹预处理，得到多条边绘制轨迹；
[0008]针对每条边绘制轨迹，对该边绘制轨迹进行直线段拟合，得到与该边绘制轨迹对应的边拟合线段；
[0009]在拟合出的所述边拟合线段的线段总数目与预设的有效立方体边绘制数目并不一致的情况下，提示所述待检测立方体绘制轨迹异常；
[0010]在所述边拟合线段的线段总数目与所述有效立方体边绘制数目保持一致的情况下，将拟合得到的多条所述边拟合线段与预设的有效立方体边分布特征进行特征匹配，并根据特征匹配结果提示所述待检测立方体绘制轨迹异常或正常。
[0011]在可选的实施方式中，所述待检测立方体绘制轨迹包括多条立方体书画轨迹，所述对所述待检测立方体绘制轨迹进行轨迹预处理，得到多条边绘制轨迹的步骤，包括：
[0012]针对每条立方体书画轨迹，对该条立方体书画轨迹进行直线段拟合，得到与该条立方体书画轨迹对应的初始拟合线段；
[0013]针对每条立方体书画轨迹，计算该条立方体书画轨迹与对应的初始拟合线段之间的轨迹拟合损失，并在所述轨迹拟合损失大于第一预设损失值时，将该条立方体书画轨迹拆分为轨迹延伸趋势互不相同的多条立方体书画轨迹；
[0014]对拆分出的每条立方体书画轨迹进行直线段拟合，得到拆分出的每条立方体书画轨迹的初始拟合线段；
[0015]针对当前得到的每条立方体书画轨迹，计算该条立方体书画轨迹与其他立方体书画轨迹各自对应的初始拟合线段之间的互拟合损失；
[0016]在任意两条立方体书画轨迹相互之间各自对应的互拟合损失均小于或等于第二预设损失值的情况下，将所述任意两条立方体书画轨迹合并为一条立方体书画轨迹；
[0017]将完成书画轨迹合并操作后剩余的所有立方体书画轨迹分别作为一条边绘制轨迹。
[0018]在可选的实施方式中，所述将该条立方体书画轨迹拆分为轨迹延伸趋势互不相同的多条立方体书画轨迹的步骤，包括：
[0019]以该条立方体书画轨迹的轨迹起点为起始点，按照预设点数间隔地选取该条立方体书画轨迹上的预设拟合点数目个离散轨迹点构建得到多个轨迹点集，其中所述预设拟合点数目大于所述预设点数间隔，相邻轨迹点集存在部分离散轨迹点相互重合；
[0020]对所有轨迹点集分别进行直线段拟合，得到每个轨迹点集所对应的轨迹拟合线段；
[0021]针对每条轨迹拟合线段，检测该条轨迹拟合线段与相邻下一条轨迹拟合线段之间的斜率角度差值是否超过预设角度差阈值，并在检测到所述斜率角度差值超过所述预设角度差阈值时，将该条轨迹拟合线段所对应的轨迹点集内的末尾离散轨迹点作为一个轨迹拐点；
[0022]针对每个轨迹拐点，计算该轨迹拐点与相邻下一个轨迹拐点之间的轨迹点数目，并在计算出的所述轨迹点数目大于所述预设点数间隔时，以该轨迹拐点为拆分位置对该条立方体书画轨迹进行轨迹拆分处理。
[0023]在可选的实施方式中，所述将拟合得到的多条所述边拟合线段与预设的有效立方体边分布特征进行特征匹配，并根据特征匹配结果提示所述待检测立方体绘制轨迹异常或正常的步骤，包括：
[0024]基于拟合得到的多条所述边拟合线段构建形成剔除竖直边拟合线段的第一子图以及剔除水平边拟合线段的第二子图；
[0025]检测所述第一子图和所述第二子图各自的与边拟合线段对应的实际子图边数目是否均与预设的有效立方体子图边数目保持一致；
[0026]在检测到所述第一子图和/或所述第二子图所对应的实际子图边数目与所述有效立方体子图边数目并不一致的情况下，提示所述待检测立方体绘制轨迹异常。
[0027]在可选的实施方式中，所述将拟合得到的多条所述边拟合线段与预设的有效立方体边分布特征进行特征匹配，并根据特征匹配结果提示所述待检测立方体绘制轨迹异常或正常的步骤，还包括：
[0028]在检测到所述第一子图和所述第二子图各自对应的实际子图边数目均与所述有效立方体子图边数目保持一致的情况下，确定所述第一子图与所述第二子图各自包括的多
条所述边拟合线段之间的邻接关系；
[0029]分别针对所述第一子图与所述第二子图，根据对应邻接关系确定对应子图内的实际非闭环边数目以及多边闭环的实际闭环数目、实际闭环形状；
[0030]检测所述第一子图和所述第二子图各自的实际闭环数目是否均与预设的有效立方体子图闭环数目保持一致；
[0031]在检测到所述第一子图和/或所述第二子图所对应的实际闭环数目与所述有效立方体子图闭环数目并不一致的情况下，提示所述待检测立方体绘制轨迹异常。
[0032]在可选的实施方式中，所述将拟合得到的多条所述边拟合线段与预设的有效立方体边分布特征进行特征匹配，并根据特征匹配结果提示所述待检测立方体绘制轨迹异常或正常的步骤，还包括：
[0033]在检测到所述第一子图和所述第二子图各自对应的实际闭环数目均与所述有效立方体子图闭环数目保持一致的情况下，检测所述第一子图和所述第二子图各自的实际非闭环边数目是否与所述有效立方体子图闭环数目所对应的有效非闭环边数目保持一致；
[0034]在检测到所述第一子图和/或所述第二子图的实际非闭环边数目与所述有效非闭环边数目并不一致的情况下，提示所述待检测立方体绘制轨迹异常。
[0035]在可选的实施方式本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种立方体绘制检测方法，其特征在于，所述方法包括：获取待检测立方体绘制轨迹，并对所述待检测立方体绘制轨迹进行轨迹预处理，得到多条边绘制轨迹；针对每条边绘制轨迹，对该边绘制轨迹进行直线段拟合，得到与该边绘制轨迹对应的边拟合线段；在拟合出的所述边拟合线段的线段总数目与预设的有效立方体边绘制数目并不一致的情况下，提示所述待检测立方体绘制轨迹异常；在所述边拟合线段的线段总数目与所述有效立方体边绘制数目保持一致的情况下，将拟合得到的多条所述边拟合线段与预设的有效立方体边分布特征进行特征匹配，并根据特征匹配结果提示所述待检测立方体绘制轨迹异常或正常。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述待检测立方体绘制轨迹包括多条立方体书画轨迹，所述对所述待检测立方体绘制轨迹进行轨迹预处理，得到多条边绘制轨迹的步骤，包括：针对每条立方体书画轨迹，对该条立方体书画轨迹进行直线段拟合，得到与该条立方体书画轨迹对应的初始拟合线段；针对每条立方体书画轨迹，计算该条立方体书画轨迹与对应的初始拟合线段之间的轨迹拟合损失，并在所述轨迹拟合损失大于第一预设损失值时，将该条立方体书画轨迹拆分为轨迹延伸趋势互不相同的多条立方体书画轨迹；对拆分出的每条立方体书画轨迹进行直线段拟合，得到拆分出的每条立方体书画轨迹的初始拟合线段；针对当前得到的每条立方体书画轨迹，计算该条立方体书画轨迹与其他立方体书画轨迹各自对应的初始拟合线段之间的互拟合损失；在任意两条立方体书画轨迹相互之间各自对应的互拟合损失均小于或等于第二预设损失值的情况下，将所述任意两条立方体书画轨迹合并为一条立方体书画轨迹；将完成书画轨迹合并操作后剩余的所有立方体书画轨迹分别作为一条边绘制轨迹。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述将该条立方体书画轨迹拆分为轨迹延伸趋势互不相同的多条立方体书画轨迹的步骤，包括：以该条立方体书画轨迹的轨迹起点为起始点，按照预设点数间隔地选取该条立方体书画轨迹上的预设拟合点数目个离散轨迹点构建得到多个轨迹点集，其中所述预设拟合点数目大于所述预设点数间隔，相邻轨迹点集存在部分离散轨迹点相互重合；对所有轨迹点集分别进行直线段拟合，得到每个轨迹点集所对应的轨迹拟合线段；针对每条轨迹拟合线段，检测该条轨迹拟合线段与相邻下一条轨迹拟合线段之间的斜率角度差值是否超过预设角度差阈值，并在检测到所述斜率角度差值超过所述预设角度差阈值时，将该条轨迹拟合线段所对应的轨迹点集内的末尾离散轨迹点作为一个轨迹拐点；针对每个轨迹拐点，计算该轨迹拐点与相邻下一个轨迹拐点之间的轨迹点数目，并在计算出的所述轨迹点数目大于所述预设点数间隔时，以该轨迹拐点为拆分位置对该条立方体书画轨迹进行轨迹拆分处理。4.根据权利要求1
‑
3中任意一项所述的方法，其特征在于，所述将拟合得到的多条所述边拟合线段与预设的有效立方体边分布特征进行特征匹配，并根据特征匹配结果提示所述
待检测立方体绘制轨迹异常或正常的步骤，包括：基于拟合得到的多条所述边拟合线段构建形成剔除竖直边拟合线段的第一子图以及剔除水平边拟合线段的第二子图；检测所述第一子图和所述第二子图各自的与边拟合线段对应的实际子图边数目是否均与预设的有效立方体子图边数目保持一致；在检测到所述第一子图和/或所述第二子图所对应的实际子图边数目与所述有效立方体子图边数目并不一致的情况下，提示所述待检测立方体绘制轨迹异常。5.根据权利要求4...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雯圆，
申请(专利权)人：深圳市优必选科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：